【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及光刻涂膠顯影，具體涉及一種光刻用涂膠顯影系統(tǒng)。
技術(shù)介紹
1、現(xiàn)有的光刻設(shè)備中，涂膠顯影過程是關(guān)鍵的步驟之一。傳統(tǒng)的涂膠顯影系統(tǒng)通常包括涂膠單元和顯影單元，其中涂膠單元負責將光敏性材料均勻地涂布在硅片表面，而顯影單元則負責將曝光后的圖案顯現(xiàn)出來。例如，美國專利us?6572810b2公開了一種涂膠顯影設(shè)備，該設(shè)備通過旋轉(zhuǎn)涂布頭和精確控制的化學泵送系統(tǒng)來實現(xiàn)高質(zhì)量的涂膠和顯影效果。然而，這種系統(tǒng)存在一些局限性，如涂布效率不高、化學材料利用率低等問題。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點，提供了一種光刻用涂膠顯影系統(tǒng)，具體通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)：
2、一種光刻用涂膠顯影系統(tǒng)，包括涂布系統(tǒng)、泵送系統(tǒng)、智能調(diào)整模塊，其中：
3、所述涂布系統(tǒng)用于將光刻膠涂布在基材上；
4、所述泵送系統(tǒng)用于向涂布系統(tǒng)提供穩(wěn)定、連續(xù)的光刻膠供應(yīng)，所述泵送系統(tǒng)能夠根據(jù)不同光刻膠的光敏特性自動調(diào)整泵送參數(shù)；
5、所述智能調(diào)整模塊用于實時監(jiān)控設(shè)備的運行狀態(tài)并進行參數(shù)調(diào)整。
6、可選或優(yōu)選地，所述涂布系統(tǒng)包括噴頭、噴頭控制系統(tǒng)、管道系統(tǒng)、清洗系統(tǒng)；
7、所述噴頭負責將光刻膠以精確控制的量和形態(tài)噴涂到硅片或其他基材上；所述噴頭為微納米結(jié)構(gòu)；
8、所述噴頭控制系統(tǒng)用于精確控制噴頭的移動速度、噴涂量和噴涂模式；
9、所述管道系統(tǒng)與噴頭和泵送系統(tǒng)相連；
10、所述清洗系統(tǒng)用于清洗噴涂過
11、可選或優(yōu)選地，所述泵送系統(tǒng)包括光刻膠供給瓶、緩沖罐、運送泵、過濾器；
12、所述光刻膠供給瓶用于存放待涂布的光刻膠；
13、所述緩沖罐設(shè)置在光刻膠供給瓶與排液膠泵之間，所述緩沖罐頂部設(shè)有進液口和排液口，底部設(shè)有光刻膠出口；進液口通過進液管路與光刻膠供給瓶連通，使光刻膠流入緩沖罐；所述排液口與排液膠泵通過排液管路相連，用于抽取緩沖罐中的空氣；
14、所述運送泵用于為泵送系統(tǒng)提供動力，所述運送膠泵通過泵送的方式促使光刻膠進入緩沖罐，并將緩沖罐中的空氣以及含有氣泡的光刻膠抽取出去；
15、所述過濾器設(shè)置在光刻膠供給瓶與涂布系統(tǒng)之間，用以去除光刻膠中的雜質(zhì)和顆粒。
16、可選或優(yōu)選地，所述智能調(diào)整模塊包括傳感器組、數(shù)據(jù)采集單元、信號處理單元、自適應(yīng)調(diào)整單元；
17、所述傳感器組包括多個分布布設(shè)在涂布系統(tǒng)和泵送系統(tǒng)中的傳感器，所述傳感器組用于采集包括但不限于光刻膠的流量、壓力和溫度參數(shù)，并將采集的信息通過電信號的方式傳輸給數(shù)據(jù)采集單元；
18、所述數(shù)據(jù)采集單元用于接收傳感器組傳輸?shù)碾娦盘枺瑢⑵滢D(zhuǎn)換為數(shù)字信號進行存儲，并將數(shù)字信號傳輸至信號處理單元；
19、所述信號處理單元對接收到的數(shù)字信號進行進一步的處理和分析，以提取出有用的信息，具體地，處理方式包括但不限于濾波、放大、轉(zhuǎn)換等操作，以便更好地理解和利用這些數(shù)據(jù)；
20、所述自適應(yīng)調(diào)整單元根據(jù)信號處理單元提供的信息，對涂布過程和泵送過程進行實時調(diào)整，以確保涂布質(zhì)量符合要求。
21、可選或優(yōu)選地，所述智能調(diào)整模塊還包括用戶界面；所述用戶界面用于顯示智能調(diào)整模塊的調(diào)整結(jié)果以及各個系統(tǒng)的實時參數(shù)；通過用戶界面，操作人員可以方便地進行參數(shù)設(shè)置、模式選擇等操作，并實時了解涂布過程的進展和結(jié)果。
