【技術實現步驟摘要】
本技術涉及晶圓載臺，尤其涉及一種晶圓載臺裝置。
技術介紹
1、離子束刻蝕(ibe)和離子束沉積(ibd)技術在光纖、計算機、通信、納米技術、新材料和集成光學等領域發揮其強大的作用，理想的薄膜應該具有光學性質穩定、無散射和吸收、機械性能強和化學性質穩定等特征，而離子束刻蝕(ibe)和離子束沉積(ibd)正好提供了能夠達到這些要求的技術平臺，目前離子束刻蝕和沉積技術的應用領域不斷地被拓寬，尤其是隨著芯片集成度提高，關鍵尺寸縮小，高選擇比以及精確的圖形轉移等工藝需求的提高，更突顯了離子束刻蝕和離子束沉積優點。
2、在離子束刻蝕工藝過程中，晶圓緊貼在晶圓載臺上，需要通過晶圓載臺對晶圓進行冷卻；但是在傳輸過程中，需要晶圓脫離晶圓載臺，懸浮于晶圓載臺之上，然后通過傳輸平臺的機械手取放晶圓，晶圓載臺需同時滿足晶圓緊貼和懸浮的功能。
3、現有的晶圓載臺一般通過頂針頂起晶圓，使晶圓脫離晶圓載臺平面一定距離，實現晶圓的懸浮功能；但是這種懸浮方式對晶圓的懸浮高度調節范圍較小。
4、因此，如何提供一種能夠拓寬晶圓懸浮高度調節范圍的晶圓載臺裝置，是本領域技術人員目前需要解決的技術問題。
技術實現思路
1、有鑒于此，本技術的目的在于提供一種晶圓載臺裝置，以拓寬晶圓懸浮高度調節范圍。
2、為了實現上述目的，本技術提供了如下技術方案：
3、可選地，在上述晶圓載臺裝置中，包括：
4、載臺本體，設有用于放置晶圓的放置部；
5、磁流體結
6、升降底托盤，設置于所述載臺本體的下方，且所述升降底托盤上設置頂針，所述頂針貫穿所述載臺本體后能夠與晶圓的背面接觸；
7、升降驅動組件；
8、其中，所述升降驅動組件用于驅動所述升降底托盤作升降運動，且所述頂針通過螺紋連接方式安裝在所述升降底托盤上。
9、可選地，在上述晶圓載臺裝置中，所述升降驅動組件包括缸體和與所述缸體配合的密封波紋管，所述缸體的底部和頂部分別設置底部進氣口和頂部進氣口。
10、可選地，在上述晶圓載臺裝置中，所述缸體和所述密封波紋管的數量至少為兩個，多個所述缸體在所述磁流體轉軸的外圓周方向均勻分布，且多個所述密封波紋管的頂部通過頂環連接。
11、可選地，在上述晶圓載臺裝置中，所述升降驅動組件還包括與所述密封波紋管的升降端連接的升降桿，所述升降桿的底部設置磁鐵，所述載臺本體設置有與所述磁鐵配合的磁感應開關。
12、可選地，在上述晶圓載臺裝置中，所述磁流體轉軸靠近所述載臺本體的一端設置過渡連接座，所述載臺本體設置于所述過渡連接座上，且所述過渡連接座和所述升降底托盤之間設置有彈性元件。
13、可選地，在上述晶圓載臺裝置中，所述載臺本體上設置有用于壓緊晶圓的壓緊件，所述升降底托盤上還設置有壓緊連接桿，所述壓緊連接桿貫穿所述過渡連接座和所述載臺本體后與所述壓緊件連接。
14、可選地，在上述晶圓載臺裝置中，所述磁流體定軸將所述晶圓載臺裝置的內部結構分隔為真空環境側和大氣環境側，所述真空環境側設置有壓緊位置檢測裝置；
15、其中，所述壓緊位置檢測裝置包括信號感應器和信號發射器，所述信號感應器的數量至少為兩個，且多個所述信號感應器呈上下分布，所述信號發射器設置在所述升降底托盤的側面。
16、可選地，在上述晶圓載臺裝置中，所述載臺本體包括氣盤，所述放置部位于所述氣盤上，且所述放置部設有氣體通孔，所述磁流體結構的內部設有冷卻氣路，所述冷卻氣路能夠與冷卻氣源導通，且所述冷卻氣路延伸至所述氣體通孔；
17、和/或，所述載臺本體包括冷卻盤，所述磁流體結構的內部設有冷卻水路，所述冷卻水路能夠與冷卻液連通，且所述冷卻水路延伸至所述冷卻盤內。
18、可選地，在上述晶圓載臺裝置中，所述晶圓載臺裝置還包括載臺支撐件和翻轉驅動件；
19、其中，所述載臺支撐件用于承載整個晶圓載臺裝置，所述翻轉驅動件的輸出軸與所述載臺支撐件連接，且所述翻轉驅動件的輸出軸軸線與所述磁流體轉軸的轉動軸線垂直。
20、可選地，在上述晶圓載臺裝置中，所述晶圓載臺裝置還包括旋轉驅動件、第一轉動件、第二轉動件和同步帶；
21、其中，所述第一轉動件與所述旋轉驅動件的輸出軸連接，所述第二轉動件設置于所述磁流體轉軸上，所述同步帶連接所述第一轉動件和所述第二轉動件。
22、可選地，在上述晶圓載臺裝置中，所述磁流體轉軸上設置有編碼器。
