【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及半導(dǎo)體，特別是涉及一種二維插值計算方法、系統(tǒng)及終端。
技術(shù)介紹
1、在光刻工藝過程中，存在兩種重要的過程，即光學(xué)過程和化學(xué)過程。光學(xué)過程為光照射在掩膜上發(fā)生衍射、衍射級被投影透鏡收集并會聚在光刻膠表面。化學(xué)過程為投影在光刻膠上的圖像激發(fā)光化學(xué)反應(yīng)，烘烤后光刻膠局部可溶于顯影液。計算光刻（computational?lithography）是一種使用計算機來模擬和仿真光刻過程中的光學(xué)和化學(xué)過程的技術(shù)。其主要目的是通過理論探索來增大光刻分辨率和工藝窗口，并指導(dǎo)工藝參數(shù)的優(yōu)化。
2、在對連續(xù)圖像進行采樣和量化后，計算原始連續(xù)圖像在任意期望坐標(biāo)下的值是很重要的。在不同于采樣點的位置計算?i(x，y)?值的過程稱為插值。插值適合于采樣距離δx,?δy的選擇。實驗結(jié)果表明，最大采樣距離是圖像帶寬的函數(shù)，這些值代表了最初為時間采樣而引入的香農(nóng)采樣理論的擴展。現(xiàn)在，我們將假設(shè)采樣距離δx,δy足夠小，這樣的樣本就可以很好地表示圖像。由于光強函數(shù)是沿著二維坐標(biāo)進行采樣的，我們先來研究下一維采樣的插值方法。為了簡單起見，我們使用的采樣間隔為1。
3、線性插值是一個稍微復(fù)雜一點的插值，結(jié)果也有所改進。如果對于最鄰近插值法，我們需要一個樣本，對于線性插值，我們使用兩個樣本來計算一個新位置的插值。在這種情況下，插值函數(shù)的表達(dá)式為：
4、，其中??；（1）
5、推廣到二維。具體來說，它由兩個分量組成：在x方向插值和在y方向插值。對于二維線性插值（bilinear），我們得到：
6、；
7、其中，??和?為插值點的坐標(biāo)。
8、然而，二維插值算法在計算效率方面存在顯著缺陷。當(dāng)需要處理的數(shù)據(jù)點數(shù)量龐大時，插值計算所需的計算時間和資源會急劇增加，這不僅影響了算法的實時性，也限制了其在高分辨率圖像處理中的應(yīng)用潛力。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，本專利技術(shù)的目的在于提供一種二維插值計算方法、系統(tǒng)及終端，用于解決現(xiàn)有技術(shù)基于采樣點數(shù)據(jù)進行插值計算效率低且準(zhǔn)確度不高等技術(shù)問題。
2、為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本專利技術(shù)提供一種二維插值計算方法，所述方法包括：?計算frame區(qū)域內(nèi)各像素區(qū)域的光強數(shù)據(jù)；其中，各像素區(qū)域在frame區(qū)域內(nèi)以矩陣形式排布；基于frame區(qū)域內(nèi)像素區(qū)域排布，構(gòu)造用于保存各像素區(qū)域系數(shù)的系數(shù)二維數(shù)組；確定輸入的當(dāng)前插值點所在的像素區(qū)域是否計算過系數(shù)，且在未計算過系數(shù)的情況下計算對應(yīng)像素區(qū)域的系數(shù)，并保存至所述系數(shù)二維數(shù)組的相應(yīng)位置；基于所述系數(shù)二維數(shù)組中當(dāng)前插值點所在的像素區(qū)域的系數(shù)計算當(dāng)前插值點的插值。
3、于本專利技術(shù)的一實施例中，基于frame區(qū)域內(nèi)像素區(qū)域排布，構(gòu)造用于保存各像素區(qū)域系數(shù)的系數(shù)二維數(shù)組包括：基于frame區(qū)域內(nèi)像素區(qū)域排布，構(gòu)造系數(shù)二維數(shù)組以及系數(shù)標(biāo)志字段二維數(shù)組，并為所述系數(shù)二維數(shù)組以及系數(shù)標(biāo)志字段二維數(shù)組分配內(nèi)存；其中，所述系數(shù)二維數(shù)組用于按照像素區(qū)域排布儲存各像素區(qū)域的16個系數(shù)；所述系數(shù)標(biāo)志字段二維數(shù)組用于按照像素區(qū)域排布儲存各像素區(qū)域的系數(shù)標(biāo)志值。
4、于本專利技術(shù)的一實施例中，所述系數(shù)標(biāo)志值在對應(yīng)像素區(qū)域的系數(shù)未計算過的情況下設(shè)置為未計算標(biāo)志值，在對應(yīng)像素區(qū)域的系數(shù)計算過的情況下設(shè)置已計算標(biāo)志值。
