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    四探針測量儀、四探針測量系統(tǒng)及四探針測量儀測量待測晶圓的方法技術(shù)方案

    技術(shù)編號:44233777 閱讀:5 留言:0更新日期:2025-02-11 13:36
    本發(fā)明專利技術(shù)涉及半導(dǎo)體檢測技術(shù)領(lǐng)域,提供了四探針測量儀、四探針測量系統(tǒng)及四探針測量儀測量待測晶圓的方法,其中四探針測量儀包括:四個探針;四個套筒,導(dǎo)電板套筒上下開口,將各自的導(dǎo)電板探針包圍在內(nèi),且導(dǎo)電板探針與導(dǎo)電板套筒內(nèi)壁之間具有間隙;激光發(fā)射器,導(dǎo)電板激光發(fā)射器發(fā)射的激光從導(dǎo)電板套筒的上方穿過導(dǎo)電板間隙向下射入,照射到待測晶圓上;固定板,導(dǎo)電板固定板具有與導(dǎo)電板套筒相對的孔洞,導(dǎo)電板套筒從導(dǎo)電板孔洞中穿過,導(dǎo)電板固定板用于固定導(dǎo)電板套筒,以及阻擋導(dǎo)電板套筒外部的激光照射到待測晶圓上。本發(fā)明專利技術(shù)可以使探針和被測硅片表面形成良好的歐姆接觸,提高硅片測量的穩(wěn)定性。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及半導(dǎo)體檢測,具體涉及四探針測量儀、四探針測量系統(tǒng)及四探針測量儀測量待測晶圓的方法


    技術(shù)介紹

    1、四探針測量儀是測量半導(dǎo)體材料電阻率以及方塊電阻的專用儀器,用于測量棒狀、塊狀半導(dǎo)體材料(包括厚片和薄片)的電阻率以及硅片上的擴(kuò)散層、離子注入層、反新外延層的方塊電阻。儀器具有測量精度高、靈敏度高、穩(wěn)定性好,測量范圍廣,結(jié)構(gòu)緊湊的特點(diǎn),并且測量結(jié)果由數(shù)字直接顯示,使用方便。

    2、ⅲⅴ族、?ⅱⅵ族化合物半導(dǎo)體、sic、氮化鎵等由于材料特性的原因,用四探針測量時探針與待測表面難以形成良好的歐姆接觸,導(dǎo)致傳統(tǒng)的四探針方法難以在這些半導(dǎo)體的制備工藝中得到應(yīng)用。以上材料難以形成歐姆接觸的原因包括1.能帶結(jié)構(gòu)復(fù)雜:?這些半導(dǎo)體材料通常具有較復(fù)雜的能帶結(jié)構(gòu),與常見的硅材料不同。這使得在接觸界面處的電子態(tài)和能帶匹配變得困難,難以實(shí)現(xiàn)理想的歐姆接觸。例如,氮化鎵的能帶結(jié)構(gòu)具有高的電子親和能和較寬的禁帶寬度,導(dǎo)致在與金屬接觸時,難以找到合適的金屬材料來形成低電阻的歐姆接觸。2.表面態(tài)影響:化合物半導(dǎo)體表面往往存在大量的表面態(tài),這些表面態(tài)會捕獲載流子,影響接觸界面的電學(xué)性能。表面態(tài)可以在接觸界面處形成勢壘,阻礙載流子的傳輸,從而增加了接觸電阻,難以形成歐姆接觸。

    3、寬禁帶半導(dǎo)體通常具有較高的電子親和能和較寬的禁帶寬度,這使得它們在表面處相對容易形成耗盡層。耗盡層的形成與半導(dǎo)體的表面態(tài)、雜質(zhì)濃度以及外部條件等因素有關(guān)。在寬禁帶半導(dǎo)體中,表面態(tài)的存在可能導(dǎo)致表面附近的載流子濃度減少,從而形成耗盡層。用四探針測量時探針與待測表面也難以形成良好的歐姆接觸。

