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    基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法、系統(tǒng)及應(yīng)用技術(shù)方案

    技術(shù)編號:44186952 閱讀:18 留言:0更新日期:2025-02-06 18:27
    本發(fā)明專利技術(shù)提供了基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法、系統(tǒng)及應(yīng)用,涉及結(jié)構(gòu)輕量化設(shè)計領(lǐng)域。該設(shè)計方法包括:對模型劃分劃分共形六面體網(wǎng)格,網(wǎng)格單元尺寸設(shè)置為點陣胞元的尺寸;基于拓撲優(yōu)化前處理計算,提取網(wǎng)格單元的密度場信息,通過密度場映射基于三向線性插值方法構(gòu)造連續(xù)梯度TPMS點陣結(jié)構(gòu);針對每個共形六面體網(wǎng)格單元提取其所對應(yīng)密度場的TPMS單胞的空間坐標(biāo);基于等參變換將位于局部坐標(biāo)系中的所述TPMS單胞的所有頂點坐標(biāo)變換到與其對應(yīng)的位于整體坐標(biāo)系中的共形六面體網(wǎng)格單元坐標(biāo);遍歷所有共形六面體網(wǎng)格單元,獲得梯度共形TPMS點陣結(jié)構(gòu)并輸出。本方法可解決傳統(tǒng)點陣填充時因胞元不完整、不保形而影響結(jié)構(gòu)力學(xué)性能的缺點。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及結(jié)構(gòu)輕量化設(shè)計及增材制造領(lǐng)域,尤其涉及一種基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法、系統(tǒng)及應(yīng)用


    技術(shù)介紹

    1、三維點陣結(jié)構(gòu)是一種由微結(jié)構(gòu)按照一定周期性排列而成的空間結(jié)構(gòu),具有高比強度、高比剛度、高能量吸收和輕質(zhì)等許多優(yōu)異的力學(xué)性能,基于點陣結(jié)構(gòu)的輕量化或功能設(shè)計,是目前面向增材制造創(chuàng)新設(shè)計的重要方法,能夠快速實現(xiàn)功能需求的輕質(zhì)結(jié)構(gòu)設(shè)計。

    2、然而,現(xiàn)階段對點陣結(jié)構(gòu)的填充設(shè)計存在如下難點:一是現(xiàn)有設(shè)計是將待填充結(jié)構(gòu)的整體或部分替換為點陣結(jié)構(gòu),針對外觀較為規(guī)則的結(jié)構(gòu)設(shè)計相對簡單,但實際工程中結(jié)構(gòu)件外形通常具有曲面輪廓,固定尺寸的點陣胞元將無法保證恰好完整的填充,在結(jié)構(gòu)邊界會出現(xiàn)破損單胞,這勢必會影響點陣結(jié)構(gòu)的整體性能;二是大部分優(yōu)化設(shè)計是針對均勻周期性點陣結(jié)構(gòu),缺乏對共形點陣結(jié)構(gòu)的優(yōu)化設(shè)計。


    技術(shù)實現(xiàn)思路

    1、專利技術(shù)目的:提出一種基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法,還提出一種驅(qū)動該設(shè)計方法的系統(tǒng),并進一步提出一種該設(shè)計方法的應(yīng)用。通過選擇單元尺寸與單元類型,針對待設(shè)計摸型,通過掃掠法生成共形六面體網(wǎng)格并獲取其網(wǎng)格信息;確定好邊界條件和載荷,對劃分完六面體網(wǎng)格后的模型進行拓撲優(yōu)化前處理計算,并對結(jié)果提取網(wǎng)格單元密度場信息;基于密度場信息通過三向線性插值方法計算連續(xù)的密度場,從而構(gòu)造連續(xù)梯度tpms點陣結(jié)構(gòu);針對每個共形六面體網(wǎng)格單元,提取其所對應(yīng)密度場的tpms單胞所有頂點的空間坐標(biāo);基于等參變換將位于局部坐標(biāo)系中的所述tpms單胞的所有頂點坐標(biāo)變換到與其對應(yīng)的位于整體坐標(biāo)系中的共形六面體網(wǎng)格單元坐標(biāo);遍歷所有共形六面體網(wǎng)格單元,獲得梯度共形tpms點陣結(jié)構(gòu)并輸出。獲得了一種針對具有曲面輪廓外形結(jié)構(gòu)件的梯度共形點陣填充方法,可解決傳統(tǒng)點陣填充時因胞元不完整、不保形而影響結(jié)構(gòu)力學(xué)性能的缺點。

