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【技術實現步驟摘要】
本申請屬于半導體,尤其涉及一種散射參數去嵌方法、裝置及設備。
技術介紹
1、通常情況下,由于dut(device?under?test,被測器件)的特性不可直接被測,因此需要外接接頭或通過傳輸線連接到pad(焊盤)構成原始器件。其中,pad則通常指的是芯片上的焊盤或接觸點。dut和上述互連結構共同構成原始器件,再與測量設備相連進行具體測試。
2、在實際測試過程中,通常需要對原始器件進行散射參數(scatteringparameters,s參數)去嵌處理,以便得到所需的符合dut特性的散射參數。去嵌是將原始器件消除掉互連結構部分得到dut的過程,因此需要通過測試與計算得到這些互連結構的信息。然而,目前在對原始器件進行散射參數去嵌處理時,往往存在散射參數去嵌效率低、靈活性較差且準確度低下的問題。
3、基于此,業界仍然亟待一種新型的散射參數去嵌方案,以便更為高效靈活地實現對原始器件的散射參數去嵌,從而能夠得到更加精準的dut散射參數。
技術實現思路
1、本申請實施例提供一種散射參數去嵌方法、裝置及設備,能夠更為高效、靈活地實現散射參數去嵌,從而能夠有效提升整體散射參數去嵌效率和精度。
2、第一方面,本申請實施例提供一種散射參數去嵌方法,該散射參數去嵌方法包括:
3、獲取n個去嵌測試結構件,各去嵌測試結構件包括第一gsg焊盤、第二gsg焊盤以及傳輸線,傳輸線用于連接間隔設置的第一gsg焊盤和第二gsg焊盤,n為大于或等于2的正整數;
< ...【技術保護點】
1.一種散射參數去嵌方法,其特征在于,所述方法包括:
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據第一導納和第二導納,構造得到所述第一GSG焊盤對應的第一ABCD矩陣和所述第二GSG焊盤對應的第二ABCD矩陣,包括:
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據第三導納、第四導納和n條所述傳輸線中各所述傳輸線的長度,構造得到與所述n條所述傳輸線一一對應的n個第三ABCD矩陣,包括:
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,在所述根據所述第一ABCD矩陣、所述第二ABCD矩陣和所述n個第三ABCD矩陣,求解得到去嵌后的待測器件的ABCD矩陣,并將所述待測器件的ABCD矩陣轉換為散射參數之前,所述方法還包括:
5.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,所述根據所述第一ABCD矩陣、所述第二ABCD矩陣、所述n個第三ABCD矩陣、所述n個第四ABCD矩陣和所述第五ABCD矩陣,求解得到去嵌后的所述待測器件的ABCD矩陣,包括:
6.根據權利要求5所述的方法,其特征在于,所述根據所述第一ABCD矩陣、所述第二ABC
7.根據權利要求5所述的方法,其特征在于,所述根據所述第一ABCD矩陣、所述第二ABCD矩陣和所述第五ABCD矩陣,構造得到第二目標方程組,包括:
8.根據權利要求7所述的方法,其特征在于,在所述根據所述第一ABCD矩陣、所述第二ABCD矩陣和所述第五ABCD矩陣,構造得到第二目標方程組之前,所述方法還包括:
9.一種散射參數去嵌裝置,其特征在于,所述裝置包括:
10.一種散射參數去嵌設備,其特征在于,所述設備包括:處理器以及存儲有計算機程序指令的存儲器;
...【技術特征摘要】
1.一種散射參數去嵌方法,其特征在于,所述方法包括:
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據第一導納和第二導納,構造得到所述第一gsg焊盤對應的第一abcd矩陣和所述第二gsg焊盤對應的第二abcd矩陣,包括:
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據第三導納、第四導納和n條所述傳輸線中各所述傳輸線的長度,構造得到與所述n條所述傳輸線一一對應的n個第三abcd矩陣,包括:
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,在所述根據所述第一abcd矩陣、所述第二abcd矩陣和所述n個第三abcd矩陣,求解得到去嵌后的待測器件的abcd矩陣,并將所述待測器件的abcd矩陣轉換為散射參數之前,所述方法還包括:
5.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,所述根據所述第一abcd矩陣、所述第二abcd矩陣、所述n個第三abcd矩陣、所述...
【專利技術屬性】
技術研發人員:洪浩,
申請(專利權)人:蘇州華太電子技術股份有限公司,
類型:發明
國別省市:
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