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    一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置制造方法及圖紙

    技術(shù)編號(hào):44284299 閱讀:6 留言:0更新日期:2025-02-14 22:20
    本發(fā)明專利技術(shù)提供了一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,涉及涂敷檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,包括安裝在多個(gè)所述隨動(dòng)管上的吸盤,所述升降盤上開設(shè)有內(nèi)嵌槽,所述隨動(dòng)管內(nèi)同軸心滑動(dòng)安裝有密封塊,所述密封塊的上端等距開設(shè)有多個(gè)伸縮孔,每個(gè)所述伸縮孔內(nèi)分別滑動(dòng)連接有控制桿,所述密封塊的上端面開設(shè)有和伸縮孔數(shù)量相同的頂部孔,頂部孔連通在伸縮孔內(nèi),每個(gè)所述控制桿上分別開設(shè)有控制槽,每個(gè)所述控制桿的伸出部分安裝有平行板,在晶圓固定系統(tǒng)方面,采用了多點(diǎn)吸附式固定結(jié)構(gòu),通過升降盤和多個(gè)隨動(dòng)管的協(xié)同工作,實(shí)現(xiàn)了晶圓的全方位穩(wěn)定固定,這種設(shè)計(jì)不僅提高了晶圓固定的穩(wěn)定性,還能夠通過負(fù)壓檢測(cè)判斷固定是否到位確保了檢測(cè)精度。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及涂敷檢測(cè),更具體的說,它涉及一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置


    技術(shù)介紹

    1、在當(dāng)代半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,晶圓生產(chǎn)過程中的光刻膠涂敷檢測(cè)是一個(gè)極其關(guān)鍵的工藝環(huán)節(jié),現(xiàn)有的檢測(cè)裝置雖然配備了多個(gè)吸盤用于晶圓固定,這種設(shè)計(jì)本應(yīng)能夠提供全方位的穩(wěn)定支撐,然而,在實(shí)際操作過程中,設(shè)備往往在僅有一個(gè)吸盤完成固定的情況下就開始進(jìn)行檢測(cè),沒有充分利用多點(diǎn)固定的優(yōu)勢(shì),這種操作方式嚴(yán)重違背了設(shè)備的設(shè)計(jì)初衷,使多吸盤固定系統(tǒng)的功能優(yōu)勢(shì)無法得到充分發(fā)揮。

    2、這種不當(dāng)?shù)牟僮鞣绞綄?dǎo)致了一系列技術(shù)問題,當(dāng)晶圓僅由單個(gè)吸盤固定時(shí),其他未啟動(dòng)的吸盤無法提供必要的支撐力,使得晶圓在檢測(cè)過程中容易產(chǎn)生不均勻的應(yīng)力分布和微小的形變,這些問題直接影響了光刻膠涂敷的檢測(cè)精度,尤其在進(jìn)行高精度檢測(cè)時(shí),晶圓表面的任何細(xì)微變形都可能導(dǎo)致檢測(cè)數(shù)據(jù)產(chǎn)生偏差,最終影響產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率,這種情況不僅降低了檢測(cè)的可靠性,還可能造成整個(gè)生產(chǎn)線的質(zhì)量控制水平下降。


    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    1、(一)解決的技術(shù)問題

    2、針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,本專利技術(shù)提供了一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,以解決
    技術(shù)介紹
    中提到的技術(shù)問題。

    3、(二)技術(shù)方案

    4、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本專利技術(shù)提供如下技術(shù)方案:一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,包括升降盤和沿著升降盤軸心設(shè)置有多個(gè)的隨動(dòng)管,

