【技術實現步驟摘要】
本申請實施例涉及半導體，具體涉及一種光學臨近修正方法、裝置、存儲介質及電子設備。
技術介紹
1、在現代半導體制造中，光學臨近修正（optical?proximity?correction，opc）是提高芯片制造良品率的關鍵技術之一。opc通過對原始版圖形狀進行細致的修正，以應對光刻過程中出現的光學臨近效應。這種效應在芯片制造中會導致圖形失真，影響最終產品的質量和性能。
2、現有的opc方法主要分為兩大類：基于規則的光學臨近修正（rule-based?opc）和基于模型的光學臨近修正（model-based?opc）。rule-based?opc通常適用于0.18微米及以上節點的芯片制造流程，其特點是基于經驗規則進行修正，能夠快速完成版圖修正，適合處理相對稀疏的版圖。然而，由于其依賴于經驗查表，修正精度較低，可能在處理密集版圖區域時產生壞點，影響芯片的良率。相對而言，model-based?opc適用于0.18微米節點以下的芯片制造，其通過復雜的光刻模型模擬計算，能夠實現更高的修正精度，適合處理密集的版圖。但其計算量巨大，導致opc的運行時間顯著延長，進而影響流片的及時性。
3、在實際的全芯片（full-chip）版圖中，往往同時存在稀疏和密集的區域，使得opc技術難以平衡算力需求與算法精度。
技術實現思路
1、本申請實施例提供了一種光學臨近修正方法、裝置、存儲介質及電子設備，可以在保持高修正精度的同時降低計算復雜性。
2、第一方面，本申請實施例提
3、獲取原始版圖；
4、對所述原始版圖進行復雜度分析，得到復雜度分析結果；
5、根據所述復雜度分析結果對所述原始版圖進行區域劃分，得到若干子區域；
6、按照預設策略對若干所述子區域進行區域合并，生成第一類區域和第二類區域；
7、分別對所述第一類區域和所述第二類區域進行相應的修正處理。
8、在本申請實施例提供的光學臨近修正方法中，所述對所述原始版圖進行復雜度分析，得到復雜度分析結果，包括：
9、確定所述原始版圖中的每個多邊形的關鍵點；
10、根據每個所述多邊形的面積，通過設定網格分辨率生成密度點；
11、基于所述密度點計算每個所述關鍵點的密度值。
12、在本申請實施例提供的光學臨近修正方法中，所述基于所述密度點計算每個所述關鍵點的密度值，包括：
13、獲取每個所述關鍵點所對應的預設密度窗內所述密度點的數量；
14、根據所述密度點的數量確定對應所述預設密度窗的密度值；
15、將所述密度值與對應的所述關鍵點進行關聯，得到每個所述關鍵點的密度值。
16、在本申請實施例提供的光學臨近修正方法中，所述根據所述復雜度分析結果對所述原始版圖進行區域劃分，得到若干子區域，包括：
17、基于所述密度值對所有所述關鍵點進行遍歷，并根據遍歷結果對所述原始版圖進行區域劃分，得到若干子區域。
18、在本申請實施例提供的光學臨近修正方法中，所述基于所述密度值對所有所述關鍵點進行遍歷，并根據遍歷結果對所述原始版圖進行區域劃分，得到若干子區域，包括：
19、以當前密度值最大的關鍵點為中心形成一具有預設半徑的當前子區域；
20、判斷所述當前子區域與其他子區域的重疊面積是否大于面積閾值；
21、若否，則確定所述當前子區域為有效子區域，去除位于所述當前子區域內除所述中心外的其他關鍵點；若是，則確定所述當前子區域為無效子區域，去除當前密度值最大的關鍵點；
22、返回執行以當前密度值最大的關鍵點為中心形成一具有預設半徑的當前子區域的步驟，直至所有所述關鍵點遍歷完成，得到若干子區域為止。
23、在本申請實施例提供的光學臨近修正方法中，所述按照預設策略對若干所述子區域進行區域合并，生成第一類區域和第二類區域，包括：
24、根據預設約束條件對若干所述子區域進行區域合并，生成若干合并區域；
25、對若干所述合并區域進行歸類處理，得到第一類區域和第二類區域。
26、在本申請實施例提供的光學臨近修正方法中，所述分別對所述第一類區域和所述第二類區域進行相應的修正處理，包括：
27、采用第一修正算法對所述第一類區域進行修正處理；
