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    晶圓抓取裝置制造方法及圖紙

    技術編號:44301376 閱讀:5 留言:0更新日期:2025-02-18 20:19
    本申請公開一種晶圓抓取裝置,應用于晶圓清洗裝置,包括:基板;限位模塊,設置在基板的第一端,用于對晶圓進行限位;活動握柄,設置在基板的第二端,用于在外力作用下處于握緊狀態,限位模塊到活動握柄的距離大于晶圓清洗裝置的晶圓承載部到進出口的距離;活動板,通過復位裝置設置在基板上,活動板的第一端與夾緊輪連接,第二端與活動握柄活動連接;活動握柄處于握緊狀態時,活動握柄帶動活動板運動至第一位置,以帶動夾緊輪運動至夾緊位置夾緊晶圓;活動握柄處于非握緊狀態時,復位裝置帶動活動板運動至第二位置,以帶動夾緊輪運動至非夾緊位置。本申請能夠對多種尺寸的晶圓進行抓取,并且操作方便。

    【技術實現步驟摘要】

    本申請涉及半導體加工,尤其涉及一種晶圓抓取裝置


    技術介紹

    1、在集成電路/半導體(integrated?circuit,ic)的制造中,需要對晶圓進行取放,然而,通過手動方式進行取放晶圓的過程,但需要操作員將手伸入設備內部,極容易沾染化學藥液或被設備誤傷而發生危險。

    2、目前,主要通過自動方式,即通過使用機械手配合吸盤或手指取放晶圓。

    3、然而,對于絕大多數晶圓實驗測試和科研用設備,尤其是清洗領域,由于晶圓的取放頻次較低,操作即時較強和晶圓尺寸不確定性較高,使用機械手自動上料需要反復根據晶圓尺寸進行調試,造成操作不便。


    技術實現思路

    1、有鑒于此,本申請提供一種晶圓抓取裝置,以至少部分解決上述技術問題。

    2、本申請第一方面提供一種晶圓抓取裝置,應用于晶圓清洗裝置,包括:基板;限位模塊,設置在所述基板的第一端,用于對晶圓進行限位;活動握柄,設置在所述基板的第二端,用于在外力作用下處于握緊狀態,?所述限位模塊到所述活動握柄的距離大于所述晶圓清洗裝置的晶圓承載部到進出口的距離;活動板,通過復位裝置設置在所述基板上,所述活動板的第一端與所述夾緊輪連接,第二端與所述活動握柄活動連接;所述活動握柄處于握緊狀態時,所述活動握柄帶動所述活動板運動至第一位置,以帶動所述夾緊輪運動至夾緊位置夾緊晶圓;所述活動握柄處于非握緊狀態時,所述復位裝置帶動所述活動板運動至第二位置,以帶動所述夾緊輪運動至非夾緊位置。

    3、可選地,所述復位模塊包括調節塊和彈簧,所述彈簧的一端與所述調節塊連接,所述彈簧的另一端與所述活動板連接,所述調節塊與所述基板連接。

    4、可選地,所述彈簧的數量包括多個,多個彈簧并排設置在所述基板的長度方向上,且關于所述基板長度方向上的中心線對稱分布。

    5、可選地,所述裝置還包括:多組滑塊和導軌,所述導軌設置在所述基板上,所述滑塊與所述活動板連接,所述滑塊套設在所述導軌上,且多組滑塊和導軌在滑動方向上的中心線與所述基板長度方向上的中心線重疊。

    6、可選地,所述夾緊輪的數量為多個,多個所述夾緊輪在所述基板長度方向上的中心線與所述基板長度方向上的中心線重疊。

    7、可選地,所述活動握柄的第一端設置有關于基板長度方向上的中心線對稱分布的多個凸塊,所述活動板的第二端設置有關于基板長度方向上的中心線對稱分布的多個滑槽,所述凸塊設置在所述滑槽中。