    4、因此,如何使探針和被測晶圓表面形成良好的歐姆接觸,是目前需要解決的問題。


    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    1、本專利技術(shù)的目的是提出一種四探針測量儀、四探針測量系統(tǒng)及四探針測量儀測量待測晶圓的方法,可以使探針和被測硅片表面形成良好的歐姆接觸,提高硅片測量的穩(wěn)定性。

    2、為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本專利技術(shù)提供了一種四探針測量儀,?包括:

    3、四個探針;

    4、四個套筒,所述套筒上下開口,將各自的所述探針包圍在內(nèi),且所述探針與所述套筒內(nèi)壁之間具有間隙;

    5、激光發(fā)射器,所述激光發(fā)射器發(fā)射的激光從所述套筒的上方穿過所述間隙向下射入,照射到待測晶圓上;

    6、固定板,所述固定板具有與所述套筒相對的孔洞,所述套筒從所述孔洞中穿過,所述固定板用于固定所述套筒,以及阻擋所述套筒外部的激光照射到待測晶圓上。

    7、可選方案中,所述四探針測量儀還包括:

    8、依次連接的上位機(jī)、控制去噪模塊和前置放大器;

    9、所述上位機(jī)向所述控制去噪模塊發(fā)送采集命令并控制所述激光發(fā)射器的開關(guān)頻率;

    10、所述控制去噪模塊根據(jù)所述上位機(jī)的采集指令控制所述前置放大器工作;

    11、所述前置放大器與所述四探針測量儀的探針連接,用于根據(jù)所述采集指令向其中兩根探針施加電流,并接收另外兩根探針的電壓降;以及將電壓信號傳送給所述控制去噪模塊;

    12、所述控制去噪模塊將電壓信號進(jìn)行放大并與激光發(fā)射器的開關(guān)頻率進(jìn)行運(yùn)算,抑制與所述激光發(fā)射器開關(guān)頻率不同頻或非同相的噪聲,然后將電壓信號再轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號發(fā)送給所述上位機(jī)。

    13、可選方案中,所述套筒的橫截面為圓形。

    14、本專利技術(shù)還提供了一種四探針測量系統(tǒng),包括上述的四探針測量儀,還包括軟擊穿電路結(jié)構(gòu),所述軟擊穿電路結(jié)構(gòu)用于在測量時連接于所述四探針測量儀;所述軟擊穿電路結(jié)構(gòu)包括:

    15、電容,所述電容的一端接地,另一端連接于充電電路和放電電路;

    16、所述充電電路用于對所述電容進(jìn)行充電;所述充電電路包括多條并聯(lián)的充電支路,每條所述充電支路包含有一控制當(dāng)前支路連通或關(guān)斷的第一開關(guān);每條所述充電支路提供的電能不同;

    17、所述放電電路用于對所述電容進(jìn)行放電;所述放電電路包括四條并聯(lián)的放電支路,每條所述放電支路連接于所述四探針測量儀的一個探針,每條所述放電支路包含有一控制當(dāng)前支路連通或關(guān)斷的第二開關(guān)。

    18、可選方案中,每條所述充電支路包括電壓源,所述電壓源的負(fù)極端接地,正極端連接于一電阻,所述電阻的另一個端連接于所述第一開關(guān),所述第一開關(guān)的另一端連接于所述電容;不同所述充電支路的電壓源提供不同的電壓。

    19、可選方案中,每條所述充電支路包括電流源,所述電流源的負(fù)極端接地,正極端連接有第一電阻,所述第一電阻的另一個端連接于所述第一開關(guān),所述第一開關(guān)的另一端連接于所述電容,所電流源的正極端和負(fù)極端之間還連接有第二電阻;不同所述充電支路的電流源提供不同的電流。

    20、可選方案中,所述充電電路包括:

    21、變壓器;

    22、多個串聯(lián)的分壓電阻,連接在所述變壓器和參考地之間;

    23、多個所述充電支路連接在不同的所述分壓電阻之間。

    24、可選方案中,所述放電電路包括:

    25、控制開關(guān),連接于所述電容;

    26、電阻,連接于所述控制開關(guān)的另一端;

    27、所述四條并聯(lián)的放電支路連接于所述電阻的另一端

    28、本專利技術(shù)還提供了一種四探針測量儀測量待測晶圓的方法,利用上述的四探針測量儀,所述方法包括:

