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    新型硫醇還原劑及其方法和用途技術(shù)

    技術(shù)編號:44146970 閱讀:8 留言:0更新日期:2025-01-29 10:21
    本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種式(I)的新型硫醇還原劑、其制備方法及其在制備具有硫醇基團(tuán)位點特異性修飾、均一性提高的抗體中的用途。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
    【國外來華專利技術(shù)】

    本專利技術(shù)涉及一種新型硫醇還原劑及其方法和用途。該硫醇還原劑可用于抗體修飾。


    技術(shù)介紹

    1、本節(jié)中的陳述僅提供與本專利技術(shù)相關(guān)的背景信息,并不一定構(gòu)成現(xiàn)有技術(shù)。

    2、抗體藥物偶聯(lián)物(adc)是一種創(chuàng)新型生物制藥產(chǎn)品,其中利用穩(wěn)定的連接子將單克隆抗體與小分子藥物連接。通過將強(qiáng)效的細(xì)胞毒性藥物遞送至表達(dá)抗原的細(xì)胞,adc理想地結(jié)合了抗體的特異性和細(xì)胞毒性藥物的高效力,從而增強(qiáng)其靶向細(xì)胞毒性活性。

    3、一般而言,抗體與細(xì)胞毒性劑的偶聯(lián)通常涉及與暴露殘基(包括賴氨酸)偶聯(lián),或者還原二硫鍵以暴露治療性igg(免疫球蛋白g)抗體上的游離鏈間半胱氨酸。還有其他更新的方法將偶聯(lián)位點引入到mab,諸如位點特異性聚糖偶聯(lián)、半胱氨酸工程改造、摻入非天然氨基酸以及將短肽標(biāo)簽耦合到藥物連接子。抗體上通常存在80個賴氨酸殘基;然而,可以通過化學(xué)方式進(jìn)行偶聯(lián)的殘基不到10個。半胱氨酸偶聯(lián)最終實現(xiàn)四個鏈間二硫鍵的還原。這些鍵在特定條件下被還原,隨后產(chǎn)生兩個、四個、六個或八個暴露的巰基。cys偶聯(lián)方法和lys偶聯(lián)方法兩者都會產(chǎn)生異質(zhì)混合物。(“advances?and?limitations?of?antibody?drugconjugates?for?cancer”(用于癌癥的抗體藥物偶聯(lián)物的進(jìn)展和局限性)《生物醫(yī)藥》(biomedicines)。2021年8月;9(8):872.)。

    4、藥物抗體比(dar)或與單個adc偶聯(lián)的藥物分子的數(shù)目對于確定adc的功效非常重要。dar變化范圍很大而且取決于其他adc變量。dar值還取決于偶聯(lián)位點以及所使用的偶聯(lián)輕鏈或重鏈。dar值會影響藥物的有效性,因為低載藥量會導(dǎo)致效力降低,而高藥物負(fù)載量會影響毒性和藥代動力學(xué)(“introduction?to?antibody-drug?conjugates”(淺談抗體藥物偶聯(lián)物)。《抗體》(antibodies)(巴塞爾).2021年12月;10(4):42.)。常規(guī)非特異性偶聯(lián)和偶聯(lián)物的分布在很大程度上受到諸如ph、濃度、鹽濃度和共溶劑之類的因素的影響,因此建立一個穩(wěn)健的偶聯(lián)過程始終具有挑戰(zhàn)性。

    5、已經(jīng)開發(fā)出許多方法來提高adc的均一性。例如,genentech的thiomab技術(shù)就是基于通過抗體工程提高adc的均一性而開發(fā)的,通過在抗體的一級序列中引入半胱氨酸,實現(xiàn)位點定向的耦合來提高產(chǎn)品的均一性(“cysteine-based?coupling:challenges?andsolutions”(基于半胱氨酸的耦合:挑戰(zhàn)與解決方案)。《生物共軛化學(xué)》(bioconjugchem.)。2021年8月18日;32(8):1525-1534.)。

