【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本技術(shù)涉及半導(dǎo)體加工設(shè)備，更具體的，本技術(shù)涉及一種用于刻蝕設(shè)備的壓力控制組件及刻蝕設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、刻蝕設(shè)備在半導(dǎo)體制造中發(fā)揮著關(guān)鍵作用，它通過精確去除晶圓上特定區(qū)域的材料來形成微型電路圖案。刻蝕設(shè)備結(jié)構(gòu)包括主機(jī)、壓力控制組件以及磁懸浮分子泵。磁懸浮分子泵負(fù)責(zé)為刻蝕腔提供所需的高真空或超高真空環(huán)境，而壓力控制組件則用于調(diào)節(jié)刻蝕腔的壓力，確保刻蝕操作的順利進(jìn)行。該刻蝕過程的效率以及最終產(chǎn)品的質(zhì)量極大地依賴于刻蝕腔內(nèi)壓力控制的準(zhǔn)確性。
2、在現(xiàn)有技術(shù)中，壓力控制組件通常由轉(zhuǎn)動源、閥門、連接轉(zhuǎn)動源和閥門且包括齒輪組件的傳動機(jī)構(gòu)，以及安裝在電機(jī)輸出軸上的編碼器組成。編碼器的功能是檢測電機(jī)輸出軸的轉(zhuǎn)動角度，從而使控制器能夠根據(jù)轉(zhuǎn)動角度計(jì)算閥門的開度，并據(jù)此控制刻蝕腔內(nèi)的壓力。
3、然而，由于機(jī)械加工的精度限制，齒輪組件中的齒輪之間存在輕微的游隙。在中低真空環(huán)境下，這種游隙對壓力控制的影響相對較小，但在高真空或超高真空環(huán)境中，游隙對壓力控制的影響變得顯著。因此，這種游隙直接導(dǎo)致編碼器的測量結(jié)果無法精確反映閥門的實(shí)際開度，進(jìn)而影響了刻蝕腔內(nèi)壓力的精細(xì)調(diào)節(jié)，降低最終產(chǎn)品的質(zhì)量和一致性。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、為了解決如上所提到的一個或多個技術(shù)問題，本技術(shù)提供了一種用于刻蝕設(shè)備的壓力控制組件及刻蝕設(shè)備，解決了現(xiàn)有技術(shù)中刻蝕設(shè)備由于閥門開度控制的精確性差導(dǎo)致刻蝕的產(chǎn)品的質(zhì)量和一致性差的缺點(diǎn)，提高了刻蝕出的產(chǎn)品的質(zhì)量和一致性。
2、根據(jù)本技術(shù)的第一方面，其提供了一種用
3、閥門，其包括閥體及位于閥體內(nèi)的閥芯；
4、傳動機(jī)構(gòu)，其包括與所述閥芯相連的轉(zhuǎn)軸、與所述轉(zhuǎn)軸相連的從動齒輪、以及與所述從動齒輪嚙合的主動齒輪，
5、轉(zhuǎn)動源，其與所述主動齒輪連接，并通過傳動機(jī)構(gòu)驅(qū)動所述閥芯在所述閥體中轉(zhuǎn)動以控制所述閥門的開度；
6、編碼器，其與所述轉(zhuǎn)軸相連，且用于測量所述閥芯的轉(zhuǎn)動角度。
7、如上所述的壓力控制組件，可選的，所述編碼器包括用于發(fā)射和接收光線的感應(yīng)模塊及可轉(zhuǎn)動地設(shè)在所述感應(yīng)模塊內(nèi)且具有透光通孔的光學(xué)轉(zhuǎn)盤，其中，所述感應(yīng)模塊相對于所述閥體固定設(shè)置，所述光學(xué)轉(zhuǎn)盤固定套設(shè)在所述轉(zhuǎn)軸遠(yuǎn)離所述閥芯的端部上。
8、如上所述的壓力控制組件，可選的，還包括控制器，所述控制器與編碼器和轉(zhuǎn)動源均連接，并依據(jù)所述編碼器的測量結(jié)果控制所述轉(zhuǎn)動源的轉(zhuǎn)動角度。
9、如上所述的壓力控制組件，可選的，所述轉(zhuǎn)動源包括伺服電機(jī)或步進(jìn)電機(jī)。
10、如上所述的壓力控制組件，可選的，所述從動齒輪固定套設(shè)在所述轉(zhuǎn)軸上并位于所述閥體與所述編碼器之間。
11、如上所述的壓力控制組件，可選的，所述主動齒輪為圓柱齒輪，所述從動齒輪為扇形齒輪。
12、如上所述的壓力控制組件，可選的，所述刻蝕設(shè)備為等離子刻蝕設(shè)備或干法刻蝕設(shè)備。
13、如上所述的壓力控制組件，可選的，所述閥門包括蝶閥或球閥。
14、根據(jù)本技術(shù)的第二方面，其提供了一種刻蝕設(shè)備，包括任一項(xiàng)上述的壓力控制組件。
