【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及半導體，特別是涉及一種基于聚類的測試圖形繪制優化方法、系統及終端。
技術介紹
1、在半導體制造領域，光學鄰近效應校正（optical?proximity?correction,?opc）的模型構建依賴于繪制測試圖形并收集相應的量測數據。測試圖形是為驗證和校準光刻模型而設計的，通過繪制這些圖形并收集量測數據，可以建立和優化光刻模型。然而，現行的測試圖形繪制方法往往只關注關鍵尺寸（cd）和光刻工藝可實現的最小周期（pitch），這可能導致產生違反設計規范的圖形。盡管某些現有工具能夠避免繪制違規的測試圖形，但它們仍然保留了這些圖形的繪制空間和標簽，未能有效利用版圖面積，從而造成了版圖面積的不必要浪費。
技術實現思路
1、鑒于以上所述現有技術的缺點，本專利技術的目的在于提供一種基于聚類的測試圖形繪制優化方法、系統及終端，用于解決現有的測試圖形繪制方法導致版圖面積浪費等技術問題。
2、為實現上述目的及其他相關目的，本專利技術提供一種基于聚類的測試圖形繪制優化方法，所述方法包括：根據規劃的測試圖形繪制面積以及單個測試圖形面積，確定可放置的測試圖形數量；枚舉所有測試圖形設計參數的組合，并過濾違反設計規則的組合；基于過濾后剩余的組合獲得測試圖形數量的目標設計參數組合；基于測試圖形種類，對各目標設計參數組合進行聚類分析，并根據聚類結果將各目標設計參數組合按照類別進行順序排列，生成整個測試圖形版圖。
3、于本專利技術的一實施例中，所述枚舉所有測試圖形設計參數的組合
4、于本專利技術的一實施例中，所述設定每個測試圖形種類的測試圖形設計參數的范圍以及步長，枚舉每個測試圖形種類的所有測試圖形設計參數的組合包括：定義各測試圖形設計參數；設定每個測試圖形種類的測試圖形設計參數的范圍以及步長；基于設定的范圍以及步長，生成每個測試圖形種類的設計參數向量；其中，所述設計參數向量包括：對應測試圖形種類的所有測試圖形設計參數的組合。
5、于本專利技術的一實施例中，所述基于過濾后剩余的組合獲得所述測試圖形數量的目標設計參數組合包括：對比過濾后剩余的組合數量以及確定的可放置的測試圖形數量；?若剩余的組合數量大于所述測試圖形數量，則通過減少測試圖形種類、縮小測試圖形設計參數的范圍以及增大測試圖形設計參數的步長中的一種或多種方式，減少枚舉的測試圖形設計參數的組合數量，直至獲得所述測試圖形數量的目標設計參數組合；若剩余的組合數量小于所述測試圖形數量，則通過增加測試圖形種類、擴大測試圖形設計參數的范圍以及減小測試圖形設計參數的步長中的一種或多種方式，增加枚舉的測試圖形設計參數的組合數量，直至獲得所述測試圖形數量的目標設計參數組合；若剩余的組合數量等于所述測試圖形數量，則將剩余的組合作為目標設計參數組合。
6、于本專利技術的一實施例中，所述基于測試圖形種類，對各目標設計參數組合進行聚類分析，并根據聚類結果將各目標設計參數組合按照類別進行順序排列，生成整個測試圖形版圖包括：基于測試圖形種類確定聚類類別數量以及初步聚類中心，并通過迭代進行聚類和聚類中心調整確定聚類類別數量的設計參數組合分類；將各設計參數組合分類的目標設計參數組合按照類別進行順序排列，并按排列順序依次放置于測試圖形版圖內，獲得整個測試圖形版圖。
7、于本專利技術的一實施例中，所述基于測試圖形種類確定聚類類別數量以及初步聚類中心包括：根據已有的測試圖形種類確定聚類類別數量；隨機從每個測試圖形種類的各目標設計參數組合中選取一目標設計參數組合作為對對應分類的初步的聚類中心。
8、于本專利技術的一實施例中，所述通過迭代進行聚類和聚類中心調整確定聚類類別數量的設計參數組合分類包括：基于初步的聚類中心，對非聚類中心的各目標設計參數組合進行聚類與操作聚類中心調整操作，獲得各設計參數組合分類以及新的聚類中心；檢測聚類中心是否穩定；若穩定，則將獲得的各設計參數組合分類作為最終的設計參數組合分類；若不穩定，則基于新的聚類中心，對非聚類中心的各目標設計參數組合進行聚類與操作聚類中心調整操作，直至檢測到穩定的聚類中心獲得最終的設計參數組合分類。
9、于本專利技術的一實施例中，所述聚類與操作聚類中心調整操作包括：對非聚類中心的各目標設計參數組合分別計算其到各聚類中心的距離，并將該目標設計參數組合與與其距離最小的聚類中心分在同一類，以獲得各設計參數組合分類；計算每個設計參數組合分類中各測試圖形設計參數的平均值，并組合獲得對應設計參數組合分類的設計參數平均值組合；計算每個設計參數組合分類中的各目標設計參數組合分別到其對應的設計參數平均值組合的距離，將距離最小的目標設計參數組合作為該設計參數組合分類的新的聚類中心。