    8、可選地,所述活動握柄還包括:抓取部,所述抓取部設置于所述活動握柄的外表面。

    9、可選地,所述限位模塊包括:多個限位塊,所述限位塊包括限位部和承載部,所述限位部沿垂直于所述基板的方向的高度高于所述承載部沿垂直于所述基板的方向的高度。

    10、可選地,所述限位模塊沿垂直于所述基板的方向的高度與該限位模塊對應的晶圓的尺寸正相關。

    11、可選地,限位模塊包括多個,分別為對應四寸晶圓的限位模塊、對應六寸晶圓的限位模塊和對應八寸晶圓的限位模塊。

    12、本申請中,操作人員通過晶圓抓取裝置對晶圓進行取放,能夠保證操作人員雙手一直保持在晶圓加工設備外部,從而避免了操作人員將手伸入設備內部,沾染化學藥液或被碰傷的風險。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種晶圓抓取裝置,應用于晶圓清洗裝置,其特征在于,包括:

    2.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述復位模塊包括調節塊和彈簧,所述彈簧的一端與所述調節塊連接,所述彈簧的另一端與所述活動板連接,所述調節塊與所述基板連接。

    3.根據權利要求2所述的裝置,其特征在于,所述彈簧的數量包括多個,多個彈簧并排設置在所述基板的長度方向上,且關于所述基板長度方向上的中心線對稱分布。

    4.根據權利要求3所述的裝置,其特征在于,所述裝置還包括:多組滑塊和導軌,所述導軌設置在所述基板上,所述滑塊與所述活動板連接,所述滑塊滑動設置在所述導軌上,且多組滑塊和導軌在滑動方向上的中心線與所述基板長度方向上的中心線重疊。

    5.根據權利要求4所述的裝置,其特征在于,所述夾緊輪的數量為多個,多個所述夾緊輪在所述基板長度方向上的中心線與所述基板長度方向上的中心線重疊。

    6.根據權利要求3所述的裝置,其特征在于,所述活動握柄的第一端設置有關于基板長度方向上的中心線對稱分布的多個凸塊,所述活動板的第二端設置有關于基板長度方向上的中心線對稱分布的多個滑槽,所述凸塊設置在所述滑槽中。

    7.根據權利要求1-6任一項所述的裝置,其特征在于,所述活動握柄還包括:抓取部,所述抓取部設置于所述活動握柄的外表面。

    8.根據權利要求1-6任一項所述的裝置,其特征在于,所述限位模塊包括:多個限位塊,所述限位塊包括限位部和承載部,所述限位部沿垂直于所述基板的方向的高度高于所述承載部沿垂直于所述基板的方向的高度。

    9.根據權利要求1-6任一項所述的裝置,其特征在于,所述限位模塊沿垂直于所述基板的方向的高度與該限位模塊對應的晶圓的尺寸正相關。

    10.根據權利要求1-6任一項所述的裝置,其特征在于,限位模塊包括多個,分別為對應四寸晶圓的限位模塊、對應六寸晶圓的限位模塊和對應八寸晶圓的限位模塊。

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    【技術特征摘要】

    1.一種晶圓抓取裝置,應用于晶圓清洗裝置,其特征在于,包括:

    2.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述復位模塊包括調節塊和彈簧,所述彈簧的一端與所述調節塊連接,所述彈簧的另一端與所述活動板連接,所述調節塊與所述基板連接。

    3.根據權利要求2所述的裝置,其特征在于,所述彈簧的數量包括多個,多個彈簧并排設置在所述基板的長度方向上,且關于所述基板長度方向上的中心線對稱分布。

    4.根據權利要求3所述的裝置,其特征在于,所述裝置還包括:多組滑塊和導軌,所述導軌設置在所述基板上,所述滑塊與所述活動板連接,所述滑塊滑動設置在所述導軌上,且多組滑塊和導軌在滑動方向上的中心線與所述基板長度方向上的中心線重疊。

    5.根據權利要求4所述的裝置,其特征在于,所述夾緊輪的數量為多個,多個所述夾緊輪在所述基板長度方向上的中心線與所述基板長度方向上的中心線重疊。

    6.根據權利要求3所述的...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:張國偉徐俊成張美美王鵬
    申請(專利權)人:華海清科北京科技有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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