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    一種半導體清洗設備的隔離裝置制造方法及圖紙

    技術編號:44163278 閱讀:17 留言:0更新日期:2025-01-29 10:35
    本發明專利技術公開了一種半導體清洗設備的隔離裝置,涉及隔離技術領域,包括:清洗裝置,所述清洗裝置表面固定安裝有滑軌,所述滑軌內壁滑動安裝有滑塊;隔離裝置,所述隔離裝置設置在滑塊頂部,所述隔離裝置包括彈性伸縮板、清理輥、刮板、固定架、轉桿、轉板、滑動框、隔離板和擋板,通過將半導體放入清洗裝置內對半導體材料進行清洗,同時推動隔離板滑動,通過隔離板滑動對清洗裝置頂部進行密封隔離,防止外部污染物進入清洗區域,導致半導體材料受到污染,影響正常使用,所述彈性伸縮板固定安裝在滑軌表面,防止關閉隔離板時,隔離板底部存在污染物,設備清洗過程中可能落入清洗裝置內,影響設備的隔離清洗效果。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術涉及隔離,具體為一種半導體清洗設備的隔離裝置


    技術介紹

    1、半導體清洗設備的隔離裝置在半導體制造中起著至關重要的作用,其主要目的在于保護設備內部的敏感組件,確保清洗過程中不受污染,并提高清洗效果。

    2、專利公告號為cn215988678u的專利涉及一種半導體清洗設備的隔離裝置和半導體清洗設備,半導體清洗設備的隔離裝置包括:驅動模塊,包括主體和活動部,主體用于驅動活動部移動;多個緩沖器,沿活動部的位移路徑,分別位于活動部的第一側和第二側;擋板,與活動部相連接。該專利提出的半導體清洗設備的隔離裝置,活動部可活動地設置在主體上,主體可驅動活動部移動,并且,活動部上設置有擋板,能夠隔離兩個清洗槽,進而在半導體清洗過程中,降低兩個清洗槽之間酸氣相互躥動的可能,提升半導體潔凈度和良品率,并且,可以通過活動部的運動,使得擋板不再間隔兩個清洗槽,從而便于半導體在兩個清洗槽之間的運輸。

    3、上述專利中,活動部上設置有擋板,能夠隔離兩個清洗槽,進而在半導體清洗過程中,降低兩個清洗槽之間酸氣相互躥動的可能,提升半導體潔凈度和良品率,并且,可以通過活動部的運動,使得擋板不再間隔兩個清洗槽,從而便于半導體在兩個清洗槽之間的運輸,但使用過程中,隔離板上可能沾附雜質或清理液,可能對后續清洗的半導體存在污染等情況。


    技術實現思路

    1、針對現有技術的不足,本專利技術提供了一種半導體清洗設備的隔離裝置,解決了上述
    技術介紹
    中提出的問題。

    2、為實現以上目的,本專利技術通過以下技術方案予以實現:一種半導體清洗設備的隔離裝置,包括:清洗裝置,所述清洗裝置表面固定安裝有滑軌,所述滑軌內壁滑動安裝有滑塊;隔離裝置,所述隔離裝置設置在滑塊頂部,所述隔離裝置包括彈性伸縮板、清理輥、刮板、固定架、轉桿、轉板、滑動框、隔離板和擋板,通過將半導體放入清洗裝置內對半導體材料進行清洗,同時推動隔離板滑動,通過隔離板滑動對清洗裝置頂部進行密封隔離,防止外部污染物進入清洗區域,導致半導體材料受到污染,影響正常使用,同時隔離板滑動過程中會接觸到清理輥,清理輥會將隔離板底部沾附的溶液或是雜質清理掉,所述彈性伸縮板固定安裝在滑軌表面,所述清理輥固定安裝在彈性伸縮板自由端,所述刮板固定安裝在彈性伸縮板固定端,所述固定架固定安裝在彈性伸縮板自由端,所述轉桿轉動安裝在固定架表面,所述滑動框滑動安裝在滑軌靠近固定架的一面,所述轉板的一端固定安裝在轉桿圓周面,所述轉板的另一端轉動安裝在滑動框內壁,所述隔離板固定安裝在滑塊頂部,所述擋板固定安裝在隔離板底部,所述隔離板底部開設有缺槽,轉板轉動會擠壓轉桿向下移動,轉桿向下移動會擠壓固定架向下移動,固定架向下移動會帶動彈性伸縮板自由端向下移動,彈性伸縮板自由端向下移動會帶動清理輥向下移動。

