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    復(fù)合材料及其制備方法、發(fā)光器件及顯示裝置制造方法及圖紙

    技術(shù)編號:44185391 閱讀:14 留言:0更新日期:2025-02-06 18:26
    本申請公開了復(fù)合材料及其制備方法、發(fā)光器件及顯示裝置。本申請的復(fù)合材料,包括第一金屬氧化物摻雜的n型金屬氧化物,其中,所述n型金屬氧化物的表面連接有帶負電性的有機基團,所述有機基團配位連接在所述n型金屬氧化物的表面,可以增加n型金屬氧化物的分散性以及提高所述復(fù)合材料的成膜性,還能進一步提升所述復(fù)合材料的電子注入性能。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本申請涉及光電,尤其涉及一種復(fù)合材料及其制備方法、發(fā)光器件及顯示裝置


    技術(shù)介紹

    1、半導(dǎo)體材料中有兩種載流子,分別為價帶中的空穴和導(dǎo)帶中的電子。根據(jù)半導(dǎo)體材料中電子和空穴的濃度差別,分為n型半導(dǎo)體材料和p型半導(dǎo)體材料。其中,n型半導(dǎo)體材料也被稱為電子型半導(dǎo)體,自由電子濃度遠大于空穴濃度的雜質(zhì)半導(dǎo)體。p型半導(dǎo)體材料也被稱為空穴型半導(dǎo)體,是以帶正電的空穴導(dǎo)電為主的半導(dǎo)體,或者說是空穴濃度遠大于自由電子濃度的雜質(zhì)半導(dǎo)體。

    2、n型半導(dǎo)體材料由于較好的電子注入性能而被廣泛用作電子傳輸和注入材料,但其成膜性較差等一定程度上制約了其應(yīng)用。


    技術(shù)實現(xiàn)思路

    1、有鑒于此,本申請?zhí)峁┮环N復(fù)合材料及其制備方法、發(fā)光器件及顯示裝置,旨在改善成膜性的同時,使復(fù)合材料具有較好的電子注入性能。

    2、本申請實施例是這樣實現(xiàn)的:

    3、第一方面,提供一種復(fù)合材料,包括第一金屬氧化物摻雜的n型金屬氧化物,其中,所述n型金屬氧化物的表面連接有帶負電性的有機基團,其中,所述有機基團包括如下結(jié)構(gòu)中的一種或多種:

    4、

    5、其中,r1、r3、r4獨立地選自h、d、取代或未取代的c1~c30的鏈烷基、取代或未取代的c3~c30的環(huán)烷基、取代或未取代的c2~c30的鏈烯基、取代或未取代的c3~c30的環(huán)烯基、取代或未取代的c2~c30的鏈炔基、取代或未取代的c6~c30的環(huán)炔基、取代或未取代的環(huán)原子數(shù)為6~30的芳基、取代或未取代的環(huán)原子數(shù)為5~30的雜芳基中的一種或多種的組合;

    6、r2、r5選自h、d、鹵素、硝基、氰基、取代或未取代的c1~c30的鏈烷基、取代或未取代的c3~c30的環(huán)烷基、取代或未取代的c1~c30的烷氧基、取代或未取代的c1~c30的烷硫基、取代或未取代的c2~c30的鏈烯基、取代或未取代的c3~c30的環(huán)烯基、取代或未取代的c2~c30的鏈炔基、取代或未取代的c6~c30的環(huán)炔基、取代或未取代的環(huán)原子數(shù)為5~30的芳基、取代或未取代的環(huán)原子數(shù)為5~30的雜芳基中的一種或多種的組合;

    7、所述的取代基選自鹵素、硝基、氰基、羧基、羥基、c1~c10的烷氧基羰基、c1~c10的鏈烷基、c3~c10的環(huán)烷基中的一種或多種的組合;

    8、n為0~4的整數(shù),m為0~6的整數(shù)。

    9、第二方面,本申請實施例還提供一種復(fù)合材料的制備方法,包括:提供第一混合物,所述第一混合物中包括n型金屬氧化物和第一溶劑,其中,所述第一溶劑中包括空穴犧牲劑;

    10、對所述第一混合物進行第一次光照處理后,向所述第一混合物中加入有機第一金屬鹽,并繼續(xù)進行第二次光照處理,得到復(fù)合材料。

    11、第三方面,本申請實施例還提供一種發(fā)光器件,包括:相對設(shè)置的第一電極和第二電極;發(fā)光層,設(shè)置在所述第一電極和所述第二電極之間;電子功能層,設(shè)置在所述第二電極與所述發(fā)光層之間;其中,所述電子功能層的材料包括如上述的復(fù)合材料,或者,包括上述的復(fù)合材料的制備方法制得的復(fù)合材料。

    12、第四方面,本申請實施例還提供一種顯示裝置,包括如上述的發(fā)光器件,或者包括由上述的制備方法制備得到的發(fā)光器件。

    13、本申請的復(fù)合材料,包括第一金屬氧化物摻雜的n型金屬氧化物,其中,所述n型金屬氧化物的表面連接有帶負電性的有機基團,有機基團可以和n型金屬氧化物表面的大量氧缺陷結(jié)合,可以增加n型金屬氧化物的分散性、提高所述復(fù)合材料的成膜性、以及其可以進一步提升所述復(fù)合材料的電子注入性能。

    本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護點】

    1.一種復(fù)合材料,其特征在于,包括第一金屬氧化物摻雜的n型金屬氧化物,其中,所述n型金屬氧化物的表面連接有帶負電性的有機基團,其中,所述有機基團包括如下結(jié)構(gòu)中的一種或多種:

    2.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料,其特征在于,

    3.如權(quán)利要求2所述的復(fù)合材料,其特征在于,

    4.如權(quán)利要求1-3任一項所述的復(fù)合材料,其特征在于,

    5.一種復(fù)合材料的制備方法,其特征在于,包括:

    6.如權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于,

    7.如權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于,

    8.一種發(fā)光器件,其特征在于,包括:

    9.如權(quán)利要求8所述的發(fā)光器件,其特征在于,

    10.一種顯示裝置,其特征在于,包括如權(quán)利要求8~9任一項所述的發(fā)光器件。

    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種復(fù)合材料,其特征在于,包括第一金屬氧化物摻雜的n型金屬氧化物,其中,所述n型金屬氧化物的表面連接有帶負電性的有機基團,其中,所述有機基團包括如下結(jié)構(gòu)中的一種或多種:

    2.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料,其特征在于,

    3.如權(quán)利要求2所述的復(fù)合材料,其特征在于,

    4.如權(quán)利要求1-3任一項所述的復(fù)合材料,其特征在于,

    ...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:田鹍飛
    申請(專利權(quán))人:TCL科技集團股份有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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