    6、us20210040145公開了一種14-氨基酸肽tub-tag,用于任何poi的c末端,并催化各種不同酪氨酸衍生物的加成。tub-tag技術(shù)利用這種酶,將微管蛋白-酪氨酸連接酶重新用于連接抗體的c末端的功能部分,從而均質(zhì)地生成dar2型抗體偶聯(lián)物。

    7、wo2018036438公開了一種使用k-lock技術(shù)生成adc的方法,該方法可以使精心設(shè)計的連接子-藥物與igg抗體fab上的四個特異性賴氨酸殘基選擇性地反應(yīng),得到d2(dar值約為2)高達(dá)50%的adc產(chǎn)物。最后,通過進(jìn)一步純化即可得到純d2。

    8、然而,這些技術(shù)涉及蛋白質(zhì)工程和/或酶催化,因此這些技術(shù)存在一些缺點,諸如抗體表達(dá)水平較低、免疫原性風(fēng)險、純化過程復(fù)雜和/或成本較高。

    9、因此,具有改進(jìn)的均一性的抗體藥物偶聯(lián)物可以提供更好的穩(wěn)定性和更低的免疫原性,并且進(jìn)一步帶來治療益處,例如更好的功效和更低的毒性。因此,開發(fā)新型還原劑以及高均一性adc的制備工藝是迫切需求,也是長期目標(biāo)。


    技術(shù)實現(xiàn)思路

    1、為了上述目的,本文提供了具有下式(i)的化合物:

    2、

    3、或其鹽、溶劑化物、立體異構(gòu)體,其特征在于,

    4、x、y和z通過p-c鍵各自獨(dú)立地共價連接磷原子,該p-c鍵為p-c(sp3)或p-c(sp2);

    5、x為式(ii):

    6、

    7、l1選自由以下各項組成的組:-ch(r1)-、-c(ch3)(r1)-、-ch(r1)ch(r2)-、-ch(r1)ch(r2)ch(r3)-、可選地各自獨(dú)立地被含有選自n、o和s的至少一個配位原子的基團(tuán)選擇性取代的芳基、以及可選地各自獨(dú)立地被含有選自o和s的至少一個配位原子的基團(tuán)選擇性取代的雜芳基;

    8、r1、r2和r3各自獨(dú)立地為h、c1-c5烷基、c1-c5羥烷基、c1-c5羧基烷基、c1-c5羥基胺烷基、c1-c5?n-羥基酰胺烷基、芳基或雜芳基;或

    9、r2或r3與l2形成5-6元可選取代的環(huán);

    10、a是可選存在的并且為-c(o)-、或-c(o)j-;

    11、j為同時包含氨基或亞氨基和羰基的有機(jī)基團(tuán),其中該氨基或亞氨基與-c(o)形成酰胺基團(tuán),羧基可選地與l2共價連接;

    12、l2是可選存在的,l2作為過渡金屬螯合劑基序并且為-n(r4)(r5)或羥基;

    13、r4和r5各自獨(dú)立地為氫、c0-c5羥烷基、c1-c5烷基、c1-c5烷氧基、-(ch2)n1(och2ch2o)n2ch(r6)co(r7)、可選地取代的5-6元飽和雜環(huán)基、可選地取代的芳烷基、可選地取代的芳基烷氧基、可選地取代的芳基、可選地取代的雜芳基、可選地取代的雜芳烷基,或r4和r5形成5-6元可選地取代的環(huán),r4或r5與r2或r3形成5-6元可選地取代的環(huán);

    14、r6為氫、氨基、c1-c5烷基、c1-c5羥烷基、c1-c5羧基烷基、芳基、可選地取代的芳烷基、c1-c5?n-羥基酰胺烷基、雜芳基或雜芳烷基;

    15、r7為羥基、c1-c5烷氧基、-nh(ch2conh)n3oh;

    16、n1、n2和n3各自獨(dú)立地為數(shù)字0、1、2、3、4;

    17、r4和r5不同時為羥基;