    3、根據上述技術方案,所述滑動框與滑軌之間設置有一號彈簧,通過一號彈簧帶動滑動框復位,所述轉板與滑動框之間設置有一號扭簧,通過一號扭簧帶動轉板復位。

    4、根據上述技術方案,所述清洗裝置內部設置有用于提高設備隔離效果的密封裝置,所述密封裝置上設置有脫離裝置,所述密封裝置包括梯形塊、連接管、液壓桿、推桿、連接框和密封橡膠,通過隔離板向靠近梯形塊的方向移動,隔離板移動會擠壓梯形塊向下移動,梯形塊向下移動會擠壓液壓桿向下移動,液壓桿向下移動會擠壓連接管內部的液體推動推桿向上移動,所述清洗裝置表面開設有凹槽,所述梯形塊滑動安裝在凹槽內壁,所述連接管固定貫穿凹槽表面,所述液壓桿滑動安裝在連接管內壁,所述液壓桿固定安裝在梯形塊底部,所述推桿滑動安裝在連接管遠離液壓桿的一端,所述連接框固定安裝在推桿頂部,所述密封橡膠設置在連接框頂部。

    5、根據上述技術方案,所述連接框底部固定安裝有連接架,所述連接架表面轉動安裝有轉動板,所述轉動板圓周面固定安裝有方形板,所述清洗裝置內壁固定安裝有固定板,所述連接框表面滑動安裝有方形框,方形板向下轉動會帶動轉動板向上轉動,轉動板向上轉動會推動方形框向上移動,方形框向上移動會將密封橡膠罩起來。

    6、根據上述技術方案,所述梯形塊與凹槽之間設置有二號彈簧,通過二號彈簧帶動梯形塊復位,所述連接架與轉動板之間設置有二號扭簧,通過二號扭簧帶動轉動板復位,所述固定板設置在方形板上方,所述連接框與方形框之間設置有三號彈簧,通過三號彈簧帶動方形框。

    7、根據上述技術方案,所述脫離裝置包括密封板、連接板、旋轉板、限位塊、固定桿和凸塊,通過連接框向上移動帶動密封板向上移動,密封板向上移動會帶動連接板向上移動,連接板向上移動會帶動旋轉板向上移動,所述密封板固定安裝在連接框底部,所述清洗裝置表面開設有滑槽,所述連接板固定安裝在密封板靠近清洗裝置的一面,所述旋轉板轉動安裝在連接板內壁,所述限位塊固定安裝在連接板內壁,所述固定桿固定安裝在滑槽內壁,所述凸塊固定安裝在固定桿靠近旋轉板的一面。

    8、根據上述技術方案,所述滑槽內壁滑動安裝有滑板,所述滑板表面轉動安裝有旋轉推板,所述滑板表面固定安裝有限位板,隔離板復位過程中缺槽會擠壓旋轉推板向下移動,旋轉推板會受到限位板限位,使旋轉推板帶動滑板向下移動,滑板向下移動會擠壓連接板向下,連接板向下移動會帶動密封板、連接框和密封橡膠向下移動。

    9、根據上述技術方案,所述旋轉板與連接板之間設置有三號扭簧,通過三號扭簧帶動旋轉板復位,所述限位塊設置在旋轉板上方,所述滑槽與滑板之間設置有四號彈簧,通過四號彈簧帶動滑板復位,所述滑板與旋轉推板之間設置有四號扭簧,通過四號扭簧帶動旋轉推板復位。

    10、本專利技術提供了一種半導體清洗設備的隔離裝置。具備以下有益效果:

    11、(1)該專利技術,通過隔離板滑動過程中會接觸到清理輥,清理輥會將隔離板底部沾附的溶液或是雜質清理掉,防止關閉隔離板時,隔離板底部存在污染物,設備清洗過程中可能落入清洗裝置內,影響設備的隔離清洗效果,同時彈性伸縮板自由端向下移動會帶動清理輥向下移動,通過刮板將清理輥上的雜質刮下來,防止清理輥上沾附其他雜質,影響后續刮除效果。(2)該專利技術,通過連接框向上移動會帶動密封橡膠向上移動,通過密封橡膠向上移動與隔離板貼合,提高設備的密封隔離效果,良好的密封效果能夠有效防止外部空氣、灰塵、顆粒和其他污染物進入清洗區域,確保清洗過程的純凈性,通過方形框向上移動會將密封橡膠罩起來,防止清洗過程中,受污染的液體飛濺到密封橡膠上,加速橡膠的老化過程,導致橡膠變脆、失去彈性,從而影響密封性能。(3)該專利技術,通過旋轉板向下移動的過程中會與凸塊接觸產生振動,通過振動將飛濺上的清洗液抖動下來,防止清洗液沾附在方形框上,影響后續使用,同時隔離板復位過程中缺槽會擠壓旋轉推板向下移動,旋轉推板會受到限位板限位,使旋轉推板帶動滑板向下移動,滑板向下移動會擠壓連接板向下,連接板向下移動會帶動密封板、連接框和密封橡膠向下移動,防止密封橡膠與隔離板密封的過于緊密,影響設備正常打開。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種半導體清洗設備的隔離裝置,其特征在于,包括:清洗裝置(1),所述清洗裝置(1)表面固定安裝有滑軌(2),所述滑軌(2)內壁滑動安裝有滑塊(3);