    2、本專利技術(shù)的第一方面,提出一種基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法,步驟如下:

    3、將待設(shè)計的原始模型劃分為共形六面體網(wǎng)格;

    4、針對劃分好的所述共形六面體網(wǎng)格進行拓撲優(yōu)化前處理計算,提取網(wǎng)格單元的密度場信息;

    5、根據(jù)所述密度場信息,通過三向線性插值的方法構(gòu)造梯度tpms點陣結(jié)構(gòu),點陣胞元的梯度值等于六面體網(wǎng)格單元的密度值;

    6、分別提取共形六面體網(wǎng)格單元節(jié)點空間坐標(biāo),并確定其對應(yīng)梯度tpms點陣結(jié)構(gòu)的單胞的密度場信息;

    7、提取共形六面體網(wǎng)格單元對應(yīng)的tpms單胞的空間坐標(biāo),通過等參變換將其填充至共形六面體網(wǎng)格中;

    8、遍歷所有共形六面體網(wǎng)格單元,得到梯度共形點陣結(jié)構(gòu);

    9、將所述梯度共形點陣結(jié)構(gòu)輸出為目標(biāo)模型源文件。

    10、為優(yōu)化上述技術(shù)方案,將待設(shè)計的原始模型劃分為共形六面體網(wǎng)格具體包括:確定網(wǎng)格單元尺寸、網(wǎng)格單元類型、網(wǎng)格生成技術(shù)。網(wǎng)格單元尺寸即為待填充點陣單胞的尺寸,根據(jù)增材制造工藝要求,單元尺寸不宜過小避免不能打印,單元尺寸也不應(yīng)該過大導(dǎo)致丟失模型細節(jié);網(wǎng)格單元類型宜選擇8節(jié)點線性六面體單元;網(wǎng)格生成技術(shù)可選擇掃掠中的中性軸算法。

    11、為優(yōu)化上述技術(shù)方案,對劃分好的共形六面體網(wǎng)格模型進行拓撲優(yōu)化,需要確定結(jié)構(gòu)所用材料的彈性模量ec,泊松比υ,密度ρ,結(jié)構(gòu)的邊界條件、載荷加載,拓撲優(yōu)化的優(yōu)化算法、收斂準(zhǔn)則、優(yōu)化目標(biāo)與約束條件,基于最小應(yīng)變能準(zhǔn)則的拓撲優(yōu)化問題,其拓撲優(yōu)化的數(shù)學(xué)模型可以描述如下:

    12、find:ρ=[ρ1,ρ2,…,ρi,…,ρn]t

    13、minimize:

    14、subject?to:ku(ρ)=f

    15、

    16、0≤ρmin≤ρi≤ρmax≤1

    17、其中,目標(biāo)函數(shù)c表示結(jié)構(gòu)應(yīng)變能,以最小應(yīng)變能為優(yōu)化目標(biāo),即最大剛度;u(ρ)表示節(jié)點位移向量,通過求解有限元平衡方程ku(ρ)=f獲得,k表示整體剛度矩陣;n表示拓撲優(yōu)化設(shè)計域中的離散六面體單元數(shù),ρ為各六面體單元的歸一化密度場;v*表示拓撲優(yōu)化設(shè)計域材料的體積限值,v=[v1,v2,…,vi,vn]t為各六面體單元的體積向量,ρmin和ρmax分別表示六面體單元密度場的下限和上限值。在數(shù)值實現(xiàn)中,優(yōu)化問題采用oc算法求解,并用伴隨法導(dǎo)出的靈敏度作為輸入條件,最后在最優(yōu)解時輸出六面體單元密度場ρfin。

    18、為優(yōu)化上述技術(shù)方案,通過三向線性插值構(gòu)造連續(xù)的梯度tpms點陣密度場,其原理是通過整體點陣結(jié)構(gòu)包圍盒八個已知頂點的信息來推斷包圍盒中任意一點的數(shù)值,其步驟是分別沿著x、y、z方向依次作線性插值。具體而言,假設(shè)已知函數(shù)f在p1、p2至p8八個頂點的信息,要求解空間內(nèi)點p的值,可首先沿x方向作線性插值,利用p1和p2求得r1的函數(shù)值,同理可得r2、r3和r4的值;之后基于r1、r2、r3和r4的求解結(jié)果,沿y方向作線性插值,可求得o1和o2的函數(shù)值;最后再利用o1和o2沿z方向作線性插值,求得未知點p的結(jié)果,具體公式如下:

