【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及涂布設(shè)備，尤其涉及一種基板牽引裝置和涂布設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、在涂布行業(yè)中，對大尺寸基板進(jìn)行涂布時(shí)會(huì)采用氣浮平臺(tái)作為涂布平臺(tái)，通常涂布平臺(tái)包括上料區(qū)域、涂布區(qū)域和下料區(qū)域。基板的邊緣位置凸出于涂布平臺(tái)，通過基板牽引裝置吸附基板的邊緣位置并帶動(dòng)基板依次通過上料區(qū)域、涂布區(qū)域和下料區(qū)域。由于涂布區(qū)域的精度高，導(dǎo)致涂布區(qū)域的造價(jià)成本高。為了降低涂布區(qū)域的造價(jià)成本，在涂布方向上，涂布區(qū)域的長度小于基板的長度，這樣導(dǎo)致當(dāng)基板位于涂布區(qū)域時(shí)，部分基板也會(huì)同時(shí)位于上料區(qū)域或下料區(qū)域。由于上料區(qū)域、涂布區(qū)域和下料區(qū)域的工作原理不同，三個(gè)區(qū)域作用到基板上的力的不同，導(dǎo)致基板位于涂布區(qū)域時(shí)的高度與位于上料區(qū)域或下料區(qū)域時(shí)的高度不同，即存在高度差。
2、在現(xiàn)有技術(shù)中，基板牽引裝置采用精密電動(dòng)滑臺(tái)，精密電動(dòng)滑臺(tái)將基板始終保持在同一個(gè)高度，來減小不同區(qū)對基板的影響。然而，由于基板兩邊被吸附保持在同一個(gè)高度，當(dāng)基板高于涂布平臺(tái)時(shí)，在重力作用下基板表面會(huì)呈凹陷狀，當(dāng)基板低于涂布平臺(tái)時(shí)，涂布平臺(tái)會(huì)將基板頂起使得基板表面呈拱起狀，如此會(huì)導(dǎo)致涂布不均勻，從而影響涂布質(zhì)量。
3、因此，現(xiàn)有的基板牽引裝置亟需改進(jìn)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)的目的在于提供一種基板牽引裝置和涂布設(shè)備，當(dāng)基板位于不同區(qū)域時(shí)，吸盤與基板的相對位置能夠保持不變，避免了基板受到外力影響而發(fā)生變形，確保了基板表面保持平整，從而確保了涂布的均勻性，提高了涂布質(zhì)量，同時(shí)基板牽引裝置的結(jié)構(gòu)簡單，移動(dòng)負(fù)載減小，不易損
2、本專利技術(shù)的目的采用以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：
3、一種基板牽引裝置，所述基板牽引裝置設(shè)置于基板在涂布方向上的左右兩側(cè)中的至少一側(cè)，所述基板牽引裝置用于將所述基板從上料區(qū)域依次移動(dòng)至涂布區(qū)域和下料區(qū)域，所述基板牽引裝置包括：
4、滑塊，所述滑塊能夠沿涂布方向進(jìn)行移動(dòng)；
5、吸附組件，所述吸附組件包括吸盤，所述吸盤靠近所述基板的邊緣設(shè)置，所述吸盤用于吸附所述基板的邊緣；
6、浮動(dòng)組件，所述浮動(dòng)組件設(shè)置于所述滑塊，所述浮動(dòng)組件包括支架和第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述吸附組件設(shè)置于所述支架，所述支架能夠帶動(dòng)所述吸附組件隨所述滑塊沿涂布方向進(jìn)行移動(dòng)，所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述支架連接，所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)所述支架并帶動(dòng)所述吸附組件在豎直方向上移動(dòng)；
7、其中，當(dāng)所述吸盤吸附于所述基板的邊緣后，所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)在豎直方向上施加的力能夠始終保持在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)，當(dāng)所述基板在豎直方向的位置發(fā)生變化，所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠驅(qū)動(dòng)所述吸附組件對應(yīng)的在豎直方向上移動(dòng)，以避免所述基板受到外力影響而變形。
8、優(yōu)選地，當(dāng)所述基板的位置升高，所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述吸附組件同步升高，以避免所述基板受到外力影響而變形；
