【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本文中所提供的實施例涉及圖像對準技術，更具體地，涉及用于表征圖像特征的未對準量的對準不良率。
技術介紹
1、在集成電路(ic)的制造過程中，檢查未成品電路部件或成品電路部件以確保其根據設計制造并且沒有缺陷。可以采用利用光學顯微鏡或帶電粒子(例如，電子)束顯微鏡(諸如掃描電子顯微鏡(sem))的檢查系統。隨著ic部件的物理大小繼續縮小，缺陷檢測的準確性和產率變得更加重要。諸如sem圖像之類的檢查圖像可以被用來標識或分類所制造的ic的(多個)缺陷。為了改善缺陷檢測性能，期望獲得sem圖像和對應設計布局數據之間的精確對準。
技術實現思路
1、本公開的各實施例提供了一種圖像對準方法。該方法可以包括：使用第一密度函數來獲取與感興趣區域相對應的檢查圖像的第一密度圖；使用第二密度函數來獲取與感興趣區域相對應的參考圖像的第二密度圖；以及基于所獲取的第一密度圖和第二密度圖來對準檢查圖像和參考圖像。
2、本公開的一些實施例提供了一種非暫態計算機可讀介質，存儲指令集合，該指令集集合由裝置的至少一個處理器實施，以引起該裝置執行上述方法。
3、本專利技術的一些實施例提供一種帶電粒子束裝置，被配置為執行上述方法。帶電粒子束裝置可以包括：帶電粒子束源，該帶電粒子束源被配置為生成初級帶電粒子束；帶電粒子光學系統，該帶電粒子光學系統被配置為將初級帶電粒子束引導在樣品表面處以便檢查該樣品表面；帶電粒子檢測器，該帶電粒子檢測器被配置為檢測從樣品表面返回的帶電粒子，其中帶電粒子檢測器包括第一感測元
4、本公開的一些實施例提供了另一圖像對準方法。該方法可以包括：獲取與樣品的感興趣區域相對應的檢查圖像；獲取與樣品的感興趣區域相對應的參考圖像；使用第一二元函數來獲取檢查圖像的檢查二元輪廓；使用第二二元函數來獲取參考圖像的參考二元輪廓；使用第一密度函數來獲取檢查二元輪廓的第一密度圖；使用第二密度函數來獲取參考二元輪廓的第二密度圖；以及基于所獲取的第一密度圖和第二密度圖來確定檢查圖像和參考圖像的對準參數。
5、本公開的一些實施例提供了一種非暫態計算機可讀介質，存儲指令集合，該指令集合可由裝置的至少一個處理器實施以引起該裝置執行上述另一方法。
6、本專利技術的一些實施例提供一種帶電粒子束裝置，被配置為執行上述方法。該帶電粒子束裝置可以包括：帶電粒子束源，該帶電粒子束源被配置為生成初級帶電粒子束；帶電粒子光學系統，該帶電粒子光學系統被配置成將初級帶電粒子束引導在樣品表面處以檢查該樣品表面；帶電粒子檢測器，該帶電粒子檢測器被配置為檢測從樣品表面返回的帶電粒子，其中帶電粒子檢測器包括第一感測元件和第二感測元件；以及控制器，該控制器包括一個或多個處理器，并且被配置為引起帶電粒子束裝置執行上述另一方法。
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1.一種存儲指令集合的非暫態計算機可讀介質，所述指令集合能夠由裝置的至少一個處理器實施，以引起所述裝置執行一種方法，所述方法包括：
2.根據權利要求1所述的非暫態計算機可讀介質，其中所述第一密度函數和所述第二密度函數相同。
3.根據權利要求1所述的非暫態計算機可讀介質，其中所述第一密度函數和所述第二密度函數彼此不同。
4.根據權利要求1所述的非暫態計算機可讀介質，其中：
5.根據權利要求1所述的非暫態計算機可讀介質，其中能夠由所述裝置的所述至少一個處理器實施的所述指令集合引起所述裝置還執行：
6.根據權利要求5所述的非暫態計算機可讀介質，其中：
7.根據權利要求5所述的非暫態計算機可讀介質，其中所述第一二元函數和所述第二二元函數相同。
8.根據權利要求5所述的非暫態計算機可讀介質，其中所述第一二元函數和所述第二二元函數彼此不同。
9.根據權利要求1所述的非暫態計算機可讀介質，其中能夠由所述裝置的所述至少一個處理器實施的所述指令集合引起所述裝置還執行：
10.根據權利要求9所
11.根據權利要求10所述的非暫態計算機可讀介質，其中能夠由所述裝置的所述至少一個處理器實施的所述指令集合引起所述裝置還執行：
12.根據權利要求10所述的非暫態計算機可讀介質，其中所述第一度量基于以下各項中的一項：交叉相關、經歸一化的交叉相關、F1分數、以及接收機操作特性(ROC)曲線的曲線下面積(AUC)。
13.根據權利要求1所述的非暫態計算機可讀介質，其中所述檢查圖像是帶電粒子束圖像。
14.根據權利要求13所述的非暫態計算機可讀介質，其中所述帶電粒子束圖像是SEM圖像。
15.根據權利要求1所述的非暫態計算機可讀介質，其中所述參考圖像基于設計布局文件和參考SEM圖像中的一項。
...【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】
1.一種存儲指令集合的非暫態計算機可讀介質，所述指令集合能夠由裝置的至少一個處理器實施，以引起所述裝置執行一種方法，所述方法包括：
2.根據權利要求1所述的非暫態計算機可讀介質，其中所述第一密度函數和所述第二密度函數相同。
3.根據權利要求1所述的非暫態計算機可讀介質，其中所述第一密度函數和所述第二密度函數彼此不同。
4.根據權利要求1所述的非暫態計算機可讀介質，其中：
5.根據權利要求1所述的非暫態計算機可讀介質，其中能夠由所述裝置的所述至少一個處理器實施的所述指令集合引起所述裝置還執行：
6.根據權利要求5所述的非暫態計算機可讀介質，其中：
7.根據權利要求5所述的非暫態計算機可讀介質，其中所述第一二元函數和所述第二二元函數相同。
8.根據權利要求5所述的非暫態計算機可讀介質，其中所述第一二元函數和所述第二二元函數彼此不同。
9.根據權利要求1所述的非暫態計算機可讀...
【專利技術屬性】
技術研發人員：左宏權，浦凌凌，徐明，
申請(專利權)人：ASML荷蘭有限公司，
類型：發明
國別省市：
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