【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)實施例涉及數(shù)據(jù)處理，尤其涉及一種缺陷檢測裝置、方法、光刻機、設(shè)備、介質(zhì)及程序產(chǎn)品。
技術(shù)介紹
1、光刻機的曝光原理是通過光化學(xué)反應(yīng)將光罩上的圖案印到晶圓表面，光罩上圖形的質(zhì)量直接影響晶圓產(chǎn)品質(zhì)量。
2、為防止灰塵等顆粒掉落至光罩上存在圖案的一側(cè)，通常蒙貼一層透明的薄膜(pellicle)。由于光罩在不同機臺之間轉(zhuǎn)移或長時間不用，導(dǎo)致薄膜無可避免的被污染或破損，而不同類型的缺陷，對光罩的污染程度不同。因此，如何提供一種技術(shù)方案，以確定缺陷的類型，成為了亟待解決的技術(shù)問題。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、有鑒于此，本專利技術(shù)實施例提供了一種缺陷檢測裝置、方法、光刻機、設(shè)備、介質(zhì)及程序產(chǎn)品，能夠提高缺陷類型的確定精度。
2、本專利技術(shù)實施例提供一種缺陷檢測裝置，用于對設(shè)置于光罩上的薄膜的缺陷進行檢測，所述缺陷檢測裝置包括：
3、探測模塊，用于承載所述光罩并對所述光罩上的薄膜進行掃描，以獲取所述薄膜上的缺陷信息，所述缺陷信息包括缺陷的數(shù)量，以及各個缺陷對應(yīng)的坐標值；
4、光源，用于向所述光罩提供照明光；
5、采集模塊，沿所述照明光經(jīng)所述光罩透射的路徑或所述薄膜反射的路徑上設(shè)置，用于在所述光罩被照射時，獲取至少包含所述薄膜的采樣圖像；
6、處理器，分別與所述探測模塊和所述采集模塊電連接，用于根據(jù)所述缺陷信息和所述采樣圖像，確定所述缺陷的類型。
7、可選地，所述光源和所述采集模塊均位于所述薄膜所在的一側(cè)。
...【技術(shù)保護點】
1.一種缺陷檢測裝置，其特征在于，用于對設(shè)置于光罩上的薄膜的缺陷進行檢測，所述缺陷檢測裝置包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述光源和所述采集模塊均位于所述薄膜所在的一側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述光源和所述采集模塊位于所述光罩相對的一側(cè)，且所述采集模塊位于所述薄膜所在的一側(cè)，所述光源位于背向所述薄膜的一側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述處理器，用于根據(jù)各個缺陷對應(yīng)的坐標值，采用預(yù)設(shè)的分割圖形，對所述采樣圖像進行分割，以得到多個子圖形，其中，一個所述子圖形對應(yīng)一個所述分割圖形；根據(jù)各個子圖形，以及與所述子圖形對應(yīng)的分割圖形，確定所述缺陷的類型，其中，所述分割圖形基于所述缺陷的類型設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述處理器，用于根據(jù)各個子圖形的輪廓，與所述子圖形對應(yīng)的分割圖形的輪廓之間的相似度，確定所述缺陷的類型。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述采集模塊采集到的所述采樣圖像的坐標信息和所述探測模
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述處理器，用于根據(jù)預(yù)先設(shè)置的灰度值差值與缺陷類型之間的對應(yīng)關(guān)系，以及所述灰度值差值，確定所述缺陷的類型；
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，還包括：
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述驅(qū)動機構(gòu)包括：
10.一種缺陷檢測方法，其特征在于，用于對設(shè)置于光罩上的薄膜的缺陷進行檢測，所述缺陷檢測方法包括：
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的缺陷檢測方法，其特征在于，所述根據(jù)所述缺陷信息和所述采樣圖像，確定所述缺陷的類型的步驟包括：
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的缺陷檢測方法，其特征在于，所述采樣圖像的坐標信息和各個缺陷對應(yīng)的坐標值存在對應(yīng)關(guān)系；
13.一種光刻機，其特征在于，包括：如權(quán)利要求1至9任一項所述的缺陷檢測裝置。
14.一種數(shù)據(jù)處理設(shè)備，其特征在于，包括存儲器和處理器，其中，所述存儲器適于存儲一條或多條計算機指令，所述處理器運行所述計算機指令時，執(zhí)行如權(quán)利要求10至12任一項所述的缺陷檢測方法的步驟。
15.一種存儲介質(zhì)，其特征在于，所述存儲介質(zhì)存儲有一條或多條計算機指令，所述一條或多條計算機指令用于實現(xiàn)如權(quán)利要求10至12任一項所述的缺陷檢測方法的步驟。
16.一種計算機程序產(chǎn)品，其特征在于，包括計算機指令，所述計算機指令被處理器執(zhí)行時用于實現(xiàn)如權(quán)利要求10至12任一項所述的缺陷檢測方法的步驟。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種缺陷檢測裝置，其特征在于，用于對設(shè)置于光罩上的薄膜的缺陷進行檢測，所述缺陷檢測裝置包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述光源和所述采集模塊均位于所述薄膜所在的一側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述光源和所述采集模塊位于所述光罩相對的一側(cè)，且所述采集模塊位于所述薄膜所在的一側(cè)，所述光源位于背向所述薄膜的一側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述處理器，用于根據(jù)各個缺陷對應(yīng)的坐標值，采用預(yù)設(shè)的分割圖形，對所述采樣圖像進行分割，以得到多個子圖形，其中，一個所述子圖形對應(yīng)一個所述分割圖形；根據(jù)各個子圖形，以及與所述子圖形對應(yīng)的分割圖形，確定所述缺陷的類型，其中，所述分割圖形基于所述缺陷的類型設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述處理器，用于根據(jù)各個子圖形的輪廓，與所述子圖形對應(yīng)的分割圖形的輪廓之間的相似度，確定所述缺陷的類型。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述采集模塊采集到的所述采樣圖像的坐標信息和所述探測模塊掃描得到的缺陷對應(yīng)的坐標值存在對應(yīng)關(guān)系；
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述處理器，用于根據(jù)預(yù)先設(shè)置的灰度值差值與缺陷類型之間的對應(yīng)關(guān)系，以及所述灰度...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：李超，
申請(專利權(quán))人：浙江創(chuàng)芯集成電路有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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