15、如上所述的刻蝕設(shè)備，可選的還包括具有刻蝕腔的主機(jī)及磁懸浮分子泵，所述磁懸浮分子泵的進(jìn)氣口通過所述壓力控制組件的閥門連接所述主機(jī)的刻蝕腔。
16、如上所提供的用于刻蝕設(shè)備的壓力控制組件及刻蝕設(shè)備，壓力控制組件包括閥門，其包括閥體及位于閥體內(nèi)的閥芯，所述閥芯的第一端與所述閥體固定連接；傳動機(jī)構(gòu)，其包括與所述閥芯的第二端相連的轉(zhuǎn)軸、與所述轉(zhuǎn)軸相連的從動齒輪、以及與所述從動齒輪嚙合的主動齒輪，轉(zhuǎn)動源，其與所述主動齒輪連接，并通過傳動機(jī)構(gòu)驅(qū)動所述閥芯在所述閥體中轉(zhuǎn)動以控制所述閥門的開度；編碼器，其與所述轉(zhuǎn)軸相連，且用于測量所述閥芯的轉(zhuǎn)動角度。通過將測量閥芯開度的編碼器固定在轉(zhuǎn)軸上，確保測量的結(jié)果不包含齒輪組件的游隙誤差，測量的閥芯開度是準(zhǔn)確的，提高了壓力控制的精確性，進(jìn)而提高通過刻蝕設(shè)備刻蝕的產(chǎn)品的質(zhì)量和一致性。
17、進(jìn)一步的，實(shí)施例中，采用控制器與編碼器和轉(zhuǎn)動源均連接，并實(shí)時獲取編碼器的測量結(jié)果并實(shí)時調(diào)整轉(zhuǎn)動源的轉(zhuǎn)動角度，及時響應(yīng)對閥門開度的控制需求，進(jìn)而及時滿足刻蝕設(shè)備的刻蝕腔的壓力控制需求。
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1.一種用于刻蝕設(shè)備的壓力控制組件，其特征在于，所述壓力控制組件包括：
2.如權(quán)利要求1所述的壓力控制組件，其特征在于，還包括控制器，所述控制器與所述編碼器和所述轉(zhuǎn)動源均連接，并依據(jù)所述編碼器的測量結(jié)果控制所述轉(zhuǎn)動源的轉(zhuǎn)動角度。
3.如權(quán)利要求1所述的壓力控制組件，其特征在于，所述轉(zhuǎn)動源包括伺服電機(jī)或步進(jìn)電機(jī)。
4.如權(quán)利要求1到3中任一項(xiàng)所述的壓力控制組件，其特征在于，所述從動齒輪固定套設(shè)在所述轉(zhuǎn)軸上并位于所述閥體與所述編碼器之間。
5.如權(quán)利要求1到3中任一項(xiàng)所述的壓力控制組件，其特征在于，所述主動齒輪為圓柱齒輪，所述從動齒輪為扇形齒輪。
6.如權(quán)利要求1到3中任一項(xiàng)所述的壓力控制組件，其特征在于，所述刻蝕設(shè)備包括等離子刻蝕設(shè)備或干法刻蝕設(shè)備。
7.如權(quán)利要求1到3中任一項(xiàng)所述的壓力控制組件，其特征在于，所述閥門包括蝶閥或球閥。
8.一種刻蝕設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1到7中任一項(xiàng)所述的壓力控制組件。
9.如權(quán)利要求8所述的刻蝕設(shè)備，其特征在于，還包括具有刻蝕腔的主機(jī)及磁懸浮
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種用于刻蝕設(shè)備的壓力控制組件，其特征在于，所述壓力控制組件包括：
2.如權(quán)利要求1所述的壓力控制組件，其特征在于，還包括控制器，所述控制器與所述編碼器和所述轉(zhuǎn)動源均連接，并依據(jù)所述編碼器的測量結(jié)果控制所述轉(zhuǎn)動源的轉(zhuǎn)動角度。
3.如權(quán)利要求1所述的壓力控制組件，其特征在于，所述轉(zhuǎn)動源包括伺服電機(jī)或步進(jìn)電機(jī)。
4.如權(quán)利要求1到3中任一項(xiàng)所述的壓力控制組件，其特征在于，所述從動齒輪固定套設(shè)在所述轉(zhuǎn)軸上并位于所述閥體與所述編碼器之間。
5.如權(quán)利要求1到3中任一項(xiàng)所述的壓力控制組件，其...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：孫燕翔，劉強(qiáng)，高鑫，張亮，馬春青，王威，陳林，
申請(專利權(quán))人：北京中科九微科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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