【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及一種粒子測量裝置。更具體地，本公開涉及一種高效測量包含納米粒子的液體樣品的粒子測量裝置。
技術介紹
1、在諸如顯示器和半導體的要求高精度的產品的制造過程中使用的各種有機和無機化學制品需要比目前純度更高的化學制品以避免降低制造產率，并且正在開發并新應用高級分析技術以確認高純度化學制品的質量。其中，粒子分析的重要性越來越高，甚至小至10nm的粒子都可能影響半導體制造工藝的產率降低和高集成度。因此，除了需要開發用于質量控制的穩定分析方法之外，還必須確保技術的可擴展性，使得甚至可以分析在制造過程中可能發生的缺陷的原因。
2、以分子或離子狀態均勻分散在液體中的物質通常稱為溶液。其中大于正常分子或離子且直徑為約1nm至1,000nm的粒子分散在溶液中而不聚集或沉淀的狀態被稱為膠體狀態，處于膠體狀態的粒子被稱為膠體。
3、對溶液中存在的微膠體的研究集中于獲取待分析物質的理化性質的信息或提高分離分析儀的檢測能力。直到最近對膠體粒子的分析具有100nm的尺寸極限，并且需要開發技術，因為需要高濃度樣品以精確分析100nm或更小的膠體粒子。
4、作為測量膠體納米粒子的方法，通常使用利用光散射強度來檢查粒子尺寸的光散射分析方法。然而，當測量尺寸小于100nm的細小納米粒子時，即使產生散射光，在低濃度下檢測細小納米粒子的概率也迅速降低，從而使得難以獲得可靠的結果。此外，存在粒子濃度必須為幾ppm(百萬分之幾)或更高的限制。隨著粒子尺寸增加，散射光強度增加。另一方面，由于能夠散射光的區域隨著粒子尺寸的減小而
5、當通過將激光束照射到納米粒子上而產生激光誘導擊穿時，其可能產生沖擊波。當通過測量沖擊波的聲信號來測量納米粒子時，除了聲信號之外的噪聲容易同時被測量，因此需要放大聲信號。
6、(專利文獻1)kr10-2010-0040457a
技術實現思路
1、[技術問題]
2、本公開的一個目的在于解決上述和其他問題。
3、本公開的另一個目的在于提供一種高效測量納米粒子的粒子測量裝置。
4、本公開的另一個目的在于提供一種有效固定流動池的粒子測量裝置，含有納米粒子的液體樣品在流動池中流動。
5、本公開的另一個目的在于提供一種有效抑制扭轉力的粒子測量裝置。
6、本公開的另一個目的在于提供一種有效測量由納米粒子產生的聲波的粒子測量裝置。
7、本公開的另一個目的在于提供一種放大產生的聲波中的特定頻帶的粒子測量裝置。
8、本公開的另一個目的在于提供一種包括在特定頻帶諧振的諧振板的粒子測量裝置。
9、本公開的另一個目的在于提供一種形成聲波在其中諧振的諧振空間的粒子測量裝置。
10、本公開的另一個目的在于提供一種調節諧振空間的形狀和尺寸中的至少一個的粒子測量裝置。
11、[技術方案]
12、為了實現上述和其他目的和需要，在本公開的一個方面，提供了一種粒子測量裝置，其包括：固定流動池的安裝單元；以及設置在所述安裝單元后面的諧振單元，所述諧振單元形成向前和向后敞開的中空部分，其中所述安裝單元包括：固定模塊，所述固定模塊包括第一固定模塊和第二固定模塊，所述第一固定模塊和所述第二固定模塊位于所述諧振單元的前方，并且水平地設置成在其間插置有所述流動池；以及橋接模塊，所述橋接模塊包括分別與所述固定模塊的上端和下端耦合的上橋接模塊和下橋接模塊，其中所述第一固定模塊和所述第二固定模塊中的每一個都包括：沿上下方向延伸的固定體；形成在所述固定體的上端并耦合到所述上橋接模塊的固定體上突起；以及形成在所述固定體的下端并耦合到所述下橋接模塊的固定體下突起。
13、[有益效果]
14、根據本公開的粒子測量裝置的效果如下：
15、根據本公開的至少一個方面，本公開可以提供一種高效測量納米粒子的粒子測量裝置。
16、根據本公開的至少一個方面，本公開可以提供一種有效固定流動池的粒子測量裝置，含有納米粒子的液體樣品在流動池中流動。
17、根據本公開的至少一個方面，本公開可以提供一種有效抑制扭轉力的粒子測量裝置。
18、根據本公開的至少一個方面，本公開可以提供一種有效測量由納米粒子產生的聲波的粒子測量裝置。
