【技術實現步驟摘要】
本技術總體上涉及放射劑量測量領域，特別地，涉及一種測量射線束劑量學特性的裝置。
技術介紹
1、放射治療是當前腫瘤治療的重要手段之一，在腫瘤治療領域占有重要地位。高能電子束是外照射放療常用的輻射束之一，其使用頻率僅次于x(γ)射線束。電子束由于射程有限，可以有效地避免照射靶區后方正常組織，最大治療深度一般不超過3cm，常用于淺表腫瘤的治療。
2、電子束可應用于外照射放療以及術中放療射線束，其需要配置限光筒以用來限定電子束照射在一定的區域。然而，電子直線加速器在配備的常規限光筒下只能產生呈平面分布的劑量分布。對于球囊狀腫瘤(如乳腺癌和腦瘤的手術瘤床)和管狀腫瘤(如陰道癌、口腔癌等)的非平面治療，目前臨床可用的電子束照射技術無法實現。一些專利技術(例如zl201810244336.0、zl201922228572.6和zl202120496278.8)公開了一類囊狀施照器可以將電子束平面劑量分布調制為非平面劑量分布，實現球囊狀、半球囊狀和鼓形腫瘤的術中放療。
3、在對患者進行放射治療之前，還需要對治療計劃進行劑量測量，以驗證射線束劑量學特性是否符合要求。常規電子束平面劑量分布通過常規平板狀固體水可實現面劑量測量，其無法實現囊狀施照器產生的非平面劑量的測量。
4、另外，kv級x射線也可以形成囊狀和管狀的劑量分布，例如，德國蔡司(zeiss)公司生產的intrabeam系統能夠產生球形等非平面劑量分布，其使用若干個半導體檢測器來測量束流的劑量分布，該方法測量點稀疏，反映的信息單一，缺乏空間分布。
...【技術保護點】
1.一種放射劑量測量裝置，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的放射劑量測量裝置，其中，在所述水箱的底部設置有標記，便于將所述測量框架定位擺放到所述水箱中。
3.如權利要求2所述的放射劑量測量裝置，其中，所述標記為標記線，用于將所述測量框架擺放到所述水箱的底部中心。
4.如權利要求1所述的放射劑量測量裝置，其中，所述測量框架由四個側壁組成，相鄰兩個側壁設置有相互配合的凹槽和凸塊結構，使得所述四個側壁能夠組合形成穩固框架。
5.如權利要求4所述的放射劑量測量裝置，其中，所述多個側壁中的兩個相對側壁的內表面設置有水平卡槽和豎直卡槽，所述水平卡槽和豎直卡槽用于放置所述膠片盒。
6.如權利要求5所述的放射劑量測量裝置，其中，所述豎直卡槽從所述側壁的頂部向下延伸，延伸長度小于所述側壁的高度。
7.如權利要求5所述的放射劑量測量裝置，其中，所述水平卡槽從所述側壁的一側邊跨所述凹槽延伸到所述側壁的另一側邊。
8.如權利要求5所述的放射劑量測量裝置，其中，在所述兩個相對側壁的底面設置有調平旋鈕，所述調平旋鈕用
9.如權利要求1所述的放射劑量測量裝置，其中，所述膠片盒由兩個薄片組成，所述膠片夾持在所述兩個薄片之間。
10.如權利要求9所述的放射劑量測量裝置，其中，所述薄片內設置有與待測量對象外形一致的凹陷區域，并且，所述薄片能夠與膠片緊密貼合，實現放射劑量的測量。
...【技術特征摘要】
1.一種放射劑量測量裝置，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的放射劑量測量裝置，其中，在所述水箱的底部設置有標記，便于將所述測量框架定位擺放到所述水箱中。
3.如權利要求2所述的放射劑量測量裝置，其中，所述標記為標記線，用于將所述測量框架擺放到所述水箱的底部中心。
4.如權利要求1所述的放射劑量測量裝置，其中，所述測量框架由四個側壁組成，相鄰兩個側壁設置有相互配合的凹槽和凸塊結構，使得所述四個側壁能夠組合形成穩固框架。
5.如權利要求4所述的放射劑量測量裝置，其中，所述多個側壁中的兩個相對側壁的內表面設置有水平卡槽和豎直卡槽，所述水平卡槽和豎直卡槽用于放置所述膠片盒。
6.如權利要...
【專利技術屬性】
技術研發人員：馬攀，戴建榮，
申請(專利權)人：中國醫學科學院腫瘤醫院，
類型：新型
國別省市：
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