9、當(dāng)所述基板的位置下降時(shí)，所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述吸附組件同步下降，以避免所述基板受到外力影響而變形。
10、優(yōu)選地，還包括平衡組件，所述平衡組件包括平衡機(jī)構(gòu)和連接板，所述平衡機(jī)構(gòu)通過所述連接板與所述支架連接并能夠?qū)λ鲋Ъ苁┘颖诚蛑亓Ψ较虻淖饔昧Α?/p>
11、優(yōu)選地，所述平衡機(jī)構(gòu)包括氣缸和與所述氣缸連接的調(diào)壓閥，所述氣缸通過浮動(dòng)接頭與所述支架連接，所述調(diào)壓閥用于控制所述氣缸對所述支架施加背向重力方向的作用力的大??；或者，
12、所述平衡機(jī)構(gòu)包括拉簧，所述拉簧通過所述連接板與所述支架連接并能夠?qū)λ鲋Ъ苁┘颖诚蛑亓Ψ较虻淖饔昧Α?/p>
13、優(yōu)選地，還包括測量機(jī)構(gòu)，所述測量機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述滑塊，所述測量機(jī)構(gòu)用于檢測所述浮動(dòng)組件在豎直方向上的位置；
14、所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)具有位置模式和力控模式，當(dāng)所述吸附組件位于所述基板下方時(shí)，第一驅(qū)動(dòng)組件處于位置模式，所述第一驅(qū)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)所述吸附組件上升，當(dāng)所述吸附組件上升至預(yù)設(shè)位置時(shí)，所述第一驅(qū)動(dòng)組件處于力控模式，所述吸盤吸附于所述基板的下方，并且所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)在豎直方向上施加的力能夠始終保持在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)。
15、優(yōu)選地，所述浮動(dòng)組件還包括第一導(dǎo)軌，所述第一導(dǎo)軌沿豎直方向延伸，所述第一導(dǎo)軌與所述滑塊固定連接，所述支架與所述第一導(dǎo)軌滑動(dòng)連接；或者，
16、所述第一導(dǎo)軌與所述支架固定連接，所述滑塊與所述第一導(dǎo)軌滑動(dòng)連接。
17、優(yōu)選地，所述吸附組件還包括基準(zhǔn)條，所述吸盤設(shè)置于所述基準(zhǔn)條，所述基準(zhǔn)條設(shè)置于所述支架。
18、優(yōu)選地，所述支架上具有相對設(shè)置的第一切口和第二切口，所述第一切口和所述第二切口均沿水平方向延伸，所述基準(zhǔn)條靠近所述第二切口設(shè)置，所述第一切口處設(shè)置有用于調(diào)節(jié)所述第一切口和所述第二切口的開口大小的第一調(diào)平組件，所述第一調(diào)平組件用于調(diào)節(jié)所述基準(zhǔn)條在垂直于涂布方向的兩側(cè)的高度；
19、至少靠近所述基準(zhǔn)條在涂布方向的兩端設(shè)置有第二調(diào)平組件，所述第二調(diào)平組件包括設(shè)置于所述基準(zhǔn)條下方的固定塊和第三調(diào)節(jié)件，所述固定塊與所述支架連接，所述第三調(diào)節(jié)件與所述固定塊連接，所述第三調(diào)節(jié)件的一端抵接于所述基準(zhǔn)條，通過調(diào)節(jié)所述第三調(diào)節(jié)件以調(diào)節(jié)所述基準(zhǔn)條在涂布方向的兩端的高度。
20、優(yōu)選地，所述第一調(diào)平組件包括第一調(diào)節(jié)件和第二調(diào)節(jié)件，所述第一調(diào)節(jié)件同時(shí)連接所述第一切口兩側(cè)的支架，通過調(diào)節(jié)所述第一調(diào)節(jié)件能夠使所述第一切口兩側(cè)的支架相互靠近并使所述第二切口的開口變大；
21、所述第二調(diào)節(jié)件與所述第一切口其中一側(cè)的支架連接，所述第二調(diào)節(jié)件的一端抵接于所述第一切口另一側(cè)的支架，通過調(diào)節(jié)所述第二調(diào)節(jié)件能夠使所述第一切口兩側(cè)的支架相互遠(yuǎn)離并使所述第二切口的開口變小。