5、于本專利技術(shù)的一實施例中，所述確定輸入的當(dāng)前插值點所在的像素區(qū)域是否計算過系數(shù)，且在未計算過系數(shù)的情況下計算對應(yīng)像素區(qū)域的系數(shù)，并保存至所述系數(shù)二維數(shù)組的相應(yīng)位置包括：對當(dāng)前插值點的橫坐標(biāo)以及縱坐標(biāo)取整確定當(dāng)前插值點是否在所述frame區(qū)域內(nèi)，且在確定在所述frame區(qū)域內(nèi)的情況下，確定當(dāng)前插值點所在的像素區(qū)域；基于所述系數(shù)標(biāo)志字段二維數(shù)組確定當(dāng)前插值點所在的像素區(qū)域是否計算過系數(shù)，在未計算過系數(shù)的情況下計算對應(yīng)像素區(qū)域的系數(shù)，并將其保存至所述系數(shù)二維數(shù)組相應(yīng)位置以及更新所述系數(shù)標(biāo)志字段二維數(shù)組中對應(yīng)像素區(qū)域的系數(shù)標(biāo)志值。
6、于本專利技術(shù)的一實施例中，計算像素區(qū)域的系數(shù)的方式包括：定義left矩陣以及right矩陣；基于當(dāng)前插值點附近每個交點的光強數(shù)據(jù)計算一個導(dǎo)數(shù)值，構(gòu)成f矩陣；基于left矩陣、right矩陣以及f矩陣計算對應(yīng)當(dāng)前插值點的系數(shù)矩陣，并將其作為對應(yīng)像素區(qū)域的系數(shù)矩陣；其中，所述系數(shù)矩陣為4×4矩陣。
7、于本專利技術(shù)的一實施例中，所述基于系數(shù)二維數(shù)組中當(dāng)前插值點所對應(yīng)的像素點的系數(shù)計算當(dāng)前插值點的插值包括：計算當(dāng)前插值點相對于其所在的像素區(qū)域的偏移量；基于當(dāng)前插值點相對于其所在的像素區(qū)域的偏移量以及對應(yīng)像素區(qū)域的系數(shù)矩陣，計算獲得當(dāng)前插值點的插值。
8、于本專利技術(shù)的一實施例中，若需要對多個frame區(qū)域的插值點進行插值計算，使用內(nèi)存池保存系數(shù)二維數(shù)組。
9、于本專利技術(shù)的一實施例中，計算frame區(qū)域內(nèi)各像素區(qū)域的光強數(shù)據(jù)包括：通過光學(xué)強度模擬計算公式計算各像素區(qū)域的光強數(shù)據(jù)。
10、為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本專利技術(shù)提供一種二維插值計算系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：光強計算模塊，用于計算frame區(qū)域內(nèi)各像素區(qū)域的光強數(shù)據(jù)；其中，各像素區(qū)域在frame區(qū)域內(nèi)以矩陣形式排布；系數(shù)二維數(shù)組構(gòu)建模塊，連接所述光強計算模塊，用于基于frame區(qū)域內(nèi)像素區(qū)域排布，構(gòu)造用于保存各像素區(qū)域系數(shù)的系數(shù)二維數(shù)組；?系數(shù)判斷及計算模塊，連接所述系數(shù)二維數(shù)組構(gòu)建模塊，用于確定輸入的當(dāng)前插值點所在的像素區(qū)域是否計算過系數(shù)，且在未計算過系數(shù)的情況下計算對應(yīng)像素區(qū)域的系數(shù)，并保存至所述系數(shù)二維數(shù)組的相應(yīng)位置；插值計算模塊，連接所述系數(shù)判斷及計算模塊，用于基于所述系數(shù)二維數(shù)組中當(dāng)前插值點所在的像素區(qū)域的系數(shù)計算當(dāng)前插值點的插值。
11、為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本專利技術(shù)提供一種電子終端，包括：一或多個存儲器及一或多個處理器；所述一或多個存儲器，用于存儲計算機程序；所述一或多個處理器，連接所述存儲器，用于運行所述計算機程序以執(zhí)行所述二維插值計算方法。
12、如上所述，本專利技術(shù)是一種二維插值計算方法、系統(tǒng)及終端，具有以下有益效果：本專利技術(shù)通過計算frame區(qū)域內(nèi)各個像素點的光強數(shù)據(jù)，并依據(jù)像素區(qū)域在frame內(nèi)的矩陣布局，構(gòu)建了一個二維系數(shù)數(shù)組，用以存儲每個像素區(qū)域的系數(shù)。在處理過程中，首先檢查輸入的當(dāng)前插值點所對應(yīng)的像素區(qū)域是否已計算過系數(shù)，若未計算則立即計算該像素區(qū)域的系數(shù)，并將其存儲在所述二維系數(shù)數(shù)組的對應(yīng)位置。若計算過系數(shù)，根據(jù)該二維系數(shù)數(shù)組中當(dāng)前插值點所屬像素區(qū)域的系數(shù)，精確計算出當(dāng)前插值點的插值結(jié)果。本專利技術(shù)在確保不降低原有算法準(zhǔn)確性的基礎(chǔ)上，顯著提升了二維插值計算的效率與精確度，同時具備良好的通用性，能夠適配多種數(shù)據(jù)類型的插值計算需求。
