一種惰性保護(hù)氣體噴淋裝置制造方法及圖紙

本技術(shù)公開了一種惰性保護(hù)氣體噴淋裝置，其包括：噴淋管、送氣管、第一封堵板和第二封堵板，所述送氣管同心設(shè)置在水平放置的噴淋管中，所述第一封堵板設(shè)置在噴淋管的尾部并進(jìn)行送氣管的封堵，所述第二封堵板設(shè)置在噴淋管的前端，所述送氣管的前端貫穿第二封堵板并延伸至第二封堵板外側(cè)，所述送氣管兩側(cè)設(shè)置有水平指向噴淋管內(nèi)壁的定位板，所述定位板上與噴淋管內(nèi)壁接觸的一側(cè)內(nèi)凹設(shè)置有氣槽，所述送氣管頂部間隔設(shè)置有位于噴淋管內(nèi)側(cè)的送氣孔，所述噴淋管底部間隔有噴淋孔。本技術(shù)所述的惰性保護(hù)氣體噴淋裝置，實現(xiàn)了氣壓的二次均勻，提升了惰性保護(hù)氣體通過噴淋孔向下噴出的均勻性。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及半導(dǎo)體晶片生產(chǎn)，尤其涉及一種惰性保護(hù)氣體噴淋裝置。

技術(shù)介紹

1、在半導(dǎo)體晶片生產(chǎn)的過程中，可以利用氧化爐在半導(dǎo)體晶片上形成一層氧化保護(hù)層，實現(xiàn)對多半導(dǎo)體晶片的保護(hù)。

2、氧化爐的溫度高，為了提升安全性，在半導(dǎo)體晶片氧化時可以向氧化爐通入氬氣或者其他惰性保護(hù)氣體進(jìn)行保護(hù)。現(xiàn)有的做法是在氧化爐中安裝噴淋管，進(jìn)行惰性保護(hù)氣體在氧化爐中的噴淋輸出。為了提升惰性氣體分布的均勻性，如申請?zhí)枮?017209024458的技術(shù)專利公開了一種均勻噴淋的光伏硅片石英擴(kuò)散爐，在噴淋管的管壁開有多個噴淋孔，而且距離石英擴(kuò)散爐頭部較近的噴淋孔的直徑大于距離石英擴(kuò)散爐尾部較近的噴淋孔的直徑，以解決噴淋管噴淋不均勻的問題。然而，在噴淋管的制作過程中，噴淋孔的直徑差距和間距變化難以精確計算，加工難度大，需要進(jìn)行改進(jìn)。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本技術(shù)的目的在于提供一種惰性保護(hù)氣體噴淋裝置，進(jìn)行惰性保護(hù)氣體的噴淋，提升噴淋均勻性。

2、為達(dá)此目的，本技術(shù)采用以下技術(shù)方案：

3、一種惰性保護(hù)氣體噴淋裝置，包括：噴淋管、送氣管、第一封堵板和第二封堵板，所述送氣管同心設(shè)置在水平放置的噴淋管中，所述第一封堵板設(shè)置在噴淋管的尾部并進(jìn)行送氣管的封堵，所述第二封堵板設(shè)置在噴淋管的前端，所述送氣管的前端貫穿第二封堵板并延伸至第二封堵板外側(cè)，所述送氣管兩側(cè)設(shè)置有水平指向噴淋管內(nèi)壁的定位板，所述定位板上與噴淋管內(nèi)壁接觸的一側(cè)內(nèi)凹設(shè)置有氣槽，所述送氣管頂部間隔設(shè)置有位于噴淋管內(nèi)側(cè)的送氣孔，所述噴淋管底部間隔有噴淋孔。

4、其中，所述第一封堵板和第二封堵板上分別設(shè)置有位于噴淋管外側(cè)的安裝孔。

5、其中，所述第二封堵板中部設(shè)置有與送氣管對應(yīng)的通孔，所述送氣管與第二封堵板焊接固定。

6、其中，所述送氣管前端外圓上設(shè)置有一段外螺紋。

7、其中，所述氣槽間隔設(shè)置在定位板上。

8、其中，所述送氣孔與噴淋孔在噴淋管的軸向上錯位。

9、本技術(shù)的有益效果：一種惰性保護(hù)氣體噴淋裝置，惰性保護(hù)氣體通過送氣管送入噴淋管的過程中，先利用送氣孔吹向噴淋管內(nèi)壁頂部，在送氣管上方進(jìn)行混合，提升送氣管上方氣壓分布的均勻性，再利用氣槽將惰性保護(hù)氣體轉(zhuǎn)移至送氣管下方，提升送氣管下方氣壓分布的均勻性，實現(xiàn)了氣壓的二次均勻，最終利用噴淋孔向下均勻噴出，實現(xiàn)了對半導(dǎo)體晶片氧化過程的保護(hù)。

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【技術(shù)保護(hù)點】

1.一種惰性保護(hù)氣體噴淋裝置，其特征在于，包括：噴淋管、送氣管、第一封堵板和第二封堵板，所述送氣管同心設(shè)置在水平放置的噴淋管中，所述第一封堵板設(shè)置在噴淋管的尾部并進(jìn)行送氣管的封堵，所述第二封堵板設(shè)置在噴淋管的前端，所述送氣管的前端貫穿第二封堵板并延伸至第二封堵板外側(cè)，所述送氣管兩側(cè)設(shè)置有水平指向噴淋管內(nèi)壁的定位板，所述定位板上與噴淋管內(nèi)壁接觸的一側(cè)內(nèi)凹設(shè)置有氣槽，所述送氣管頂部間隔設(shè)置有位于噴淋管內(nèi)側(cè)的送氣孔，所述噴淋管底部間隔有噴淋孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的惰性保護(hù)氣體噴淋裝置，其特征在于，所述第一封堵板和第二封堵板上分別設(shè)置有位于噴淋管外側(cè)的安裝孔。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的惰性保護(hù)氣體噴淋裝置，其特征在于，所述第二封堵板中部設(shè)置有與送氣管對應(yīng)的通孔，所述送氣管與第二封堵板焊接固定。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的惰性保護(hù)氣體噴淋裝置，其特征在于，所述送氣管前端外圓上設(shè)置有一段外螺紋。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的惰性保護(hù)氣體噴淋裝置，其特征在于，所述氣槽間隔設(shè)置在定位板上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的惰性保護(hù)氣體噴淋裝置，其特征在于，所述送氣孔與噴淋孔在噴淋管的軸向上錯位。

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【技術(shù)特征摘要】

1.一種惰性保護(hù)氣體噴淋裝置，其特征在于，包括：噴淋管、送氣管、第一封堵板和第二封堵板，所述送氣管同心設(shè)置在水平放置的噴淋管中，所述第一封堵板設(shè)置在噴淋管的尾部并進(jìn)行送氣管的封堵，所述第二封堵板設(shè)置在噴淋管的前端，所述送氣管的前端貫穿第二封堵板并延伸至第二封堵板外側(cè)，所述送氣管兩側(cè)設(shè)置有水平指向噴淋管內(nèi)壁的定位板，所述定位板上與噴淋管內(nèi)壁接觸的一側(cè)內(nèi)凹設(shè)置有氣槽，所述送氣管頂部間隔設(shè)置有位于噴淋管內(nèi)側(cè)的送氣孔，所述噴淋管底部間隔有噴淋孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的惰性保護(hù)氣體噴淋裝置，其特征在于，所述第一封...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：喻祺，周炳，
申請(專利權(quán))人：德興市意發(fā)功率半導(dǎo)體有限公司，
類型：新型
國別省市：