【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本公開涉及模具制造，具體涉及一種標(biāo)識(shí)處理方法、裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)及電子設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、隨著現(xiàn)代工業(yè)的發(fā)展，對(duì)產(chǎn)品加工模具的制造提出了更高的要求。在產(chǎn)品表面模制文字和圖案等標(biāo)識(shí)可以有力提高產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力，有許多產(chǎn)品的文字與圖案排布在產(chǎn)品的弧面上，這就要求產(chǎn)品加工模具需要在其對(duì)應(yīng)的弧面上進(jìn)行標(biāo)識(shí)的排布與加工。
2、目前，在平面設(shè)計(jì)圖中按照目標(biāo)標(biāo)識(shí)樣式與大小將標(biāo)識(shí)排布好后，垂直投影到產(chǎn)品加工模具的弧面上時(shí)，如圖1所示，標(biāo)識(shí)某一尺寸(例如高度)從h被拉伸為l，且由于存在弧度，實(shí)際加工出的標(biāo)識(shí)尺寸變形更為嚴(yán)重，不符合設(shè)計(jì)要求。為保證投影到弧面上的標(biāo)識(shí)尺寸符合要求，需要對(duì)平面標(biāo)識(shí)壓縮后再投影到弧面上。
3、相關(guān)技術(shù)中，如圖2所示，將原標(biāo)識(shí)按照弧面的法向角進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，得到旋轉(zhuǎn)后的標(biāo)識(shí)；將旋轉(zhuǎn)后的標(biāo)識(shí)沿法向線方向投影到弧面上，得到弧面上的投影標(biāo)識(shí)；將投影標(biāo)識(shí)再垂直投影到標(biāo)識(shí)平面上，得到壓縮后的標(biāo)識(shí)，從而得到壓縮比。但是，當(dāng)標(biāo)識(shí)沿圓周排布且標(biāo)識(shí)壓縮方向在圓周的徑向上時(shí)，該方法依賴于徑向，無法同時(shí)排布整圈標(biāo)識(shí)，需要將標(biāo)識(shí)裁剪為很多部分，壓縮投影后再進(jìn)行拼接，但會(huì)出現(xiàn)接痕，不符合設(shè)計(jì)要求；并且由于弧面弧度的存在，旋轉(zhuǎn)后的標(biāo)識(shí)與弧面上的投影標(biāo)識(shí)的尺寸仍存在一定誤差，導(dǎo)致加工后的標(biāo)識(shí)尺寸與設(shè)計(jì)要求存在一定誤差。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、為了解決上述技術(shù)問題，本公開提供了一種標(biāo)識(shí)處理方法、裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)及電子設(shè)備，以一次性排布整個(gè)目標(biāo)弧面上的標(biāo)識(shí)，且使得投影到目標(biāo)弧面上的標(biāo)識(shí)尺寸符合設(shè)計(jì)要求。
2、本公開提供了一種標(biāo)識(shí)處理方法，包括：
3、獲取標(biāo)識(shí)平面上的預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置，以及原標(biāo)識(shí)的至少一個(gè)標(biāo)識(shí)點(diǎn)與所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置之間的原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度，其中，所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置與所述原標(biāo)識(shí)相交疊，所述原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度為沿標(biāo)識(shí)壓縮方向上的長(zhǎng)度且大于0；
4、將所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置沿預(yù)設(shè)投影方向投影至目標(biāo)弧面上，得到投影基準(zhǔn)位置；
5、以所述投影基準(zhǔn)位置為起點(diǎn)，沿所述目標(biāo)弧面的彎曲方向在所述目標(biāo)弧面上做弧線，其中，所述弧線相對(duì)于所述投影基準(zhǔn)位置的位置，與對(duì)應(yīng)標(biāo)識(shí)點(diǎn)相對(duì)于所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置的位置相同，且所述弧線的弧長(zhǎng)與對(duì)應(yīng)標(biāo)識(shí)點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度相等；
6、基于所述原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度以及所述弧線沿所述預(yù)設(shè)投影方向在預(yù)設(shè)平面上的投影長(zhǎng)度，確定標(biāo)識(shí)壓縮比，所述預(yù)設(shè)平面與所述標(biāo)識(shí)平面平行或重合；
7、基于所述標(biāo)識(shí)壓縮比，在所述標(biāo)識(shí)壓縮方向上對(duì)所述原標(biāo)識(shí)進(jìn)行壓縮。
8、在一些實(shí)施例中，所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置在所述標(biāo)識(shí)壓縮方向上將所述原標(biāo)識(shí)分為第一標(biāo)識(shí)部分和第二標(biāo)識(shí)部分，所述原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度包括第一標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度和第二標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度；獲取原標(biāo)識(shí)的至少一個(gè)標(biāo)識(shí)點(diǎn)與所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置之間的原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度，包括：
9、獲取至少一對(duì)標(biāo)識(shí)點(diǎn)對(duì)，其中，所述標(biāo)識(shí)點(diǎn)對(duì)包括所述第一標(biāo)識(shí)部分上的第一標(biāo)識(shí)點(diǎn)以及所述第二標(biāo)識(shí)部分上的第二標(biāo)識(shí)點(diǎn)；
10、確定所述第一標(biāo)識(shí)點(diǎn)與所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置之間沿所述標(biāo)識(shí)壓縮方向上的長(zhǎng)度為所述第一標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度，以及所述第二標(biāo)識(shí)點(diǎn)與所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置之間沿所述標(biāo)識(shí)壓縮方向上的長(zhǎng)度為所述第二標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度。