    2.根據權利要求1所述的一種半導體清洗設備的隔離裝置,其特征在于:所述滑動框(10)與滑軌(2)之間設置有一號彈簧,所述轉板(9)與滑動框(10)之間設置有一號扭簧。

    3.根據權利要求2所述的一種半導體清洗設備的隔離裝置,其特征在于:所述密封裝置包括梯形塊(131)、連接管(132)、液壓桿(133)、推桿(134)、連接框(135)和密封橡膠(136),所述清洗裝置(1)表面開設有凹槽,所述梯形塊(131)滑動安裝在凹槽內壁,所述連接管(132)固定貫穿凹槽表面,所述液壓桿(133)滑動安裝在連接管(132)內壁,所述液壓桿(133)固定安裝在梯形塊(131)底部,所述推桿(134)滑動安裝在連接管(132)遠離液壓桿(133)的一端,所述連接框(135)固定安裝在推桿(134)頂部,所述密封橡膠(136)設置在連接框(135)頂部。

    4.根據權利要求3所述的一種半導體清洗設備的隔離裝置,其特征在于:所述連接框(135)底部固定安裝有連接架(137),所述連接架(137)表面轉動安裝有轉動板(138),所述轉動板(138)圓周面固定安裝有方形板(139),所述清洗裝置(1)內壁固定安裝有固定板(1310),所述連接框(135)表面滑動安裝有方形框(1311)。

    5.根據權利要求4所述的一種半導體清洗設備的隔離裝置,其特征在于:所述梯形塊(131)與凹槽之間設置有二號彈簧,所述連接架(137)與轉動板(138)之間設置有二號扭簧,所述固定板(1310)設置在方形板(139)上方,所述連接框(135)與方形框(1311)之間設置有三號彈簧。

    6.根據權利要求5所述的一種半導體清洗設備的隔離裝置,其特征在于:所述脫離裝置包括密封板(141)、連接板(142)、旋轉板(143)、限位塊(144)、固定桿(145)和凸塊(146),所述密封板(141)固定安裝在連接框(135)底部,所述清洗裝置(1)表面開設有滑槽,所述連接板(142)固定安裝在密封板(141)靠近清洗裝置(1)的一面,所述旋轉板(143)轉動安裝在連接板(142)內壁,所述限位塊(144)固定安裝在連接板(142)內壁,所述固定桿(145)固定安裝在滑槽內壁,所述凸塊(146)固定安裝在固定桿(145)靠近旋轉板(143)的一面。

    7.根據權利要求6所述的一種半導體清洗設備的隔離裝置,其特征在于:所述滑槽內壁滑動安裝有滑板(147),所述滑板(147)表面轉動安裝有旋轉推板(148),所述滑板(147)表面固定安裝有限位板(149)。

    8.根據權利要求7所述的一種半導體清洗設備的隔離裝置,其特征在于:所述旋轉板(143)與連接板(142)之間設置有三號扭簧,所述限位塊(144)設置在旋轉板(143)上方,所述滑槽與滑板(147)之間設置有四號彈簧,所述滑板(147)與旋轉推板(148)之間設置有四號扭簧。

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    【技術特征摘要】

    1.一種半導體清洗設備的隔離裝置,其特征在于,包括:清洗裝置(1),所述清洗裝置(1)表面固定安裝有滑軌(2),所述滑軌(2)內壁滑動安裝有滑塊(3);

    2.根據權利要求1所述的一種半導體清洗設備的隔離裝置,其特征在于:所述滑動框(10)與滑軌(2)之間設置有一號彈簧,所述轉板(9)與滑動框(10)之間設置有一號扭簧。

    3.根據權利要求2所述的一種半導體清洗設備的隔離裝置,其特征在于:所述密封裝置包括梯形塊(131)、連接管(132)、液壓桿(133)、推桿(134)、連接框(135)和密封橡膠(136),所述清洗裝置(1)表面開設有凹槽,所述梯形塊(131)滑動安裝在凹槽內壁,所述連接管(132)固定貫穿凹槽表面,所述液壓桿(133)滑動安裝在連接管(132)內壁,所述液壓桿(133)固定安裝在梯形塊(131)底部,所述推桿(134)滑動安裝在連接管(132)遠離液壓桿(133)的一端,所述連接框(135)固定安裝在推桿(134)頂部,所述密封橡膠(136)設置在連接框(135)頂部。

    4.根據權利要求3所述的一種半導體清洗設備的隔離裝置,其特征在于:所述連接框(135)底部固定安裝有連接架(137),所述連接架(137)表面轉動安裝有轉動板(138),所述轉動板(138)圓周面固定安裝有方形板(139),所述清洗裝置(1)內壁固定安裝有固定板(1310),所述連接框(135)表面滑動安裝有方形框(1311)。

    5.根據權利要求4所述的一種半導體清洗設備...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:張寶寶劉超金炫宇
    申請(專利權)人:嘉際環控西安科技有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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