28、采用第二修正算法對所述第二類區域進行修正處理。
29、第二方面，本申請實施例提供了一種光學臨近修正裝置，包括：
30、獲取單元，用于獲取原始版圖；
31、分析單元，用于對所述原始版圖進行復雜度分析，得到復雜度分析結果；
32、劃分單元，用于根據所述復雜度分析結果對所述原始版圖進行區域劃分，得到若干子區域；
33、合并單元，用于按照預設策略對若干所述子區域進行區域合并，生成第一類區域和第二類區域；
34、修正單元，用于分別對所述第一類區域和所述第二類區域進行相應的修正處理。
35、第三方面，本申請提供了一種存儲介質，所述存儲介質存儲有多條指令，所述指令適于處理器進行加載，以執行上述任一項所述的光學臨近修正方法。
36、第四方面，本申請提供了一種電子設備，包括存儲器，處理器及存儲在存儲器上并可在處理器上運行的計算機程序，其中，所述處理器執行所述計算機程序時實現上述任一項所述的光學臨近修正方法。
37、綜上所述，本申請實施例提供的光學臨近修正方法采用獲取原始版圖；對所述原始版圖進行復雜度分析，得到復雜度分析結果；根據所述復雜度分析結果對所述原始版圖進行區域劃分，得到若干子區域；按照預設策略對若干所述子區域進行區域合并，生成第一類區域和第二類區域；分別對所述第一類區域和所述第二類區域進行相應的修正處理。本方案通過形成第一類區域和第二類區域，再分別對第一類區域和第二類區域進行相應的修正處理，從而達到在保持高修正精度的同時降低計算復雜性的目的。
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1.一種光學臨近修正方法，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的光學臨近修正方法，其特征在于，所述對所述原始版圖進行復雜度分析，得到復雜度分析結果，包括：
3.如權利要求2所述的光學臨近修正方法，其特征在于，所述基于所述密度點計算每個所述關鍵點的密度值，包括：
4.如權利要求2所述的光學臨近修正方法，其特征在于，所述根據所述復雜度分析結果對所述原始版圖進行區域劃分，得到若干子區域，包括：
5.如權利要求4所述的光學臨近修正方法，其特征在于，所述基于所述密度值對所有所述關鍵點進行遍歷，并根據遍歷結果對所述原始版圖進行區域劃分，得到若干子區域，包括：
6.如權利要求1所述的光學臨近修正方法，其特征在于，所述按照預設策略對若干所述子區域進行區域合并，生成第一類區域和第二類區域，包括：
7.如權利要求1所述的光學臨近修正方法，其特征在于，所述分別對所述第一類區域和所述第二類區域進行相應的修正處理，包括：
8.一種光學臨近修正裝置，其特征在于，包括：
9.一種存儲介質，其特征在于，所述存儲介
10.一種電子設備，其特征在于，包括存儲器、處理器及存儲在存儲器上并可在處理器上運行的計算機程序，其中，所述處理器執行所述計算機程序時實現如權利要求1-7任一項所述的光學臨近修正方法。
...【技術特征摘要】
1.一種光學臨近修正方法，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的光學臨近修正方法，其特征在于，所述對所述原始版圖進行復雜度分析，得到復雜度分析結果，包括：
3.如權利要求2所述的光學臨近修正方法，其特征在于，所述基于所述密度點計算每個所述關鍵點的密度值，包括：
4.如權利要求2所述的光學臨近修正方法，其特征在于，所述根據所述復雜度分析結果對所述原始版圖進行區域劃分，得到若干子區域，包括：
5.如權利要求4所述的光學臨近修正方法，其特征在于，所述基于所述密度值對所有所述關鍵點進行遍歷，并根據遍歷結果對所述原始版圖進行區域劃分，得到若干子區域，包括：
6.如權利要求1所述的光學...
【專利技術屬性】
技術研發人員：李丹穎，伍文明，吳士俠，
申請(專利權)人：華芯程杭州科技有限公司，
類型：發明
國別省市：
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