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    除草衍生物制造技術

    技術編號:44276334 閱讀:6 留言:0更新日期:2025-02-14 22:15
    披露了具有式(I)的化合物,其中取代基如權利要求1中所定義。本發明專利技術進一步涉及包含具有式(I)的化合物的除草組合物,以及具有式(I)的化合物用于控制雜草(特別是在有用植物作物中)的用途。

    【技術實現步驟摘要】
    【國外來華專利技術】


    技術介紹


    技術實現思路

    【技術保護點】

    1.一種具有式(I)的化合物或其鹽或N-氧化物:

    2.根據權利要求1所述的化合物,其中,R1是C1-C4烷基、C1-C3烷氧基、C2-C3烯基、C2-C3炔基、C1-C3烷氧基C1-C3烷基、或C3-C4環烷基。

    3.根據權利要求1或權利要求2所述的化合物,其中,R2是可選地被1或2個可以相同或不同的由R7表示的基團取代的苯基。

    4.根據權利要求1至3中任一項所述的化合物,其中,R4是氫。

    5.根據權利要求1至4中任一項所述的化合物,其中,R5是苯基或雜芳基,其中所述雜芳基部分是包含1、2或3個單獨地選自N、O和S的雜原子的5元或6元芳香族環,并且其中每個苯基和雜芳基部分可以可選地被1、2或3個可以相同或不同的由R9表示的基團取代,并且其中當R5是5元雜芳基時,所述雜芳基部分通過碳原子與所述分子的其余部分附接。

    6.根據權利要求1至5中任一項所述的化合物,其中,R5是苯基或雜芳基,其中所述雜芳基部分是包含1或2個單獨地選自N和S的雜原子的5元或6元芳香族環,并且其中每個苯基和雜芳基部分可以可選地被1或2個可以相同或不同的由R9表示的基團取代,并且其中當R5是5元雜芳基時,所述雜芳基部分通過碳原子與所述分子的其余部分附接。

    7.根據權利要求1至6中任一項所述的化合物,其中,R6是氫。

    8.根據權利要求1至7中任一項所述的化合物,其中,R7是氰基、鹵素或C1-C3烷氧基。

    9.根據權利要求1至7中任一項所述的化合物,其中,R9是氰基、羥基、氯、氟、C1-C6烷基、C1-C3烷氧基、C1-C2鹵代烷基、三氟甲氧基、甲氧基甲基、甲基硫烷基、甲基磺酰基、乙酰基、甲氧基羰基、羥基羰基、或環丙基。

    10.根據權利要求1至9中任一項所述的化合物,其中,R2是3-氯-4-氰基苯基、3,4-二氯苯基、3-氯-4-異丙氧基苯基、或3,4-二氟苯基。

    11.一種除草組合物,其包含根據前述權利要求中任一項所述的化合物和農業上可接受的配制輔助劑。

    12.根據權利要求11所述的除草組合物,其進一步包含至少一種額外的殺有害生物劑。

    13.根據權利要求12所述的除草組合物,其中,所述額外的殺有害生物劑是除草劑或除草劑安全劑。

    14.一種在場所處控制雜草的方法,所述方法包括向所述場所施用控制雜草量的根據權利要求11至13中任一項所述的組合物。

    15.根據權利要求1至10中任一項所述的具有式(I)的化合物作為除草劑的用途。

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    【技術特征摘要】
    【國外來華專利技術】

    1.一種具有式(i)的化合物或其鹽或n-氧化物:

    2.根據權利要求1所述的化合物,其中,r1是c1-c4烷基、c1-c3烷氧基、c2-c3烯基、c2-c3炔基、c1-c3烷氧基c1-c3烷基、或c3-c4環烷基。

    3.根據權利要求1或權利要求2所述的化合物,其中,r2是可選地被1或2個可以相同或不同的由r7表示的基團取代的苯基。

    4.根據權利要求1至3中任一項所述的化合物,其中,r4是氫。

    5.根據權利要求1至4中任一項所述的化合物,其中,r5是苯基或雜芳基,其中所述雜芳基部分是包含1、2或3個單獨地選自n、o和s的雜原子的5元或6元芳香族環,并且其中每個苯基和雜芳基部分可以可選地被1、2或3個可以相同或不同的由r9表示的基團取代,并且其中當r5是5元雜芳基時,所述雜芳基部分通過碳原子與所述分子的其余部分附接。

    6.根據權利要求1至5中任一項所述的化合物,其中,r5是苯基或雜芳基,其中所述雜芳基部分是包含1或2個單獨地選自n和s的雜原子的5元或6元芳香族環,并且其中每個苯基和雜芳基部分可以可選地被1或2個可以相同或不同的由r9表示的基團取代,并且其中當r5是5元雜芳基時,所述雜芳基部分通過碳原子與所述分子的其余部分附接...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:J·A·莫里斯K·M·英格拉姆L·沃爾利A·L·克里斯托弗森E·J·埃米特P·T·塞登
    申請(專利權)人:先正達農作物保護股份公司
    類型:發明
    國別省市:

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