    29、將晶圓放置在測試平臺上;

    30、使所述四探針測量儀的探針與晶圓表面之間物理接觸;

    31、用激光照射所述探針與晶圓的接觸面;

    32、向所述四探針測量儀的其中兩根針施加電流,測量另外兩根針之間的電壓降。

    33、可選方案中,用激光照射所述探針與晶圓的接觸面時,激光按照設(shè)定的頻率進(jìn)行照射或者持續(xù)照射。

    34、本專利技術(shù)的有益效果在于:

    35、本專利技術(shù)用激光照射半導(dǎo)體,使電子躍遷到導(dǎo)帶,同時產(chǎn)生空穴,形成電子?-?空穴對,從而減小半導(dǎo)體表面接觸勢壘,改善接觸特性,可以使探針和被測硅片表面形成良好的歐姆接觸,提高硅片測量的穩(wěn)定性。

    本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    1.一種四探針測量儀,其特征在于,包括:

    2.如權(quán)利要求1所述的四探針測量儀,其特征在于,所述四探針測量儀還包括:

    3.如權(quán)利要求1所述的四探針測量儀,其特征在于,所述套筒的橫截面為圓形。

    4.一種四探針測量系統(tǒng),其特征在于,包括權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的四探針測量儀,還包括軟擊穿電路結(jié)構(gòu),所述軟擊穿電路結(jié)構(gòu)用于在測量時連接于所述四探針測量儀;所述軟擊穿電路結(jié)構(gòu)包括:

    5.如權(quán)利要求4所述的四探針測量系統(tǒng),其特征在于,每條所述充電支路包括電壓源,所述電壓源的負(fù)極端接地,正極端連接于一電阻,所述電阻的另一個端連接于所述第一開關(guān),所述第一開關(guān)的另一端連接于所述電容;不同所述充電支路的電壓源提供不同的電壓。

    6.如權(quán)利要求4所述的四探針測量系統(tǒng),其特征在于,每條所述充電支路包括電流源,所述電流源的負(fù)極端接地,正極端連接有第一電阻,所述第一電阻的另一個端連接于所述第一開關(guān),所述第一開關(guān)的另一端連接于所述電容,所電流源的正極端和負(fù)極端之間還連接有第二電阻;不同所述充電支路的電流源提供不同的電流。

    7.如權(quán)利要求4所述的四探針測量系統(tǒng),其特征在于,所述充電電路包括:

    8.如權(quán)利要求4所述的四探針測量系統(tǒng),其特征在于,所述放電電路包括:

    9.一種四探針測量儀測量待測晶圓的方法,其特征在于,利用權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的四探針測量儀,所述方法包括:

    10.如權(quán)利要求9所述的四探針測量儀測量待測晶圓的方法,其特征在于,用激光照射所述探針與晶圓的接觸面時,激光按照設(shè)定的頻率進(jìn)行照射或者持續(xù)照射。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種四探針測量儀,其特征在于,包括:

    2.如權(quán)利要求1所述的四探針測量儀,其特征在于,所述四探針測量儀還包括:

    3.如權(quán)利要求1所述的四探針測量儀,其特征在于,所述套筒的橫截面為圓形。

    4.一種四探針測量系統(tǒng),其特征在于,包括權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的四探針測量儀,還包括軟擊穿電路結(jié)構(gòu),所述軟擊穿電路結(jié)構(gòu)用于在測量時連接于所述四探針測量儀;所述軟擊穿電路結(jié)構(gòu)包括:

    5.如權(quán)利要求4所述的四探針測量系統(tǒng),其特征在于,每條所述充電支路包括電壓源,所述電壓源的負(fù)極端接地,正極端連接于一電阻,所述電阻的另一個端連接于所述第一開關(guān),所述第一開關(guān)的另一端連接于所述電容;不同所述充電支路的電壓源提供不同的電壓。

    6.如權(quán)利要求4所述的四探針測量...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:施朱斌劉相華
    申請(專利權(quán))人:麥嶠里上海半導(dǎo)體科技有限責(zé)任公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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