22、一種涂布設(shè)備，包括如所述任意一項(xiàng)所述的基板牽引裝置、涂布平臺(tái)、第二導(dǎo)軌和第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述涂布平臺(tái)包括供基板依次通過的上料區(qū)域、涂布區(qū)域和下料區(qū)域，所述第二導(dǎo)軌沿涂布方向延伸，所述第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)所述基板牽引裝置沿所述第二導(dǎo)軌在涂布方向上來回移動(dòng)，所述基板牽引裝置用于吸附所述基板的邊緣并沿所述第二導(dǎo)軌將所述基板從所述上料區(qū)域依次移動(dòng)至所述涂布區(qū)域和所述下料區(qū)域。
23、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專利技術(shù)的有益效果至少包括：
24、本專利技術(shù)的基板牽引裝置和涂布設(shè)備，由于基板分別位于上料區(qū)域、涂布區(qū)域和下料區(qū)域時(shí)存在高度差，通過將吸附組件設(shè)置于浮動(dòng)組件，由于第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)在豎直方向上施加的力能夠始終保持在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)，當(dāng)基板牽引裝置將基板移動(dòng)至不同區(qū)域而導(dǎo)致基板在豎直方向的位置發(fā)生變化時(shí)，基板對吸附組件產(chǎn)生向上的拉力或向下的壓力，從而導(dǎo)致第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)在豎直方向上施加的力發(fā)生變化，第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)可以根據(jù)在豎直方向的力的變化，來驅(qū)動(dòng)吸附組件對應(yīng)的在豎直方向上移動(dòng)，確保了吸盤與基板的相對位置保持不變，避免了基板受到外力影響而發(fā)生變形，確保了基板表面保持平整，從而確保涂布的均勻性，提高了涂布質(zhì)量，同時(shí)與精密電動(dòng)滑臺(tái)相比，本申請的基板牽引裝置的結(jié)構(gòu)簡單，移動(dòng)負(fù)載減小，不易損壞，便于進(jìn)行調(diào)試，降低了使用和維護(hù)成本。
本文檔來自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種基板牽引裝置，其特征在于，所述基板牽引裝置設(shè)置于基板在涂布方向上的左右兩側(cè)中的至少一側(cè)，所述基板牽引裝置用于將所述基板從上料區(qū)域依次移動(dòng)至涂布區(qū)域和下料區(qū)域，所述基板牽引裝置包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板牽引裝置，其特征在于，當(dāng)所述基板的位置升高，所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述吸附組件同步升高，以避免所述基板受到外力影響而變形；
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板牽引裝置，其特征在于，還包括平衡組件，所述平衡組件包括平衡機(jī)構(gòu)和連接板，所述平衡機(jī)構(gòu)通過所述連接板與所述支架連接并能夠?qū)λ鲋Ъ苁┘颖诚蛑亓Ψ较虻淖饔昧Α?/p>
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板牽引裝置，其特征在于，所述平衡機(jī)構(gòu)包括氣缸和與所述氣缸連接的調(diào)壓閥，所述氣缸通過浮動(dòng)接頭與所述支架連接，所述調(diào)壓閥用于控制所述氣缸對所述支架施加背向重力方向的作用力的大??；或者，
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板牽引裝置，其特征在于，還包括測量機(jī)構(gòu)，所述測量機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述滑塊，所述測量機(jī)構(gòu)用于檢測所述浮動(dòng)組件在豎直方向上的位置；
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板牽引裝置，其特征在于，所述