    5、吸附機(jī)構(gòu),包括安裝在多個(gè)所述隨動(dòng)管上的吸盤,所述升降盤上開設(shè)有內(nèi)嵌槽,所述隨動(dòng)管內(nèi)同軸心滑動(dòng)安裝有密封塊,所述密封塊的上端等距開設(shè)有多個(gè)伸縮孔,每個(gè)所述伸縮孔內(nèi)分別滑動(dòng)連接有控制桿,所述密封塊的上端面開設(shè)有和伸縮孔數(shù)量相同的頂部孔,頂部孔連通在伸縮孔內(nèi),每個(gè)所述控制桿上分別開設(shè)有控制槽,每個(gè)所述控制桿的伸出部分安裝有平行板,所述平行板貼合在所述密封塊上,所述控制桿上安裝有圓頭,所述密封塊的上端面上安裝有限位邊,多個(gè)所述平行板只能在所述限位邊內(nèi)滑動(dòng);以及

    6、負(fù)壓機(jī)構(gòu),包括連通在多個(gè)所述隨動(dòng)管上的外接管,多個(gè)所述外接管分別連接在外界負(fù)壓設(shè)備上。

    7、優(yōu)選的是,所述升降盤的下端安裝有工作臺(tái),所述工作臺(tái)上安裝有移動(dòng)架,所述移動(dòng)架的伸出端上安裝有檢測(cè)器,工作臺(tái)上安裝有氣缸,氣缸的伸出端連接在升降盤上。

    8、優(yōu)選的是,多個(gè)所述平行板上分別安裝有彈簧,彈簧套接滑動(dòng)連接在控制桿上,且所述彈簧抵觸在密封塊的側(cè)壁上,這種設(shè)計(jì)通過彈簧的彈性作用,為平行板提供了穩(wěn)定的彈力,同時(shí)確保控制桿的靈活運(yùn)動(dòng),提高了密封系統(tǒng)的可靠性和響應(yīng)速度。

    9、優(yōu)選的是,所述吸附機(jī)構(gòu)還包括安裝在工作臺(tái)上沿軸心設(shè)置的多個(gè)固定桿,多個(gè)所述固定桿上安裝有通氣管,所述隨動(dòng)管的下端面上開設(shè)有底部孔,通氣管滑動(dòng)連接在底部孔內(nèi),通氣管穿過底部孔連通在密封塊上,這種設(shè)計(jì)通過固定桿和通氣管的配合,建立了穩(wěn)定的氣路系統(tǒng),確保了負(fù)壓傳遞的可靠性和密封性。

    10、優(yōu)選的是,所述密封塊內(nèi)沿著軸心開設(shè)有和伸縮孔數(shù)量相同的直角槽,并且密封塊的中心位置開設(shè)有中心槽,中心槽一端連通在多個(gè)所述伸縮孔內(nèi),中心槽的另一端連通在通氣管內(nèi),這種設(shè)計(jì)通過直角槽和中心槽的布置,形成了完整的氣路網(wǎng)絡(luò),實(shí)現(xiàn)了負(fù)壓的均勻分配和有效傳遞。

    11、優(yōu)選的是,所述通氣管的側(cè)壁上等距開設(shè)有多個(gè)連通槽,所述通氣管上下兩端分別安裝有頂部盤和底部盤,底部盤連接在多個(gè)所述固定桿上,當(dāng)頂部盤抵觸在隨動(dòng)管內(nèi)時(shí)多個(gè)所述連通槽分別連通在隨動(dòng)管內(nèi)外兩側(cè),這種設(shè)計(jì)通過連通槽和頂?shù)妆P的配合,實(shí)現(xiàn)了氣路的自動(dòng)切換和密封,確保了負(fù)壓系統(tǒng)的可靠運(yùn)行。

    12、優(yōu)選的是,多個(gè)所述隨動(dòng)管之間安裝有環(huán)形管,多個(gè)所述隨動(dòng)管分別連通在環(huán)形管內(nèi),這種設(shè)計(jì)通過環(huán)形管將多個(gè)隨動(dòng)管連通,實(shí)現(xiàn)了負(fù)壓的均衡分配,提高了整個(gè)系統(tǒng)的穩(wěn)定性和可靠性。