    18、y與x相同,

    19、z與x相同,或

    20、y和z各自獨(dú)立地為5-6元可選地取代的飽和雜環(huán)基、c1-c5烷基、c1-c5羥烷基、芳基、c1-c5羧基烷基、5-6元可選地取代的環(huán)烷基,或

    21、-c(o)q為酯基團(tuán)、酰亞胺基團(tuán)或酰胺基團(tuán),

    22、x、y和z不同時為-ch2ch2c(o)oh。

    23、一方面,本文提供了包含上述化合物以及過渡金屬離子的組合物。

    24、一方面,本文提供了上述化合物的制備方法。

    25、一方面,本文提供了上述化合物或上述組合物在抗體修飾中的用途。

    26、在一些實施例中,該抗體是通過選擇性地還原抗體內(nèi)的鏈間s-s鍵進(jìn)行修飾的,可選地,該抗體是通過選擇性還原鏈間s-s鍵中的一個鏈間s-s鍵進(jìn)行修飾的。

    27、在一些實施例中,本文提供了上述化合物或上述組合物在制備具有本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點】

    1.一種具有下式(I)的化合物:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物,其特征在于,

    3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的化合物,其特征在于,

    6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的化合物,其特征在于,

    9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的化合物,其特征在于,

    14.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的化合物,其特征在于,

    16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物,其特征在于,

    17.根據(jù)權(quán)利要求1或16所述的化合物,其特征在于,

    18.根據(jù)權(quán)利要求1或17所述的化合物,其特征在于,

    19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的化合物,其特征在于,

    20.根據(jù)權(quán)利要求1或16所述的化合物,其特征在于,

    21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的化合物,其特征在于,

    22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的化合物,其特征在于,

    23.根據(jù)權(quán)利要求1或16所述的化合物,其特征在于,

    24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的化合物,其特征在于,

    25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的化合物,其特征在于,

    26.根據(jù)權(quán)利要求23所述的化合物,其特征在于,

    27.根據(jù)權(quán)利要求23所述的化合物,其特征在于,

    28.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物,其特征在于,

    29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的化合物,其特征在于,

    30.根據(jù)權(quán)利要求28或29所述的化合物,其特征在于,

    31.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物,其特征在于,

    32.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物,其特征在于,所述化合物選自由以下各項組成的組:

    33.一種組合物,其包含根據(jù)權(quán)利要求1至32中任一項所述的化合物以及過渡金屬離子。

    34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的組合物,其特征在于,所述過渡金屬離子為Zn2+、Cd2+、Hg2+、Ni2+、Co2+或其組合,可選地,所述過渡金屬離子為Zn2+。

    35.根據(jù)權(quán)利要求33或34所述的組合物,其特征在于,根據(jù)權(quán)利要求1至32中任一項所述的化合物與所述過渡金屬離子的摩爾比為1:0.4至1:250,可選地,根據(jù)權(quán)利要求1至32中任一項所述的化合物與所述過渡金屬離子的摩爾比為1:0.4至1:200。

    36.根據(jù)權(quán)利要求33或34所述的組合物,其特征在于,根據(jù)權(quán)利要求1至32中任一項所述的化合物與所述過渡金屬離子的摩爾比為1:0.4至1:60或1:6至1:16。

    37.一種根據(jù)權(quán)利要求1至32中任一項所述化合物的制備方法,其特征在于,在惰性氣氛下,通過引入縮合試劑,將下式III中的至少一個羧基連接到過渡金屬螯合劑部分的雜原子上,

    38.根據(jù)權(quán)利要求37所述的方法,其特征在于,所述過渡金屬螯合劑部分可以由2-苯氧基-乙胺、苯胺、芐胺、4-氨基苯-1,2-二醇、5-氨基-2-羥基苯甲酸、雙(吡啶-2-基甲基)胺、5-氨基-8-羥基喹啉、雙(吡啶-2-基)甲胺、4-氨基鄰苯二甲酸、L-酪氨酸叔丁酯、DL-3-(4-氟苯基)丙氨酸、DL-4-氰基苯丙氨酸、DL-4-硝基苯丙氨酸、N-芐羥胺鹽酸鹽、N-苯基羥胺、

