【技術實現步驟摘要】
本技術屬于鍍膜清洗設備，較為具體的，涉及到一種大盤降溫清潔裝置。
技術介紹
1、真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜，真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理氣相沉積(pvd)技術和化學氣相沉積(cvd)技術。
2、影響真空鍍膜效果的一個重要因素是鍍膜與基片之間的結合力，結合力較低的話易導致鍍膜從基片的表面脫落，理論證明，基片表面的凈潔度在真空鍍膜過程中是影響鍍膜與基片結合力強弱的一個重要因素，因此在基片鍍膜前，需要使用清洗設備對其進行清洗，使基片環境保持潔凈。
3、在使用過程中，設備上會經常掛起很多異物，這些異物會附著在設備上影響內部壓力和真空度的穩定性，因此，需要一種清潔裝置將其表面的氧化層、塵土以及減少不相關物質等去除，保持工件周邊環境的潔凈度，避免造成二次污染。
技術實現思路
1、有鑒于此，為了解決上述問題，本技術提出一種大盤降溫清潔裝置，包括一清潔腔體1，通過設置左右兩側對稱的噴氣裝置2，對裝有產品且一起鍍膜結束的設備進行清潔，通過在清潔腔體1后端設置隔板4，所述隔板4上均勻間隔設有多個排氣孔44，利用噴氣裝置2與排氣孔44配合，使得清潔腔體1內的溫度急冷，裝有產品且一起鍍膜結
2、一種大盤降溫清潔裝置，包括一清潔腔體1，所述清潔腔體1內部左右兩側對稱設有噴氣裝置2，用于對裝有產品且一起鍍膜結束的設備進行清潔，所述清潔腔體1內部底面設有承載裝置，用于將裝有產品且一起鍍膜結束的設備與承載裝置進行連接，所述清潔腔體1內部后端設有隔板4，所述隔板4上均勻間隔設有多個排氣孔44，利用噴氣裝置2與排氣孔44配合，使得清潔腔體1內的溫度急冷，裝有產品且一起鍍膜結束的設備上結合力不好的部分剝落出來，并通過排氣孔44排出，減少灰塵量，使得工件周邊環境潔凈。
3、進一步的，所述承載裝置包括底座32和旋轉盤33，所述旋轉盤33設于底座32上，所述底座32一端與隔板4下部連接，另一端位于清潔腔體1開口處。
4、進一步的，大盤9上設有工件架10，工件架10上放置產品，所述大盤9的底部設有轉軸，通過轉軸插入所述底座32，旋轉盤33與轉軸連接，使得清潔時旋轉盤33帶動大盤9進行360°旋轉。
5、進一步的，所述隔板4上與清潔位置等高段密布有排氣孔44，所述排氣孔44均勻間隔分布，用于將清潔時產生的結合力不好的物質排出，所述隔板4中部為向外凸的弧面板，用于對大盤9進行避位。
6、進一步的，所述清潔腔體1下部設有支撐架5，所述支撐架5兩側分別設有導軌6，用于與裝載大盤9的輸送車匹配起導向作用。
7、進一步的，所述清潔腔體1的外側一邊還設有控制裝置7，所述控制裝置7上設有控制按鈕和壓力表，所述控制裝置7與旋轉盤33、噴氣裝置2電性連接。
8、進一步的，所述清潔腔體1的前端開口且開口處鉸接有密封門8，所述密封門8外部設有把手，密封門8透明可視，便于觀察清潔腔體1內清潔狀況。
9、進一步的，所述清潔腔體1的外側一邊還設有驅動電機。
10、本技術的有益效果：本技術提出一種大盤降溫清潔裝置，包括一清潔腔體1，通過設置左右兩側對稱的噴氣裝置2，對裝有產品且一起鍍膜結束的設備進行清潔，通過在清潔腔體1后端設置隔板4，所述隔板4上均勻間隔設有多個排氣孔44，利用噴氣裝置2與排氣孔44配合，使得清潔腔體1內的溫度急冷，裝有產品且一起鍍膜結束的設備上結合力不好的部分剝落出來，并通過排氣孔44排出，減少灰塵量，使得工件周邊環境潔凈。
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1.一種大盤降溫清潔裝置，包括一清潔腔體(1)，其特征在于：所述清潔腔體(1)內部左右兩側對稱設有噴氣裝置(2)，用于對裝有產品且一起鍍膜結束的設備進行清潔，所述清潔腔體(1)內部底面設有承載裝置，用于將裝有產品且一起鍍膜結束的設備與承載裝置進行連接，所述清潔腔體(1)內部后端設有隔板(4)，所述隔板(4)上均勻間隔設有多個排氣孔(44)，利用噴氣裝置(2)與排氣孔(44)配合，使得清潔腔體(1)內的溫度急冷，裝有產品且一起鍍膜結束的設備上結合力不好的部分剝落出來，并通過排氣孔(44)排出。
2.如權利要求1所述的大盤降溫清潔裝置，其特征在于：所述承載裝置包括底座(32)和旋轉盤(33)，所述旋轉盤(33)設于底座(32)上，所述底座(32)一端與隔板(4)下部連接，另一端位于清潔腔體(1)開口處。
3.如權利要求2所述的大盤降溫清潔裝置，其特征在于：大盤(9)上設有工件架(10)，工件架(10)上放置產品，所述大盤(9)的底部設有轉軸，通過轉軸插入所述底座(32)，旋轉盤(33)與轉軸連接，使得清潔時旋轉盤(33)帶動大盤(9)進行360°旋轉。
...【技術特征摘要】
1.一種大盤降溫清潔裝置，包括一清潔腔體(1)，其特征在于：所述清潔腔體(1)內部左右兩側對稱設有噴氣裝置(2)，用于對裝有產品且一起鍍膜結束的設備進行清潔，所述清潔腔體(1)內部底面設有承載裝置，用于將裝有產品且一起鍍膜結束的設備與承載裝置進行連接，所述清潔腔體(1)內部后端設有隔板(4)，所述隔板(4)上均勻間隔設有多個排氣孔(44)，利用噴氣裝置(2)與排氣孔(44)配合，使得清潔腔體(1)內的溫度急冷，裝有產品且一起鍍膜結束的設備上結合力不好的部分剝落出來，并通過排氣孔(44)排出。
2.如權利要求1所述的大盤降溫清潔裝置，其特征在于：所述承載裝置包括底座(32)和旋轉盤(33)，所述旋轉盤(33)設于底座(32)上，所述底座(32)一端與隔板(4)下部連接，另一端位于清潔腔體(1)開口處。
3.如權利要求2所述的大盤降溫清潔裝置，其特征在于：大盤(9)上設有工件架(10)，工件架(10)上放置產品，所述大盤(9)的底部設有轉軸，通過轉軸插入所述底座(32)，旋轉盤(...
【專利技術屬性】
技術研發人員：吳偉亮，鄧永琪，梁海洋，張龍，吳俊磊，
申請(專利權)人：蘇州星藍納米技術有限公司，
類型：新型
國別省市：
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