    13、優(yōu)選的是,所述負(fù)壓機(jī)構(gòu)還包括對(duì)稱安裝在外接管內(nèi)壁上的兩個(gè)單向盤,且外接管內(nèi)同軸心設(shè)置有兩個(gè)對(duì)稱安裝有單向板,兩個(gè)所述單向板之間安裝有兩個(gè)雙向桿,這種設(shè)計(jì)通過單向盤和單向板的配合,實(shí)現(xiàn)了負(fù)壓的單向控制,提高了系統(tǒng)的穩(wěn)定性。

    14、優(yōu)選的是,所述外接管的內(nèi)壁上安裝有中間板,中間板內(nèi)開設(shè)有兩個(gè)滑槽,雙向桿滑動(dòng)連接在兩個(gè)所述滑槽內(nèi),兩個(gè)所述滑槽的內(nèi)壁上開設(shè)有多個(gè)微流孔。

    15、優(yōu)選的是,兩個(gè)所述單向板上分別安裝有回正簧,兩個(gè)所述回正簧分別連接在中間板的兩側(cè),這種設(shè)計(jì)通過回正簧的彈性作用,確保了單向板的自動(dòng)復(fù)位功能,提高了系統(tǒng)的可靠性。

    16、(三)有益效果

    17、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本專利技術(shù)提供了一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,具備以下有益效果:

    18、首先,在晶圓固定系統(tǒng)方面,采用了多點(diǎn)吸附式固定結(jié)構(gòu),通過升降盤和多個(gè)隨動(dòng)管的協(xié)同工作,實(shí)現(xiàn)了晶圓的全方位穩(wěn)定固定,這種設(shè)計(jì)不僅提高了晶圓固定的穩(wěn)定性,還能夠通過負(fù)壓檢測(cè)判斷固定是否到位,有效避免了晶圓在檢測(cè)過程中的位移和變形,確保了檢測(cè)精度。

    19、其次,在負(fù)壓控制系統(tǒng)方面,創(chuàng)新性地設(shè)計(jì)了雙向壓力平衡機(jī)構(gòu),通過外接管、單向盤和單向板的巧妙配合,實(shí)現(xiàn)了負(fù)壓的精確控制和自動(dòng)調(diào)節(jié),當(dāng)系統(tǒng)出現(xiàn)微小漏氣時(shí),外部負(fù)壓設(shè)備能夠及時(shí)補(bǔ)充,保持穩(wěn)定的負(fù)壓環(huán)境;而在壓力激變時(shí),系統(tǒng)能夠自動(dòng)隔離外部負(fù)壓源,防止壓力波動(dòng)影響檢測(cè)效果。

    20、最后,在安全保護(hù)方面,通過密封塊、控制桿和彈簧等組件的協(xié)同工作,構(gòu)建了完善的安全保護(hù)機(jī)制,當(dāng)晶圓放置不當(dāng)時(shí),系統(tǒng)能夠自動(dòng)解除吸附,避免對(duì)晶圓造成損壞,同時(shí),整個(gè)系統(tǒng)的啟動(dòng)和釋放過程都實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)化控制,大大提高了操作的安全性和便利性。

    本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    1.一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,包括升降盤(11)和沿著升降盤(11)軸心設(shè)置有多個(gè)的隨動(dòng)管(12),

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,其特征是:所述升降盤(11)的下端安裝有工作臺(tái)(13),所述工作臺(tái)(13)上安裝有移動(dòng)架(14),所述移動(dòng)架(14)的伸出端上安裝有檢測(cè)器(15),工作臺(tái)(13)上安裝有氣缸(16),氣缸(16)的伸出端連接在升降盤(11)上。

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,其特征是:多個(gè)所述平行板(28)上分別安裝有彈簧(211),彈簧(211)套接滑動(dòng)連接在控制桿(25)上,且所述彈簧(211)抵觸在密封塊(23)的側(cè)壁上。

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,其特征是:所述吸附機(jī)構(gòu)還包括安裝在工作臺(tái)(13)上沿軸心設(shè)置的多個(gè)固定桿(212),多個(gè)所述固定桿(212)上安裝有通氣管(213),所述隨動(dòng)管(12)的下端面上開設(shè)有底部孔(214),通氣管(213)滑動(dòng)連接在底部孔(214)內(nèi),通氣管(213)穿過底部孔(214)連通在密封塊(23)上。