11、在一些實(shí)施例中，所述弧線包括第一弧線和第二弧線，所述第一弧線相對(duì)于所述投影基準(zhǔn)位置的位置，與所述第一標(biāo)識(shí)點(diǎn)相對(duì)于所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置的位置相同，且所述第一弧線的弧長(zhǎng)與所述第一標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度相等；所述第二弧線相對(duì)于所述投影基準(zhǔn)位置的位置，與所述第二標(biāo)識(shí)點(diǎn)相對(duì)于所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置的位置相同，且所述第二弧線的弧長(zhǎng)與所述第二標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度相等。
12、在一些實(shí)施例中，基于所述原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度以及所述弧線沿所述預(yù)設(shè)投影方向在預(yù)設(shè)平面上的投影長(zhǎng)度，確定標(biāo)識(shí)壓縮比，包括：
13、確定所述第一弧線的終點(diǎn)沿所述預(yù)設(shè)投影方向在所述預(yù)設(shè)平面上的第一投影點(diǎn)，以及所述第二弧線的終點(diǎn)沿所述預(yù)設(shè)投影方向在所述預(yù)設(shè)平面上的第二投影點(diǎn)；
14、確定所述第一投影點(diǎn)與所述第二投影點(diǎn)之間沿所述標(biāo)識(shí)壓縮方向上的長(zhǎng)度為所述投影長(zhǎng)度；
15、將所述投影長(zhǎng)度與所述第一標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度和所述第二標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度之和的比值作為所述標(biāo)識(shí)壓縮比。
16、在一些實(shí)施例中，基于所述標(biāo)識(shí)壓縮比，在所述標(biāo)識(shí)壓縮方向上對(duì)所述原標(biāo)識(shí)進(jìn)行壓縮，包括：
17、保持所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置不變，將所述原標(biāo)識(shí)在所述標(biāo)識(shí)壓縮方向上向所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置的方向壓縮。
18、在一些實(shí)施例中，在獲取標(biāo)識(shí)平面上的預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置，以及原標(biāo)識(shí)的至少一個(gè)標(biāo)識(shí)點(diǎn)與所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置之間的原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度之前，所述方法還包括：
19、對(duì)所述原標(biāo)識(shí)進(jìn)行離散化，得到多個(gè)所述標(biāo)識(shí)點(diǎn)。
20、在一些實(shí)施例中，在基于所述標(biāo)識(shí)壓縮比，在所述標(biāo)識(shí)壓縮方向上對(duì)所述原標(biāo)識(shí)進(jìn)行壓縮之后，所述方法還包括：
21、將對(duì)所述原標(biāo)識(shí)進(jìn)行壓縮后得到的新標(biāo)識(shí)沿所述預(yù)設(shè)投影方向投影至所述目標(biāo)弧面上；
22、基于所述新標(biāo)識(shí)在所述目標(biāo)弧面上的投影，在所述目標(biāo)弧面上加工出所述新標(biāo)識(shí)。
23、本公開提供了一種標(biāo)識(shí)處理裝置，包括：
24、第一參數(shù)獲取模塊，用于獲取標(biāo)識(shí)平面上的預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置，以及在標(biāo)識(shí)壓縮方向上標(biāo)識(shí)上的至少一個(gè)標(biāo)識(shí)點(diǎn)與所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置之間的原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度，其中，所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置與所述標(biāo)識(shí)相交，所述原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度大于0；
25、第二參數(shù)獲取模塊，用于將所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置沿預(yù)設(shè)投影方向投影至目標(biāo)弧面上，得到投影基準(zhǔn)位置；
26、弧線生成模塊，用于以所述投影基準(zhǔn)位置為起始點(diǎn)，沿所述目標(biāo)弧面的彎曲方向在所述目標(biāo)弧面上做弧線，其中，所述弧線相對(duì)于所述投影基準(zhǔn)位置的位置，與對(duì)應(yīng)標(biāo)識(shí)點(diǎn)相對(duì)于所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置的位置相同，且所述弧線的弧長(zhǎng)與對(duì)應(yīng)標(biāo)識(shí)點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度相等；
27、壓縮比確定模塊，用于基于所述原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度以及所述弧線沿所述預(yù)設(shè)投影方向在所述標(biāo)識(shí)平面上的投影長(zhǎng)度，確定標(biāo)識(shí)壓縮比；
28、標(biāo)識(shí)壓縮模塊，用于基于所述標(biāo)識(shí)壓縮比，在所述標(biāo)識(shí)壓縮方向上對(duì)所述標(biāo)識(shí)進(jìn)行壓縮。
29、本公開還提供了一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)存儲(chǔ)程序或指令，所述程序或指令使計(jì)算機(jī)執(zhí)行上述任一種方法的步驟。
30、本公開還提供了一種電子設(shè)備，包括：
31、一個(gè)或多個(gè)處理器；
32、存儲(chǔ)器，用于存儲(chǔ)一個(gè)或多個(gè)程序或指令；
33、所述處理器通過調(diào)用所述存儲(chǔ)器存儲(chǔ)的程序或指令，用于執(zhí)行上述任一種方法的步驟。
34、本公開實(shí)施例提供的技術(shù)方案與現(xiàn)有技術(shù)相比具有如下優(yōu)點(diǎn)：
