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    一種石墨顆粒研磨設(shè)備制造技術(shù)

    技術(shù)編號:44261250 閱讀:10 留言:0更新日期:2025-02-14 22:06
    本發(fā)明專利技術(shù)涉及石墨研磨技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種石墨顆粒研磨設(shè)備,包括:安裝架、固定在安裝架中部的分離罐、安裝在分離罐上端的抽風(fēng)機(jī)和設(shè)置在分離罐內(nèi)部的研磨裝置,所述研磨裝置包括轉(zhuǎn)動底盤,所述轉(zhuǎn)動底盤邊緣設(shè)置有防護(hù)網(wǎng),所述防護(hù)網(wǎng)靠近轉(zhuǎn)動底盤的一側(cè)設(shè)置有固定環(huán)架,所述防護(hù)網(wǎng)截面為弧形,且遠(yuǎn)離轉(zhuǎn)動底盤的一側(cè)高于靠近轉(zhuǎn)動底盤的一側(cè);所述防護(hù)網(wǎng)靠近轉(zhuǎn)動底盤的一側(cè)設(shè)置有翻動組件,所述翻動組件包括轉(zhuǎn)動環(huán)、多個彈性片、多個擠壓板和連接環(huán),所述轉(zhuǎn)動環(huán)轉(zhuǎn)動套設(shè)在轉(zhuǎn)動底盤邊緣,多個所述彈性片環(huán)狀固定連接在轉(zhuǎn)動環(huán)和防護(hù)網(wǎng)之間。本發(fā)明專利技術(shù)保證了對石墨的充分研磨,同時不需要后期的人工操作,提高了石墨研磨的效率。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及石墨研磨,尤其涉及一種石墨顆粒研磨設(shè)備


    技術(shù)介紹

    1、石墨顆粒的細(xì)化可以顯著提高其比表面積和活性,從而改善其整體性能,同時細(xì)化后的石墨顆粒還可以用于制備導(dǎo)電涂層、納米石墨材料等,進(jìn)一步拓寬了石墨的應(yīng)用領(lǐng)域,在研磨過程中需要使用到研磨設(shè)置,其中就包括雷蒙研磨機(jī)。

    2、公開號為cn217313678u的中國專利公開了一種石墨加工用雷蒙磨結(jié)構(gòu),包括底座、安裝框架和磨機(jī)筒體,安裝框架安裝在底座上表面,磨機(jī)筒體安裝在安裝框架上表面,磨機(jī)筒體內(nèi)表面安裝有轉(zhuǎn)動桿,轉(zhuǎn)動桿外表面安裝有第一安裝板和第二安裝板,第一安裝板外表面安裝有若干連接塊,連接塊下表面安裝有彈簧,第二安裝板內(nèi)表面安裝有若干磨輥。上述結(jié)構(gòu)較之傳統(tǒng)的石墨加工用雷蒙磨,不存在研磨的死角,同時鏟刀使石墨原料箱磨環(huán)處移動,研磨更加的充分。

    3、但是由于在研磨裝置中存在研磨縫隙,但是部分的石墨在沒有充分研磨的情況下從縫隙處掉落,降低了研磨效果的同時,需要人工對下方物料進(jìn)行轉(zhuǎn)移,影響了研磨的效率。


    技術(shù)實現(xiàn)思路

    1、本專利技術(shù)的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中部分的石墨在沒有充分研磨的情況下從縫隙處掉落,降低了研磨效果的同時,需要人工對下方物料進(jìn)行轉(zhuǎn)移,影響了研磨的效率的缺點,而提出的一種石墨顆粒研磨設(shè)備。

    2、為了實現(xiàn)上述目的,本專利技術(shù)采用了如下技術(shù)方案:

    3、一種石墨顆粒研磨設(shè)備,包括:安裝架、固定在安裝架中部的分離罐、安裝在分離罐上端的抽風(fēng)機(jī)和設(shè)置在分離罐內(nèi)部的研磨裝置,所述研磨裝置包括轉(zhuǎn)動底盤,所述轉(zhuǎn)動底盤邊緣設(shè)置有防護(hù)網(wǎng),所述防護(hù)網(wǎng)靠近轉(zhuǎn)動底盤的一側(cè)設(shè)置有固定環(huán)架,所述防護(hù)網(wǎng)截面為弧形,且遠(yuǎn)離轉(zhuǎn)動底盤的一側(cè)高于靠近轉(zhuǎn)動底盤的一側(cè);