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,其特征是:所述密封塊(23)內(nèi)沿著軸心開設(shè)有和伸縮孔(24)數(shù)量相同的直角槽(215),并且密封塊(23)的中心位置開設(shè)有中心槽(216),中心槽(216)一端連通在多個(gè)所述伸縮孔(24)內(nèi),中心槽(216)的另一端連通在通氣管(213)內(nèi)。

    6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,其特征是:所述通氣管(213)的側(cè)壁上等距開設(shè)有多個(gè)連通槽(217),所述通氣管(213)上下兩端分別安裝有頂部盤(218)和底部盤(219),底部盤(219)連接在多個(gè)所述固定桿(212)上,當(dāng)頂部盤(218)抵觸在隨動(dòng)管(12)內(nèi)時(shí)多個(gè)所述連通槽(217)分別連通在隨動(dòng)管(12)內(nèi)外兩側(cè)。

    7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,其特征是:多個(gè)所述隨動(dòng)管(12)之間安裝有環(huán)形管(220),多個(gè)所述隨動(dòng)管(12)分別連通在環(huán)形管(220)內(nèi)。

    8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,其特征是:所述負(fù)壓機(jī)構(gòu)還包括對(duì)稱安裝在外接管(31)內(nèi)壁上的兩個(gè)單向盤(32),且外接管(31)內(nèi)同軸心設(shè)置有兩個(gè)對(duì)稱安裝有單向板(33),兩個(gè)所述單向板(33)之間安裝有兩個(gè)雙向桿(34)。

    9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,其特征是:所述外接管(31)的內(nèi)壁上安裝有中間板(35),中間板(35)內(nèi)開設(shè)有兩個(gè)滑槽(36),雙向桿(34)滑動(dòng)連接在兩個(gè)所述滑槽(36)內(nèi),兩個(gè)所述滑槽(36)的內(nèi)壁上開設(shè)有多個(gè)微流孔(37)。

    10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,其特征是:兩個(gè)所述單向板(33)上分別安裝有回正簧(38),兩個(gè)所述回正簧(38)分別連接在中間板(35)的兩側(cè)。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,包括升降盤(11)和沿著升降盤(11)軸心設(shè)置有多個(gè)的隨動(dòng)管(12),

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,其特征是:所述升降盤(11)的下端安裝有工作臺(tái)(13),所述工作臺(tái)(13)上安裝有移動(dòng)架(14),所述移動(dòng)架(14)的伸出端上安裝有檢測(cè)器(15),工作臺(tái)(13)上安裝有氣缸(16),氣缸(16)的伸出端連接在升降盤(11)上。

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,其特征是:多個(gè)所述平行板(28)上分別安裝有彈簧(211),彈簧(211)套接滑動(dòng)連接在控制桿(25)上,且所述彈簧(211)抵觸在密封塊(23)的側(cè)壁上。

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,其特征是:所述吸附機(jī)構(gòu)還包括安裝在工作臺(tái)(13)上沿軸心設(shè)置的多個(gè)固定桿(212),多個(gè)所述固定桿(212)上安裝有通氣管(213),所述隨動(dòng)管(12)的下端面上開設(shè)有底部孔(214),通氣管(213)滑動(dòng)連接在底部孔(214)內(nèi),通氣管(213)穿過底部孔(214)連通在密封塊(23)上。

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種晶圓生產(chǎn)用光刻膠涂敷檢測(cè)裝置,其特征是:所述密封塊(23)內(nèi)沿著軸心開設(shè)有和伸縮孔(24)數(shù)量相同的直角槽(215),并且密封塊(23)的中心位置開設(shè)有中心槽(216),中心槽(216)一端連通在多個(gè)所述伸縮孔(24)內(nèi),中心槽(216)的另一端連通在...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:羅啟祥高梁
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:江西省永合新材料科技有限公司
    類型:發(fā)明
    國(guó)別省市:

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