19、根據本公開的至少一個方面，本公開可以提供一種放大產生的聲波中的特定頻帶的粒子測量裝置。
20、根據本公開的至少一個方面，本公開可以提供一種包括在特定頻帶諧振的諧振板的粒子測量裝置。
21、根據本公開的至少一個方面，本公開可以提供一種形成聲波在其中諧振的諧振空間的粒子測量裝置。
22、根據本公開的至少一個方面，本公開可以提供一種調節諧振空間的形狀和尺寸中的至少一個的粒子測量裝置。
23、根據下面給出的詳細描述，本公開的其他適用性范圍將變得顯而易見。然而，應當理解，詳細描述和具體示例(諸如本公開的實施方式)僅通過示例的方式給出，因為在本公開的精神和范圍內的各種改變和修改對于本領域技術人員來說將通過詳細描述而變得顯而易見。
本文檔來自技高網...【技術保護點】
1.一種粒子測量裝置，其包括：
2.根據權利要求1所述的粒子測量裝置，其中，所述固定體上突起與所述固定體的上端形成臺階部分。
3.根據權利要求2所述的粒子測量裝置，其中，所述固定體下突起與所述固定體的下端形成臺階部分。
4.根據權利要求1所述的粒子測量裝置，其中，所述第一固定模塊的所述固定體上突起水平延伸的方向與所述第二固定模塊的所述固定體上突起水平延伸的方向相交。
5.根據權利要求1所述的粒子測量裝置，其中，所述第一固定模塊的所述固定體上突起水平延伸的方向與所述第一固定模塊的所述固定體下突起水平延伸的方向相交。
6.根據權利要求1所述的粒子測量裝置，其中，所述上橋接模塊和所述下橋接模塊中的每一個都包括：
7.根據權利要求6所述的粒子測量裝置，其中，所述上橋接模塊和所述下橋接模塊中的每一個都包括形成在所述橋接體上并耦合到所述流動池的第三橋接部。
8.根據權利要求7所述的粒子測量裝置，其中，所述第三橋接部位于所述第一橋接部與所述第二橋接部之間。
9.根據權利要求6所述的粒子測量裝置，其中
10.根據權利要求9所述的粒子測量裝置，其中，所述第一橋接槽水平延伸的方向與所述第二橋接槽水平延伸的方向相交。
11.根據權利要求9所述的粒子測量裝置，其中，所述橋接體包括與所述橋接體耦合面相對地形成的橋接體相對面，
12.根據權利要求7所述的粒子測量裝置，其中，所述第三橋接部包括第三橋接安裝開口，所述第三橋接安裝開口形成在所述橋接體耦合面中并耦合到所述流動池。
13.根據權利要求12所述的粒子測量裝置，其中，所述橋接體包括與所述橋接體耦合面相對地形成的橋接體相對面，并且
14.根據權利要求13所述的粒子測量裝置，其還包括連接到所述第三橋接外部開口的流動池延伸管。
15.根據權利要求14所述的粒子測量裝置，其中，所述流動池通過所述第三橋接中空部分與所述流動池延伸管連通。
...【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】
1.一種粒子測量裝置，其包括：
2.根據權利要求1所述的粒子測量裝置，其中，所述固定體上突起與所述固定體的上端形成臺階部分。
3.根據權利要求2所述的粒子測量裝置，其中，所述固定體下突起與所述固定體的下端形成臺階部分。
4.根據權利要求1所述的粒子測量裝置，其中，所述第一固定模塊的所述固定體上突起水平延伸的方向與所述第二固定模塊的所述固定體上突起水平延伸的方向相交。
5.根據權利要求1所述的粒子測量裝置，其中，所述第一固定模塊的所述固定體上突起水平延伸的方向與所述第一固定模塊的所述固定體下突起水平延伸的方向相交。
6.根據權利要求1所述的粒子測量裝置，其中，所述上橋接模塊和所述下橋接模塊中的每一個都包括：
7.根據權利要求6所述的粒子測量裝置，其中，所述上橋接模塊和所述下橋接模塊中的每一個都包括形成在所述橋接體上并耦合到所述流動池的第三橋接部。
8.根據權利要求7所述的粒子測量裝置，其中，所述第三橋接部位于所述第一橋接部與所述第二橋接部之間。
【專利技術屬性】
技術研發人員：李民柱，李喜靜，韓盛弼，
申請(專利權)人：東友精細化工有限公司，
類型：發明
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。