    39.根據(jù)權(quán)利要求37或38所述的方法,其特征在于,式III的結(jié)構(gòu)為

    40.根據(jù)權(quán)利要求1至32中任一項所述的化合物或根據(jù)權(quán)利要求33至36中任一項所述的組合物在抗體修飾中的用途。

    41.根據(jù)權(quán)利要求40所述的用途,其特征在于,所述抗體是通過選擇性地還原鏈間S-S鍵進(jìn)行修飾的,可選地,所述抗體是通過選擇性還原鏈間S-S鍵中的一個鏈間S-S鍵進(jìn)行修飾的。

    42.根據(jù)權(quán)利要求40或41所述的用途,其特征在于,在具有硫醇基團(tuán)位點特異性修飾的抗體制備中,可選地,具有硫醇基團(tuán)位點特異性修飾的所述抗體為抗體藥物偶聯(lián)物(ADC),更可選地,所述ADC為D2型ADC、D1型ADC、D2+D6型ADC、D2+D3型ADC、D1+D6型ADC、D1+D3型ADC、D0+D6型...

    【技術(shù)特征摘要】
    【國外來華專利技術(shù)】

    1.一種具有下式(i)的化合物:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物,其特征在于,

    3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的化合物,其特征在于,

    6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的化合物,其特征在于,

    9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的化合物,其特征在于,

    14.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的化合物,其特征在于,

    15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的化合物,其特征在于,

    16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物,其特征在于,

    17.根據(jù)權(quán)利要求1或16所述的化合物,其特征在于,

    18.根據(jù)權(quán)利要求1或17所述的化合物,其特征在于,

    19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的化合物,其特征在于,

    20.根據(jù)權(quán)利要求1或16所述的化合物,其特征在于,

    21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的化合物,其特征在于,

    22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的化合物,其特征在于,

    23.根據(jù)權(quán)利要求1或16所述的化合物,其特征在于,

    24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的化合物,其特征在于,

    25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的化合物,其特征在于,

    26.根據(jù)權(quán)利要求23所述的化合物,其特征在于,

    27.根據(jù)權(quán)利要求23所述的化合物,其特征在于,

    28.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物,其特征在于,

    29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的化合物,其特征在于,

    30.根據(jù)權(quán)利要求28或29所述的化合物,其特征在于,

    31.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物,其特征在于,

    32.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物,其特征在于,所述化合物選自由以下各項組成的組:

    33.一種組合物,其包含根據(jù)權(quán)利要求1至32中任一項所述的化合物以及過渡金屬離子。

    34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的組合物,其特征在于,所述過渡金屬離子為zn2+、cd2+、hg2+、ni2+、co2+或其組合,可選地,所述過渡金屬離子為zn2+。

    35.根據(jù)權(quán)利要求33或34所述的組合物,其特征在于,根據(jù)權(quán)利要求1至32中任一項所述的化合物與所述過渡金屬離子的摩爾比為1:0.4至1:250,可選地,根據(jù)權(quán)利要求1至32中任一項所述的化合物與所述過渡金屬離子的摩爾比為1:0.4至1:200。

    36.根據(jù)權(quán)利要求33或34所述的組合物,其特征在于,根據(jù)權(quán)利要求1至32中任一項所述的化合物與所述過渡金屬離子的摩爾比為1:0.4至1:60或1:6至1:16。

    37.一種根據(jù)權(quán)利要求1至32中任一項所述化合物的制備方法,其特征在于,在惰性氣氛下,通過引入縮合試劑,將下式iii中的至少一個羧基連接到過渡金屬螯合劑部分的雜原子上,

