【技術實現步驟摘要】
本申請涉及顯示，尤其涉及一種顯示基板及其制作方法、顯示面板。
技術介紹
1、液晶顯示器(liquid?crystal?display，lcd)是利用施加在液晶分子上電場強度的變化，改變液晶分子的取向控制透過光的強弱來顯示圖像。一般來講，一塊完整的液晶顯示面板必須有背光模塊、偏光片、顯示基板和彩膜基板以及由兩塊基板組成的盒中填充的液晶分子層構成。顯示基板上設置有大量的像素電極，像素電極上的電壓大小及通斷由與橫向掃描信號線相連接的柵極、與縱向驅動信號線連接的源極信號控制，并通過彩膜基板上的公共電極與顯示基板上的像素電極之間的電場強度變化控制著液晶分子的取向。
2、氧化銦錫(indium?tin?oxides，ito)是一種既透明又導電的材料，由于ito薄膜因其良好的光電性能，在液晶顯示器領域廣泛應用，常用作公共電極和像素電極。但是ito材料具有以下缺點：其一，ito材料導電率較低，容易造成產品效果不良；其二，ito所制得的薄膜厚度較厚，不符合市場更薄、更輕的發展趨勢；其三，ito材料非常脆，在工業制備中容易損壞，易造成經濟損失和資源浪費，不適合未來柔性觸控屏幕的發展趨勢；其四，ito材料的化學性質不穩定，同時散熱性能較差，在大功率器件上的應用受到很大限制；其五，ito材料具備有毒性，不利于環保，同時銦又是一種稀有元素，儲量低，價格也曰益增長，對資源造成浪費。因此急需一種能夠替換ito材料的透明導電材料。
技術實現思路
1、本申請實施例的目的是提供一種顯示基板及其制作方法、顯
2、本申請實施例公開了一種顯示基板，所述顯示基板包括襯底、顯示功能層、鈍化層和透明電極層，所述顯示功能層設置在所述襯底上，所述鈍化層設置在所述顯示功能層上，所述透明電極層設置在所述鈍化層上；其中，所述鈍化層的材料為氮化硅或氧化硅，所述透明電極層的材料為胺基化石墨烯。
3、可選的，所述透明電極層的厚度為300-500a。
4、本申請實施例還公開了一種顯示基板的制作方法，用于制作如上所述的顯示基板，所述制作方法包括步驟：
5、在襯底上形成顯示功能層；
6、在所述顯示功能層上形成由氮化硅或氧化硅材料構成的鈍化層；以及
7、在所述鈍化層上形成由胺基化石墨烯材料構成的透明電極層。
8、可選的，在所述鈍化層上形成由胺基化石墨烯材料構成的透明電極層這一步驟中，包括：
9、制備氧化石墨烯；
10、將氧化石墨烯反應制得胺基化石墨烯；
11、將胺基化石墨烯制備成胺基化石墨烯分散液；以及
12、將胺基化石墨烯分散液沉積在所述鈍化層上得到由胺基化石墨烯材料構成的透明電極層。
13、可選的，在將氧化石墨烯反應制得胺基化石墨烯這一步驟中，包括：
14、將氧化石墨烯、n,n-二環己基碳二亞胺和乙二胺混合；
15、將上述混合物在110-130℃的條件下回流22-26h進行反應；
16、將反應后的溶液用乙醇和二次水進行清洗；以及
17、將清洗后的產物在50-70℃的條件下干燥得到胺基化石墨烯。
18、可選的，在將胺基化石墨烯制備成胺基化石墨烯分散液這一步驟中，將胺基化石墨烯置于n,n-二甲基甲酰胺溶液中，并超聲分散，得到胺基化石墨烯分散液。
19、可選的，胺基化石墨烯的濃度為0.8-1.2mg/ml。
20、可選的，在將胺基化石墨烯分散液沉積在所述鈍化層上得到由胺基化石墨烯材料構成的透明電極層這一步驟中，胺基化石墨烯分散液通過電化學沉積工藝沉積在所述鈍化層上，且電化學沉積工藝中的電壓為80-100v。
21、可選的，在將胺基化石墨烯分散液沉積在所述鈍化層上得到由胺基化石墨烯材料構成的透明電極層這一步驟中，胺基化石墨烯分散液通過電化學沉積工藝沉積在所述鈍化層上，且電化學沉積工藝中的時間為110-130s。
22、本申請實施例還公開了一種顯示面板，所述顯示面板包括對置基板和如上所述的顯示基板，所述對置基板和所述顯示基板對盒設置。