    4、所述防護(hù)網(wǎng)靠近轉(zhuǎn)動底盤的一側(cè)設(shè)置有翻動組件,所述翻動組件包括轉(zhuǎn)動環(huán)、多個彈性片、多個擠壓板和連接環(huán),所述轉(zhuǎn)動環(huán)轉(zhuǎn)動套設(shè)在轉(zhuǎn)動底盤邊緣,多個所述彈性片環(huán)狀固定連接在轉(zhuǎn)動環(huán)和防護(hù)網(wǎng)之間,所述擠壓板固定連接在彈性片底端,所述連接環(huán)固定連接在多個擠壓板之間,形成一個受壓環(huán),所述受壓環(huán)為弧形環(huán),且靠近轉(zhuǎn)動底盤的一側(cè)高于另一側(cè);

    5、所述轉(zhuǎn)動底盤邊緣環(huán)狀等距設(shè)置有多個滾動組件,多個所述滾動組件用于研磨位于翻動組件上的石墨顆粒。

    6、優(yōu)選的,所述轉(zhuǎn)動底盤為圓臺形盤,且底端面積大于上端面積,所述轉(zhuǎn)動底盤上環(huán)狀固定連接有多個分離條,將轉(zhuǎn)動底盤分隔為多個導(dǎo)出空間。

    7、優(yōu)選的,所述研磨裝置還包括安裝盤、多個研磨輪、研磨管和驅(qū)動電機(jī),所述安裝盤固定安裝在轉(zhuǎn)動底盤上端,且安裝盤側(cè)邊開設(shè)有多個安裝口,多個所述研磨輪轉(zhuǎn)動安裝口內(nèi)部,形成多個研磨轉(zhuǎn)層,所述研磨管固定安裝在分離罐中,且與研磨轉(zhuǎn)層之間形成多個不同大小的用于研磨的研磨空間,所述驅(qū)動電機(jī)固定安裝在安裝架底部,且輸出端用于帶動轉(zhuǎn)動底盤轉(zhuǎn)動。

    8、優(yōu)選的,所述滾動組件包括驅(qū)動桿和研磨塊,所述驅(qū)動桿安裝在轉(zhuǎn)動底盤側(cè)邊,所述研磨塊固定連接在驅(qū)動桿端部,用于研磨石墨顆粒。

    9、優(yōu)選的,所述研磨塊為葫蘆形,且靠近轉(zhuǎn)動底盤的一端體積大,用于擠壓研磨位于受壓環(huán)內(nèi)部的石墨顆粒。

    10、優(yōu)選的,所述分離罐底部開設(shè)有多個進(jìn)風(fēng)口,所述進(jìn)風(fēng)口內(nèi)部設(shè)置有過濾網(wǎng),所述抽風(fēng)機(jī)產(chǎn)生由下向上的空氣流動。

    11、優(yōu)選的,所述固定環(huán)架內(nèi)部設(shè)置有多個復(fù)位組件,多個所述復(fù)位組件分別與多個擠壓板連接,且用于帶動擠壓板彈性復(fù)位。

    12、優(yōu)選的,所述復(fù)位組件包括連接桿、延伸桿和彈簧軸,所述彈簧軸安裝在固定環(huán)架下方,所述延伸桿固定連接在彈簧軸上,所述連接桿一端彈性連接在擠壓板下方,且另一端與延伸桿端部轉(zhuǎn)動連接。

    13、優(yōu)選的,所述延伸桿靠近擠壓板的一端長度短于靠近防護(hù)網(wǎng)的一端長度,所述延伸桿和彈簧軸形成杠桿,擠壓板帶動延伸桿一端下移時,延伸桿另一端上移。

    14、優(yōu)選的,所述延伸桿遠(yuǎn)離擠壓板的一端固定連接有撞擊桿,所述撞擊桿垂直固定連接在延伸桿端部,用于撞擊防護(hù)網(wǎng)。

    15、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本專利技術(shù)的有益效果是:

    16、部分未完成研磨的石墨在自身的重力作用下掉落到防護(hù)網(wǎng)上,同時順著防護(hù)網(wǎng)的表面掉落到翻動組件上,多個滾動組件在轉(zhuǎn)動過程中,對這些未研磨完成的石墨進(jìn)行充分的研磨,同時滾動組件在滾動過程中會對擠壓板產(chǎn)生擠壓作用,使擠壓板在彈性片的作用下變形,當(dāng)滾動組件與擠壓板分離之后,擠壓板會在彈性片和連接環(huán)的彈性作用下復(fù)位,同時將研磨完成的石墨向防護(hù)網(wǎng)彈出,將再次研磨的石墨進(jìn)行分離,這樣持續(xù)循環(huán)的研磨分離,保證了對石墨的充分研磨,同時不需要后期的人工操作,提高了石墨研磨的效率;