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1.一種二維插值計算方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的二維插值計算方法，其特征在于，基于frame區(qū)域內(nèi)像素區(qū)域排布，構(gòu)造用于保存各像素區(qū)域系數(shù)的系數(shù)二維數(shù)組包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2中所述的二維插值計算方法，其特征在于，所述系數(shù)標(biāo)志值在對應(yīng)像素區(qū)域的系數(shù)未計算過的情況下設(shè)置為未計算標(biāo)志值，在對應(yīng)像素區(qū)域的系數(shù)計算過的情況下設(shè)置已計算標(biāo)志值。
4.根據(jù)權(quán)利要求3中所述的二維插值計算方法，其特征在于，所述確定輸入的當(dāng)前插值點所在的像素區(qū)域是否計算過系數(shù)，且在未計算過系數(shù)的情況下計算對應(yīng)像素區(qū)域的系數(shù)，并保存至所述系數(shù)二維數(shù)組的相應(yīng)位置包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求4中所述的二維插值計算方法，其特征在于，計算像素區(qū)域的系數(shù)的方式包括：
6.根據(jù)權(quán)利要求5中所述的二維插值計算方法，其特征在于，所述基于系數(shù)二維數(shù)組中當(dāng)前插值點所對應(yīng)的像素點的系數(shù)計算當(dāng)前插值點的插值包括：
7.根據(jù)權(quán)利要求2中所述的二維插值計算方法，其特征在于，若需要對多個frame區(qū)域的插值點進行插值計算，使用內(nèi)存池保存系數(shù)二維
8.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的二維插值計算方法，其特征在于，計算frame區(qū)域內(nèi)各像素區(qū)域的光強數(shù)據(jù)包括：通過光學(xué)強度模擬計算公式計算各像素區(qū)域的光強數(shù)據(jù)。
9.一種二維插值計算系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)包括：
10.一種電子終端，其特征在于，包括：一或多個存儲器及一或多個處理器；
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種二維插值計算方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的二維插值計算方法，其特征在于，基于frame區(qū)域內(nèi)像素區(qū)域排布，構(gòu)造用于保存各像素區(qū)域系數(shù)的系數(shù)二維數(shù)組包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2中所述的二維插值計算方法，其特征在于，所述系數(shù)標(biāo)志值在對應(yīng)像素區(qū)域的系數(shù)未計算過的情況下設(shè)置為未計算標(biāo)志值，在對應(yīng)像素區(qū)域的系數(shù)計算過的情況下設(shè)置已計算標(biāo)志值。
4.根據(jù)權(quán)利要求3中所述的二維插值計算方法，其特征在于，所述確定輸入的當(dāng)前插值點所在的像素區(qū)域是否計算過系數(shù)，且在未計算過系數(shù)的情況下計算對應(yīng)像素區(qū)域的系數(shù)，并保存至所述系數(shù)二維數(shù)組的相應(yīng)位置包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求4中所述的二維插值計算...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：請求不公布姓名，
申請(專利權(quán))人：華芯程杭州科技有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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