    38.根據(jù)權(quán)利要求37所述的方法,其特征在于,所述過渡金屬螯合劑部分可以由2-苯氧基-乙胺、苯胺、芐胺、4-氨基苯-1,2-二醇、5-氨基-2-羥基苯甲酸、雙(吡啶-2-基甲基)胺、5-氨基-8-羥基喹啉、雙(吡啶-2-基)甲胺、4-氨基鄰苯二甲酸、l-酪氨酸叔丁酯、dl-3-(4-氟苯基)丙氨酸、dl-4-氰基苯丙氨酸、dl-4-硝基苯丙氨酸、n-芐羥胺鹽酸鹽、n-苯基羥胺、

    39.根據(jù)權(quán)利要求37或38所述的方法,其特征在于,式iii的結(jié)構(gòu)為

    40.根據(jù)權(quán)利要求1至32中任一項所述的化合物或根據(jù)權(quán)利要求33至36中任一項所述的組合物在抗體修飾中的用途。

    41.根據(jù)權(quán)利要求40所述的用途,其特征在于,所述抗體是通過選擇性地還原鏈間s-s鍵進(jìn)行修飾的,可選地,所述抗體是通過選擇性還原鏈間s-s鍵中的一個鏈間s-s鍵進(jìn)行修飾的。

    42.根據(jù)權(quán)利要求40或41所述的用途,其特征在于,在具有硫醇基團(tuán)位點特異性修飾的抗體制備中,可選地,具有硫醇基團(tuán)位點特異性修飾的所述抗體為抗體藥物偶聯(lián)物(adc),更可選地,所述adc為d2型adc、d1型adc、d2+d6型adc、d2+d3型adc、d1+d6型adc、d1+d3型adc、d0+d6型adc、d0+d3型adc、d0+d4型adc、d2+d4型adc、d1+d4型adc、d2+d2型adc或d1+d2型adc。

    43.一種具有硫醇基團(tuán)位點特異性修飾的抗體的制備方法,其特征在于,從所述抗體內(nèi)的鏈間二硫鍵上還原硫醇基團(tuán),并且所述方法包括使用根據(jù)權(quán)利要求1至32中任一項所述的化合物或其鹽、溶劑化物、立體異構(gòu)體以及過渡金屬離子,或使用根據(jù)權(quán)利要求33至36中任一項所述的組合物。

    44.根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法,其特征在于,所述硫醇基團(tuán)的數(shù)目為1、2、3、4、5、6、7或8。

    45.根據(jù)權(quán)利要求44所述的方法,其特征在于,所述鏈間二硫鍵在鉸鏈區(qū)上層連接兩條重鏈,或者在fab區(qū)中將重鏈連接到輕鏈。

    46.根據(jù)權(quán)利要求44所述的方法,其特征在于,所述鏈間二硫鍵在鉸鏈區(qū)中連接兩條重鏈,并且在fab區(qū)中將重鏈連接到輕鏈。

    47.根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:

    48.根據(jù)權(quán)利要求47所述的方法,其特征在于,所述方法還包括以下步驟:

    49.根據(jù)權(quán)利要求47或48所述的方法,其特征在于,所述第一硫橋試劑和所述第二硫橋試劑各自獨(dú)立地含有允許對所述硫醇基團(tuán)進(jìn)行重新橋接的至少兩個取代基。

    50.根據(jù)權(quán)利要求47或48所述的方法,其特征在于,所述第一硫橋試劑和所述第二硫橋試劑獨(dú)立地選自由以下各項組成的組:

    51.根據(jù)權(quán)利要求47或48所述的方法,其特征在于,所述反應(yīng)性基團(tuán)各自獨(dú)立地含有疊氮基和/或二苯并環(huán)辛炔dbco。

    52.根據(jù)權(quán)利要求47所述的方法,其特征在于,所述第一還原劑與所述過渡金屬離子的摩爾比為1:0.4至1:250,可選地,所述第一還原劑與所述過渡金屬離子的摩爾比為1:0.4至1:60,更可選地,所述第一還原劑與所述過渡金屬離子的摩爾比為1:6至1:16,最可選地,所述第一還原劑...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:吳麗麗吉傲冉亞軍邵雅茹王義成
    申請(專利權(quán))人:蘇州佰睿壹生物技術(shù)有限公司
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