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板牽引裝置，其特征在于，所述吸附組件還包括基準(zhǔn)條，所述吸盤設(shè)置于所述基準(zhǔn)條，所述基準(zhǔn)條設(shè)置于所述支架。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板牽引裝置，其特征在于，所述支架上具有相對設(shè)置的第一切口和第二切口，所述第一切口和所述第二切口均沿水平方向延伸，所述基準(zhǔn)條靠近所述第二切口設(shè)置，所述第一切口處設(shè)置有用于調(diào)節(jié)所述第一切口和所述第二切口的開口大小的第一調(diào)平組件，所述第一調(diào)平組件用于調(diào)節(jié)所述基準(zhǔn)條在垂直于涂布方向的兩側(cè)的高度；
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板牽引裝置，其特征在于，所述第一調(diào)平組件包括第一調(diào)節(jié)件和第二調(diào)節(jié)件，所述第一調(diào)節(jié)件同時(shí)連接所述第一切口兩側(cè)的支架，通過調(diào)節(jié)所述第一調(diào)節(jié)件能夠使所述第一切口兩側(cè)的支架相互靠近并使所述第二切口的開口變大；
10.一種涂布設(shè)備，包括如權(quán)利要求1-9中任意一項(xiàng)所述的基板牽引裝置、涂布平臺(tái)、第二導(dǎo)軌和第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述涂布平臺(tái)包括供基板依次通過的上料區(qū)域、涂布區(qū)域和下料區(qū)域，所述第二導(dǎo)軌沿涂布方向延伸，所述第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)所述基板牽引裝置沿所述第二導(dǎo)軌在涂布方向上來回移動(dòng)，所述基板牽引裝置用于吸附所述基板的邊緣并沿所述第二導(dǎo)軌將所述基板從所述上料區(qū)域依次移動(dòng)至所述涂布區(qū)域和所述下料區(qū)域。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種基板牽引裝置，其特征在于，所述基板牽引裝置設(shè)置于基板在涂布方向上的左右兩側(cè)中的至少一側(cè)，所述基板牽引裝置用于將所述基板從上料區(qū)域依次移動(dòng)至涂布區(qū)域和下料區(qū)域，所述基板牽引裝置包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板牽引裝置，其特征在于，當(dāng)所述基板的位置升高，所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述吸附組件同步升高，以避免所述基板受到外力影響而變形；
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板牽引裝置，其特征在于，還包括平衡組件，所述平衡組件包括平衡機(jī)構(gòu)和連接板，所述平衡機(jī)構(gòu)通過所述連接板與所述支架連接并能夠?qū)λ鲋Ъ苁┘颖诚蛑亓Ψ较虻淖饔昧Α?/p>
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板牽引裝置，其特征在于，所述平衡機(jī)構(gòu)包括氣缸和與所述氣缸連接的調(diào)壓閥，所述氣缸通過浮動(dòng)接頭與所述支架連接，所述調(diào)壓閥用于控制所述氣缸對所述支架施加背向重力方向的作用力的大??；或者，
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板牽引裝置，其特征在于，還包括測量機(jī)構(gòu)，所述測量機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述滑塊，所述測量機(jī)構(gòu)用于檢測所述浮動(dòng)組件在豎直方向上的位置；
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板牽引裝置，其特征在于，所述浮動(dòng)組件還包括第一導(dǎo)軌，所述第一導(dǎo)軌沿豎直方向延伸，所述第一導(dǎo)軌與所述滑塊固定連接，所述支架與所述第一導(dǎo)軌滑動(dòng)連接；或者...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：請求不公布姓名，請求不公布姓名，請求不公布姓名，
申請(專利權(quán))人：德滬涂膜設(shè)備蘇州有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
還沒有人留言評論。發(fā)表了對其他瀏覽者有用的留言會(huì)獲得科技券。