    19、

    20、式中,x表示點ri的x軸坐標(biāo),x2i表示點p2i的x軸坐標(biāo);x2i-1表示點p2i-1的x軸坐標(biāo);y表示點oj的y軸坐標(biāo),y2j表示點r2j的y軸坐標(biāo);y2j-1表示點r2j-1的y軸坐標(biāo);z表示點pk的z軸坐標(biāo),z2k表示點o2k的z軸坐標(biāo);z2k-1表示點o2k-1的z軸坐標(biāo)。

    21、為優(yōu)化上述技術(shù)方案,提取共形六面體網(wǎng)格單元所對應(yīng)的tpms單胞的密度場信息,假設(shè)梯度tpms點陣結(jié)構(gòu)在x、y、z方向上的數(shù)量分別為a、b、c個,生成tpms點陣的分辨率為n,則第i+1個單胞對應(yīng)的密度信息在梯度tpms點陣密度場信息中的索引是:

    22、[n*i:n*(i+1)+1,0:n+1,0:n+1]i<a

    23、[n*(i-a):n*(i–a+1)+1,n:2n+1,0:n+1]a≤i<2a

    24、…

    25、[n*(i–(b–1)*a):n*(i–(b–1)*a+1)+1,(b–1)*n:b*n+1,0:n+1](b–1)*a≤i<b*a

    26、[n*(i–b*a):n*(i–b*a+1)+1,0:n+1,n:2n+1]b*a≤i<(b+1)*a

    27、[n*(i–(b+1)*a):n*(i–(b+1)*a+1)+1,n:2n+1,n:2n+1](b+1)*a≤i<(b+2)*a

    28、…

    29、[n*(i–(2b–1)*a):n*(i–(2b–1)*a+1)+1,(b–1)*n:b*n+1,n:2n+1](2b-1)*a≤i<2b*a

    30、[n*(i–2b*a):n*(i–2b*a+1)+1,0:n+1,2n:3n+1]2b*a≤i<(2b+1)*a

    31、[n*(i–(2b+1)*a):n*(i–(2b+1)*a+1)+1,n:2n+1,2n:3n+1](2b+1)*a≤i<(2b+2)*a

    32、…...

    【技術(shù)保護點】

    1.基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法,其特征在于,包括如下步驟:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法,其特征在于,采用中性軸算法將待設(shè)計的原始模型劃分為共形六面體網(wǎng)格,所述共形六面體網(wǎng)格中:

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法,其特征在于,所述針對劃分好的所述共形六面體網(wǎng)格進行拓撲優(yōu)化前處理計算,提取網(wǎng)格單元的密度場信息,其拓撲優(yōu)化的數(shù)學(xué)模型描述如下:

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法,其特征在于,所述通過三向線性插值的方法構(gòu)造梯度TPMS點陣結(jié)構(gòu),具體包括:

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法,其特征在于,所述通過三向線性插值的方法構(gòu)造梯度TPMS點陣結(jié)構(gòu),具體包括:

    6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法,其特征在于,所述提取共形六面體網(wǎng)格單元對應(yīng)的TPMS單胞的空間坐標(biāo),具體包括:

    7.如權(quán)利要求1至6中任一項所述的基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法,將其設(shè)計過程構(gòu)建為完整的設(shè)計系統(tǒng),所述設(shè)計系統(tǒng)包括:

    8.如權(quán)利要求1至6中任一項所述的基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法在生成計算機三維建模上的應(yīng)用;其特征在于,將驗證后的三維點陣模型輸出為目標(biāo)模型源文件,用于后續(xù)的工業(yè)設(shè)計、生產(chǎn)制造。

    ...

    【技術(shù)特征摘要】

    1.基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法,其特征在于,包括如下步驟:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法,其特征在于,采用中性軸算法將待設(shè)計的原始模型劃分為共形六面體網(wǎng)格,所述共形六面體網(wǎng)格中:

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法,其特征在于,所述針對劃分好的所述共形六面體網(wǎng)格進行拓撲優(yōu)化前處理計算,提取網(wǎng)格單元的密度場信息,其拓撲優(yōu)化的數(shù)學(xué)模型描述如下:

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于拓撲優(yōu)化密度場映射的梯度共形點陣設(shè)計方法,其特征在于,所述通過三向線性插值的方法構(gòu)造梯度tpms點陣結(jié)構(gòu),具體包括:

    5.根據(jù)權(quán)利要求...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:張長東艾聰劉婷婷廖文和宋康輝申鑫澤李旭東楊振東
    申請(專利權(quán))人:南京理工大學(xué)
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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