35、本公開實(shí)施例提供的技術(shù)方案，將標(biāo)識(shí)平面上的預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置沿預(yù)設(shè)投影方向投影至目標(biāo)弧面上，得到投影基準(zhǔn)位置，在目標(biāo)弧面上以投影基準(zhǔn)位置為起點(diǎn)，沿目標(biāo)弧面的彎曲方向在目標(biāo)弧面上做弧線，且弧線的弧長(zhǎng)等于標(biāo)識(shí)平面上原標(biāo)識(shí)的標(biāo)識(shí)點(diǎn)與預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置之間的原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度，如此，再將弧線沿預(yù)設(shè)投影方向在與標(biāo)識(shí)平面平行或重合的預(yù)設(shè)平面上投影，即可得到壓縮后的原標(biāo)識(shí)的標(biāo)識(shí)點(diǎn)到預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種標(biāo)識(shí)處理方法，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置在所述標(biāo)識(shí)壓縮方向上將所述原標(biāo)識(shí)分為第一標(biāo)識(shí)部分和第二標(biāo)識(shí)部分，所述原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度包括第一標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度和第二標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度；獲取原標(biāo)識(shí)的至少一個(gè)標(biāo)識(shí)點(diǎn)與所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置之間的原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度，包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述弧線包括第一弧線和第二弧線，所述第一弧線相對(duì)于所述投影基準(zhǔn)位置的位置，與所述第一標(biāo)識(shí)點(diǎn)相對(duì)于所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置的位置相同，且所述第一弧線的弧長(zhǎng)與所述第一標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度相等；所述第二弧線相對(duì)于所述投影基準(zhǔn)位置的位置，與所述第二標(biāo)識(shí)點(diǎn)相對(duì)于所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置的位置相同，且所述第二弧線的弧長(zhǎng)與所述第二標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度相等。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，基于所述原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度以及所述弧線沿所述預(yù)設(shè)投影方向在預(yù)設(shè)平面上的投影長(zhǎng)度，確定標(biāo)識(shí)壓縮比，包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述標(biāo)識(shí)壓縮比，在所述標(biāo)識(shí)壓縮方向上對(duì)所述原標(biāo)識(shí)進(jìn)行壓縮，包括：
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在獲取標(biāo)識(shí)平面
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在基于所述標(biāo)識(shí)壓縮比，在所述標(biāo)識(shí)壓縮方向上對(duì)所述原標(biāo)識(shí)進(jìn)行壓縮之后，所述方法還包括：
8.一種標(biāo)識(shí)處理裝置，其特征在于，包括：
9.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)存儲(chǔ)程序或指令，所述程序或指令使計(jì)算機(jī)執(zhí)行如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述方法的步驟。
10.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括：
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種標(biāo)識(shí)處理方法，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置在所述標(biāo)識(shí)壓縮方向上將所述原標(biāo)識(shí)分為第一標(biāo)識(shí)部分和第二標(biāo)識(shí)部分，所述原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度包括第一標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度和第二標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度；獲取原標(biāo)識(shí)的至少一個(gè)標(biāo)識(shí)點(diǎn)與所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置之間的原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度，包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述弧線包括第一弧線和第二弧線，所述第一弧線相對(duì)于所述投影基準(zhǔn)位置的位置，與所述第一標(biāo)識(shí)點(diǎn)相對(duì)于所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置的位置相同，且所述第一弧線的弧長(zhǎng)與所述第一標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度相等；所述第二弧線相對(duì)于所述投影基準(zhǔn)位置的位置，與所述第二標(biāo)識(shí)點(diǎn)相對(duì)于所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)位置的位置相同，且所述第二弧線的弧長(zhǎng)與所述第二標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度相等。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，基于所述原標(biāo)識(shí)長(zhǎng)度以及所述弧線沿所述預(yù)設(shè)投...
【專利技術(shù)屬性】
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