23、本申請實施例的有益效果為：相對于由ito材料制作成透明電極層的方案來說，本提案采用由胺基化石墨烯制作透明電極層，由于胺基化石墨烯的電導率約10^6s·m-1，而ito的導電率為10^4s.m-1，可見胺基化石墨烯的電導率遠高于ito的電導率，由胺基化石墨烯制備的透明電極層導電效果更好；而且，在滿足相同導電效果的情況下，胺基化石墨烯制備的透明電極層的厚度更小，從而有利于減小薄膜和產品的厚度；其次，由于透明電極層和鈍化層相貼合，且鈍化層的材料為氮化硅或氧化硅，透明電極層的材料為胺基化石墨烯，胺基化石墨烯中的原子能夠與氮化硅或氧化硅中的原子產生較大的結合力，從而提高透明電極層和鈍化層之間的附著力，防止透明電極層成膜后出現邊緣翹曲的問題，并且還能滿足柔性觸控屏幕的使用需求；另外，胺基化石墨烯的化學性質不穩定、無毒性、容易制備，能夠極大地滿足市場需求，具有極高的市場競爭力。
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1.一種顯示基板，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述透明電極層的厚度為300-500A。
3.一種顯示基板的制作方法，用于制作如權利要求1-2任意一項所述的顯示基板，其特征在于，包括步驟：
4.如權利要求3所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，在所述鈍化層上形成由胺基化石墨烯材料構成的透明電極層這一步驟中，包括：
5.如權利要求4所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，在將氧化石墨烯反應制得胺基化石墨烯這一步驟中，包括：
6.如權利要求4所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，在將胺基化石墨烯制備成胺基化石墨烯分散液這一步驟中，將胺基化石墨烯置于N,N-二甲基甲酰胺溶液中，并超聲分散，得到胺基化石墨烯分散液。
7.如權利要求6所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，胺基化石墨烯的濃度為0.8-1.2mg/mL。
8.如權利要求4所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，在將胺基化石墨烯分散液沉積在所述鈍化層上得到由胺基化石墨烯材料構成的透明電極層這一步驟中，胺基化石墨烯分散
9.如權利要求4所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，在將胺基化石墨烯分散液沉積在所述鈍化層上得到由胺基化石墨烯材料構成的透明電極層這一步驟中，胺基化石墨烯分散液通過電化學沉積工藝沉積在所述鈍化層上，且電化學沉積工藝中的時間為110-130S。
10.一種顯示面板，其特征在于，包括對置基板和如權利要求1-2任意一項所述的顯示基板，所述對置基板和所述顯示基板對盒設置。
...【技術特征摘要】
1.一種顯示基板，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述透明電極層的厚度為300-500a。
3.一種顯示基板的制作方法，用于制作如權利要求1-2任意一項所述的顯示基板，其特征在于，包括步驟：
4.如權利要求3所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，在所述鈍化層上形成由胺基化石墨烯材料構成的透明電極層這一步驟中，包括：
5.如權利要求4所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，在將氧化石墨烯反應制得胺基化石墨烯這一步驟中，包括：
6.如權利要求4所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，在將胺基化石墨烯制備成胺基化石墨烯分散液這一步驟中，將胺基化石墨烯置于n,n-二甲基甲酰胺溶液中，并超聲分散，得到胺基化石墨烯分散液。
7.如權利要求6...
【專利技術屬性】
技術研發人員：呂曉圓，都桂卿，劉光遠，徐培，
申請(專利權)人：滁州惠科光電科技有限公司，
類型：發明
國別省市：
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