    17、當(dāng)完成研磨的石墨粉末掉落到轉(zhuǎn)動底盤上時,粉末分散掉落到多個導(dǎo)出空間上,避免粉末堆積在一起,通過轉(zhuǎn)動底盤的弧形側(cè)邊滾動掉落到防護(hù)網(wǎng)上,同時粉末在轉(zhuǎn)動的底盤上會受到離心力的作用,向防護(hù)網(wǎng)上甩出,從而方便對石墨粉末進(jìn)行快速的分離;

    18、將掉落的石墨顆粒均勻的分散到研磨空間內(nèi)部,隨著研磨輪在研磨空間內(nèi)部的轉(zhuǎn)動,從而對石墨顆粒進(jìn)行轉(zhuǎn)動研磨,由于不同研磨空間的大小不同,可以快速的對不同大小的石墨顆粒進(jìn)行分層研磨,從而提高對石墨顆粒的研磨效果;

    19、通過風(fēng)力分離顆粒,可以起到快速的篩分作用,同時將未達(dá)標(biāo)的顆粒進(jìn)行收集,進(jìn)行二次的研磨,減少了原料浪費(fèi)的同時,提高了篩分的效率;

    20、連接桿在彈簧軸的彈性作用下上移,從而對擠壓板形成向上的推動,使擠壓板可以快速的復(fù)位,且復(fù)位的過程中,會對位于翻動組件上的石墨產(chǎn)生推力,將研磨完成的石墨推動到防護(hù)網(wǎng)上,再次對石墨進(jìn)行篩分;

    21、通過撞擊桿對防護(hù)網(wǎng)產(chǎn)生撞擊,從而使防護(hù)網(wǎng)產(chǎn)生振動,對防護(hù)網(wǎng)上的石墨進(jìn)行撞擊,使堵塞的石墨與防護(hù)網(wǎng)分離,避免了石墨造成防護(hù)網(wǎng)的堵塞,撞擊防護(hù)網(wǎng),不但保證了空氣的正常流動,保證了分離的效果,同時讓未研磨充分的石墨轉(zhuǎn)移到翻動組件上,進(jìn)行充分的研磨。

    本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點】

    1.一種石墨顆粒研磨設(shè)備,包括:安裝架(1)、固定在安裝架(1)中部的分離罐(2)、安裝在分離罐(2)上端的抽風(fēng)機(jī)(3)和設(shè)置在分離罐(2)內(nèi)部的研磨裝置(4),其特征在于,所述研磨裝置(4)包括轉(zhuǎn)動底盤(41),所述轉(zhuǎn)動底盤(41)邊緣設(shè)置有防護(hù)網(wǎng)(5),所述防護(hù)網(wǎng)(5)靠近轉(zhuǎn)動底盤(41)的一側(cè)設(shè)置有固定環(huán)架(10),所述防護(hù)網(wǎng)(5)截面為弧形,且遠(yuǎn)離轉(zhuǎn)動底盤(41)的一側(cè)高于靠近轉(zhuǎn)動底盤(41)的一側(cè);

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨顆粒研磨設(shè)備,其特征在于,所述轉(zhuǎn)動底盤(41)為圓臺形盤,且底端面積大于上端面積,所述轉(zhuǎn)動底盤(41)上環(huán)狀固定連接有多個分離條,將轉(zhuǎn)動底盤(41)分隔為多個導(dǎo)出空間。

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨顆粒研磨設(shè)備,其特征在于,所述研磨裝置(4)還包括安裝盤(42)、多個研磨輪(43)、研磨管(44)和驅(qū)動電機(jī)(45),所述安裝盤(42)固定安裝在轉(zhuǎn)動底盤(41)上端,且安裝盤(42)側(cè)邊開設(shè)有多個安裝口,多個所述研磨輪(43)轉(zhuǎn)動安裝口內(nèi)部,形成多個研磨轉(zhuǎn)層,所述研磨管(44)固定安裝在分離罐(2)中,且與研磨轉(zhuǎn)層之間形成多個不同大小的用于研磨的研磨空間,所述驅(qū)動電機(jī)(45)固定安裝在安裝架(1)底部,且輸出端用于帶動轉(zhuǎn)動底盤(41)轉(zhuǎn)動。

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨顆粒研磨設(shè)備,其特征在于,所述滾動組件(7)包括驅(qū)動桿(71)和研磨塊(72),所述驅(qū)動桿(71)安裝在轉(zhuǎn)動底盤(41)側(cè)邊,所述研磨塊(72)固定連接在驅(qū)動桿(71)端部,用于研磨石墨顆粒。