10、為實現上述目的及其他相關目的，本專利技術提供一種基于聚類的測試圖形繪制優化系統，所述系統包括：配置測試圖形數量確定模塊，用于根據規劃的測試圖形繪制面積以及單個測試圖形面積，確定可放置的測試圖形數量；組合枚舉及過濾模塊，連接所述配置測試圖形數量確定模塊，用于枚舉所有測試圖形設計參數的組合，并過濾違反設計規則的組合；組合確定模塊，連接所述組合枚舉及過濾模塊，用于基于過濾后剩余的組合獲得所述測試圖形數量的目標設計參數組合；?測試圖形生成模塊，連接所述組合枚舉及過濾模塊以及組合確定模塊，用于基于測試圖形種類，對各目標設計參數組合進行聚類分析，并根據聚類結果將各目標設計參數組合按照類別進行順序排列，生成整個測試圖形版圖。
11、為實現上述目的及其他相關目的，本專利技術提供一種電子終端，包括：一或多個存儲器及一或多個處理器；所述一或多個存儲器，用于存儲計算機程序；所述一或多個處理器，連接所述存儲器，用于運行所述計算機程序以執行所述基于聚類的測試圖形繪制優化方法。
12、如上所述，本專利技術是一種基于聚類的測試圖形繪制優化方法、系統及終端，具有以下有益效果：首先根據預設的版圖面積和單個測試圖形的面積，計算出可放置的測試圖形數量。接著枚舉所有可能的設計參數組合，并通過篩選排除那些違反設計規則的組合。然后從剩余的有效組合中確定目標設計參數組合。進一步根據測試圖形的種類，對這些目標設計參數組合進行聚類分析，并按類別順序排列，以生成整個測試圖形版圖。本專利技術不僅通過過濾無效的設計參數組合減少了版圖面積的浪費，還通過聚類分析簡化了測試圖形的檢查和瀏覽過程。生成的測試圖形版圖在創建時就排除了無效圖案，省去了后續處理步驟，提高了效率。此外，生成的腳本保留了高版圖利用率的框架，使得在需要時可以快速替換特定測試圖形，實現版圖的快速迭代。
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1.一種基于聚類的測試圖形繪制優化方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根據權利要求1中所述的基于聚類的測試圖形繪制優化方法，其特征在于，所述枚舉所有測試圖形設計參數的組合，并過濾違反設計規則的組合包括：
3.根據權利要求2中所述的基于聚類的測試圖形繪制優化方法，其特征在于，所述設定每個測試圖形種類的測試圖形設計參數的范圍以及步長，枚舉每個測試圖形種類的所有測試圖形設計參數的組合包括：
4.根據權利要求1中所述的基于聚類的測試圖形繪制優化方法，其特征在于，所述基于過濾后剩余的組合獲得所述測試圖形數量的目標設計參數組合包括：
5.根據權利要求1中所述的基于聚類的測試圖形繪制優化方法，其特征在于，所述基于測試圖形種類，對各目標設計參數組合進行聚類分析，并根據聚類結果將各目標設計參數組合按照類別進行順序排列，生成整個測試圖形版圖包括：
6.根據權利要求5中所述的基于聚類的測試圖形繪制優化方法，其特征在于，所述基于測試圖形種類確定聚類類別數量以及初步聚類中心包括：
7.根據權利要求5中所述的基于聚類的測試圖形繪制優化
8.根據權利要求7中所述的基于聚類的測試圖形繪制優化方法，其特征在于，所述聚類與操作聚類中心調整操作包括：
9.一種基于聚類的測試圖形繪制優化系統，其特征在于，所述系統包括：
10.一種電子終端，其特征在于，包括：一或多個存儲器及一或多個處理器；
...【技術特征摘要】
1.一種基于聚類的測試圖形繪制優化方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根據權利要求1中所述的基于聚類的測試圖形繪制優化方法，其特征在于，所述枚舉所有測試圖形設計參數的組合，并過濾違反設計規則的組合包括：
3.根據權利要求2中所述的基于聚類的測試圖形繪制優化方法，其特征在于，所述設定每個測試圖形種類的測試圖形設計參數的范圍以及步長，枚舉每個測試圖形種類的所有測試圖形設計參數的組合包括：
4.根據權利要求1中所述的基于聚類的測試圖形繪制優化方法，其特征在于，所述基于過濾后剩余的組合獲得所述測試圖形數量的目標設計參數組合包括：
5.根據權利要求1中所述的基于聚類的測試圖形繪制優化方法，其特征在于，所述基于測試圖形種類，對各目標設計參數...
【專利技術屬性】
技術研發人員：黃光遙，楊博文，姚軍，
申請(專利權)人：華芯程杭州科技有限公司，
類型：發明
國別省市：
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