23、使用本技術所提供的晶圓載臺裝置時，由于磁流體結構設置于載臺本體的下方，所述磁流體結構包括磁流體定軸和磁流體轉軸，所述磁流體轉軸轉動設置在所述磁流體定軸的中心孔，且所述磁流體轉軸靠近所述載臺本體的一端與所述載臺本體連接，因此，通過磁流體轉軸能夠帶動載臺本體轉動，放置于載臺本體的放置部上的晶圓也隨之轉動，保證了晶圓表面的轟擊原子數達到一定的比例，保證了晶圓性能和質量；由于升降地托盤上設置頂針，頂針貫穿所述載臺本體后能夠與晶圓的背面接觸，升降驅動組件用于驅動升降底托盤作升降運動，因此，通過升降驅動組件能夠使升降底托盤作升降運動，從而使設置于升降底托盤上的頂針升降，實現晶圓的懸浮高度調節；另外，由于頂針通過螺紋連接方式安裝在升降底托盤上，因此，通過調節頂針在升降底托盤上的螺紋旋緊深度能夠調節頂針高度，實現晶圓的懸浮高度調節。
24、由此可見，本技術所提供的晶圓載臺裝置一方面通過升降驅動組件調節升降底托盤的高度，實現對頂針高度的調節，從而調節晶圓的懸浮高度；另一方面，通過頂針和升降底托盤的螺紋連接方式調節頂針的固有高度，實現晶圓懸浮高度的調節；該晶圓載臺裝置從兩個方面實現了晶圓懸浮高度的調節，拓寬了晶圓懸浮高度的調節范圍。
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1.一種晶圓載臺裝置，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的晶圓載臺裝置，其特征在于，所述升降驅動組件包括缸體和與所述缸體配合的密封波紋管，所述缸體的底部和頂部分別設置底部進氣口和頂部進氣口。
3.根據權利要求2所述的晶圓載臺裝置，其特征在于，所述缸體和所述密封波紋管的數量至少為兩個，多個所述缸體在所述磁流體轉軸的外圓周方向均勻分布，且多個所述密封波紋管的頂部通過頂環連接。
4.根據權利要求2所述的晶圓載臺裝置，其特征在于，所述升降驅動組件還包括與所述密封波紋管的升降端連接的升降桿，所述升降桿的底部設置磁鐵，所述載臺本體設置有與所述磁鐵配合的磁感應開關。
5.根據權利要求1所述的晶圓載臺裝置，其特征在于，所述磁流體轉軸靠近所述載臺本體的一端設置過渡連接座，所述載臺本體設置于所述過渡連接座上，且所述過渡連接座和所述升降底托盤之間設置有彈性元件。
6.根據權利要求5所述的晶圓載臺裝置，其特征在于，所述載臺本體上設置有用于壓緊晶圓的壓緊件，所述升降底托盤上還設置有壓緊連接桿，所述壓緊連接桿貫穿所述過渡連接座和所述載臺本體
7.根據權利要求5所述的晶圓載臺裝置，其特征在于，所述磁流體定軸將所述晶圓載臺裝置的內部結構分隔為真空環境側和大氣環境側，所述真空環境側設置有壓緊位置檢測裝置；
8.根據權利要求1所述的晶圓載臺裝置，其特征在于，所述載臺本體包括氣盤，所述放置部位于所述氣盤上，且所述放置部設有氣體通孔，所述磁流體結構的內部設有冷卻氣路，所述冷卻氣路能夠與冷卻氣源導通，且所述冷卻氣路延伸至所述氣體通孔；
9.根據權利要求1所述的晶圓載臺裝置，其特征在于，所述晶圓載臺裝置還包括載臺支撐件和翻轉驅動件；
10.根據權利要求1所述的晶圓載臺裝置，其特征在于，所述晶圓載臺裝置還包括旋轉驅動件、第一轉動件、第二轉動件和同步帶；
11.根據權利要求1所述的晶圓載臺裝置，其特征在于，所述磁流體轉軸上設置有編碼器。
...【技術特征摘要】
1.一種晶圓載臺裝置，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的晶圓載臺裝置，其特征在于，所述升降驅動組件包括缸體和與所述缸體配合的密封波紋管，所述缸體的底部和頂部分別設置底部進氣口和頂部進氣口。
3.根據權利要求2所述的晶圓載臺裝置，其特征在于，所述缸體和所述密封波紋管的數量至少為兩個，多個所述缸體在所述磁流體轉軸的外圓周方向均勻分布，且多個所述密封波紋管的頂部通過頂環連接。
4.根據權利要求2所述的晶圓載臺裝置，其特征在于，所述升降驅動組件還包括與所述密封波紋管的升降端連接的升降桿，所述升降桿的底部設置磁鐵，所述載臺本體設置有與所述磁鐵配合的磁感應開關。
5.根據權利要求1所述的晶圓載臺裝置，其特征在于，所述磁流體轉軸靠近所述載臺本體的一端設置過渡連接座，所述載臺本體設置于所述過渡連接座上，且所述過渡連接座和所述升降底托盤之間設置有彈性元件。
6.根據權利要求5所述的晶圓載臺裝置，其特征在于，所述載臺本體...
【專利技術屬性】
技術研發人員：耿斌，桑康，程實然，胡少謙，陳龍保，王鋮熠，胡冬冬，許開東，
申請(專利權)人：江蘇魯汶儀器股份有限公司，
類型：新型
國別省市：
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