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種石墨顆粒研磨設(shè)備,其特征在于,所述研磨塊(72)為葫蘆形,且靠近轉(zhuǎn)動底盤(41)的一端體積大,用于擠壓研磨位于受壓環(huán)內(nèi)部的石墨顆粒。

    6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨顆粒研磨設(shè)備,其特征在于,所述分離罐(2)底部開設(shè)有多個進(jìn)風(fēng)口(11),所述進(jìn)風(fēng)口(11)內(nèi)部設(shè)置有過濾網(wǎng)(12),所述抽風(fēng)機(jī)(3)產(chǎn)生由下向上的空氣流動。

    7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨顆粒研磨設(shè)備,其特征在于,所述固定環(huán)架(10)內(nèi)部設(shè)置有多個復(fù)位組件(8),多個所述復(fù)位組件(8)分別與多個擠壓板(63)連接,且用于帶動擠壓板(63)彈性復(fù)位。

    8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種石墨顆粒研磨設(shè)備,其特征在于,所述復(fù)位組件(8)包括連接桿(81)、延伸桿(82)和彈簧軸(83),所述彈簧軸(83)安裝在固定環(huán)架(10)下方,所述延伸桿(82)固定連接在彈簧軸(83)上,所述連接桿(81)一端彈性連接在擠壓板(63)下方,且另一端與延伸桿(82)端部轉(zhuǎn)動連接。

    9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種石墨顆粒研磨設(shè)備,其特征在于,所述延伸桿(82)靠近擠壓板(63)的一端長度短于靠近防護(hù)網(wǎng)(5)的一端長度,所述延伸桿(82)和彈簧軸(83)形成杠桿,擠壓板(63)帶動延伸桿(82)一端下移時,延伸桿(82)另一端上移。

    10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種石墨顆粒研磨設(shè)備,其特征在于,所述延伸桿(82)遠(yuǎn)離擠壓板(63)的一端固定連接有撞擊桿(9),所述撞擊桿(9)垂直固定連接在延伸桿(82)端部,用于撞擊防護(hù)網(wǎng)(5)。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種石墨顆粒研磨設(shè)備,包括:安裝架(1)、固定在安裝架(1)中部的分離罐(2)、安裝在分離罐(2)上端的抽風(fēng)機(jī)(3)和設(shè)置在分離罐(2)內(nèi)部的研磨裝置(4),其特征在于,所述研磨裝置(4)包括轉(zhuǎn)動底盤(41),所述轉(zhuǎn)動底盤(41)邊緣設(shè)置有防護(hù)網(wǎng)(5),所述防護(hù)網(wǎng)(5)靠近轉(zhuǎn)動底盤(41)的一側(cè)設(shè)置有固定環(huán)架(10),所述防護(hù)網(wǎng)(5)截面為弧形,且遠(yuǎn)離轉(zhuǎn)動底盤(41)的一側(cè)高于靠近轉(zhuǎn)動底盤(41)的一側(cè);

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨顆粒研磨設(shè)備,其特征在于,所述轉(zhuǎn)動底盤(41)為圓臺形盤,且底端面積大于上端面積,所述轉(zhuǎn)動底盤(41)上環(huán)狀固定連接有多個分離條,將轉(zhuǎn)動底盤(41)分隔為多個導(dǎo)出空間。

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨顆粒研磨設(shè)備,其特征在于,所述研磨裝置(4)還包括安裝盤(42)、多個研磨輪(43)、研磨管(44)和驅(qū)動電機(jī)(45),所述安裝盤(42)固定安裝在轉(zhuǎn)動底盤(41)上端,且安裝盤(42)側(cè)邊開設(shè)有多個安裝口,多個所述研磨輪(43)轉(zhuǎn)動安裝口內(nèi)部,形成多個研磨轉(zhuǎn)層,所述研磨管(44)固定安裝在分離罐(2)中,且與研磨轉(zhuǎn)層之間形成多個不同大小的用于研磨的研磨空間,所述驅(qū)動電機(jī)(45)固定安裝在安裝架(1)底部,且輸出端用于帶動轉(zhuǎn)動底盤(41)轉(zhuǎn)動。

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨顆粒研磨設(shè)備,其特征在于,所述滾動組件(7)包括驅(qū)動桿(71)和研磨塊(72),所述驅(qū)動桿(71)安裝在轉(zhuǎn)動底盤(41)側(cè)邊,所述研磨塊(72)固定連接在驅(qū)動桿(71)端部,用于研磨石墨顆粒。

    ...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:戴建山,
    申請(專利權(quán))人:南通恒泰石墨設(shè)備系統(tǒng)有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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