22、可選或優(yōu)選地，所述智能調(diào)整模塊還包括安全保護模塊，當檢測到異常情況時，安全保護模塊可以控制涂布系統(tǒng)和泵送系統(tǒng)停止運行并發(fā)出警報，以避免潛在的安全風險。
23、基于上述技術(shù)方案，本專利技術(shù)提供的一種光刻用涂膠顯影系統(tǒng)，可產(chǎn)生如下技術(shù)效果：
24、(1)本專利技術(shù)的涂布效率高、生產(chǎn)周期短；
25、(2)本專利技術(shù)的化學材料利用率高，生產(chǎn)成本降低；
26、(3)本專利技術(shù)對不同類型的光敏材料適應(yīng)性強；
27、(4)本專利技術(shù)維護簡單、操作難度低。
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1.一種光刻用涂膠顯影系統(tǒng)，其特征在于：包括涂布系統(tǒng)、泵送系統(tǒng)、智能調(diào)整模塊，其中：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光刻用涂膠顯影系統(tǒng)，其特征在于：所述涂布系統(tǒng)包括噴頭、噴頭控制系統(tǒng)、管道系統(tǒng)、清洗系統(tǒng)；
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光刻用涂膠顯影系統(tǒng)，其特征在于：所述泵送系統(tǒng)包括光刻膠供給瓶、緩沖罐、運送泵、過濾器；
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光刻用涂膠顯影系統(tǒng)，其特征在于：所述智能調(diào)整模塊包括傳感器組、數(shù)據(jù)采集單元、信號處理單元、自適應(yīng)調(diào)整單元；
5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的一種光刻用涂膠顯影系統(tǒng)，其特征在于：所述智能調(diào)整模塊還包括用戶界面；所述用戶界面用于顯示智能調(diào)整模塊的調(diào)整結(jié)果以及各個系統(tǒng)的實時參數(shù)；通過用戶界面，操作人員可以方便地進行參數(shù)設(shè)置、模式選擇等操作，并實時了解涂布過程的進展和結(jié)果。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的一種光刻用涂膠顯影系統(tǒng)，其特征在于：所述智能調(diào)整模塊還包括安全保護模塊，當檢測到異常情況時，安全保護模塊可以控制涂布系統(tǒng)和泵送系統(tǒng)停止運行并發(fā)出警報，以避免潛在的安全風險。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種光刻用涂膠顯影系統(tǒng)，其特征在于：包括涂布系統(tǒng)、泵送系統(tǒng)、智能調(diào)整模塊，其中：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光刻用涂膠顯影系統(tǒng)，其特征在于：所述涂布系統(tǒng)包括噴頭、噴頭控制系統(tǒng)、管道系統(tǒng)、清洗系統(tǒng)；
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光刻用涂膠顯影系統(tǒng)，其特征在于：所述泵送系統(tǒng)包括光刻膠供給瓶、緩沖罐、運送泵、過濾器；
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光刻用涂膠顯影系統(tǒng)，其特征在于：所述智能調(diào)整模塊包括傳感器組、數(shù)據(jù)采集單元、信號處理單元、自適應(yīng)調(diào)整單元...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：劉宏偉，任青梅，
申請(專利權(quán))人：蘇州勵索精密裝備科技有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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