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    基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法及裝置制造方法及圖紙

    技術(shù)編號:44302246 閱讀:3 留言:0更新日期:2025-02-18 20:19
    本發(fā)明專利技術(shù)公開一種基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法及裝置,其中,基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法通過光漂白效應(yīng)激發(fā)處理和相位調(diào)制分析,對手表等離子納米膜進(jìn)行雙偏振態(tài)光強(qiáng)數(shù)據(jù)采集,利用動態(tài)恢復(fù)特征和區(qū)域分割技術(shù),選取光漂白深度最大點(diǎn)作為參考基準(zhǔn)進(jìn)行差分處理,實現(xiàn)了幾何曲率效應(yīng)與材料效應(yīng)的精確解耦,從而準(zhǔn)確評估納米膜的本征性能。本發(fā)明專利技術(shù)技術(shù)方案能夠有效解決手表曲面導(dǎo)致的非線性干涉問題,提供可靠的納米膜質(zhì)量檢測結(jié)果。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及手表表面處理檢測,尤其涉及一種基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法及裝置


    技術(shù)介紹

    1、手表等離子納米膜是一種新型的功能性納米結(jié)構(gòu)涂層,其通常由貴金屬(如金、銀等)納米顆粒在特定工藝條件下沉積在手表表面形成。這種納米膜結(jié)構(gòu)不僅能賦予手表表面獨(dú)特的光學(xué)特性,還能提供優(yōu)異的防水、防劃傷等保護(hù)功能。在納米尺度下,等離子納米膜中的金屬顆粒會產(chǎn)生表面等離子體共振效應(yīng),這種效應(yīng)使得納米膜對入射光產(chǎn)生特殊的選擇性吸收和反射,從而形成獨(dú)特的光學(xué)響應(yīng)特性,這也是手表等離子納米膜在功能性和裝飾性方面的重要基礎(chǔ)。

    2、在手表生產(chǎn)過程中,等離子納米膜的質(zhì)量直接關(guān)系到產(chǎn)品的性能和外觀,因此需要對其進(jìn)行嚴(yán)格的質(zhì)量檢測。當(dāng)前的檢測設(shè)備通常包括光源系統(tǒng)、圖像采集裝置、樣品固定平臺和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng),檢測方法是通過固定光源照射手表表面,再由相機(jī)采集納米膜的反射圖像進(jìn)行分析。然而,這種傳統(tǒng)檢測方法在實際應(yīng)用中遇到了嚴(yán)重的技術(shù)瓶頸。具體表現(xiàn)為:當(dāng)光源照射到手表表面時,由于手表表面具有復(fù)雜的三維曲率(包括球面、柱面或者不規(guī)則曲面),入射光在不同區(qū)域會產(chǎn)生不同程度的反射和散射。同時,等離子納米膜的表面等離子體共振效應(yīng)會在曲面邊緣區(qū)域產(chǎn)生與觀察角度相關(guān)的非線性光干涉現(xiàn)象。這種干涉現(xiàn)象與普通金屬表面的簡單反射完全不同,它包含了復(fù)雜的光學(xué)響應(yīng)信息。例如,在觀察手表表圈與表鏡連接處的納米膜時,即使納米膜質(zhì)量完全一致,由于曲率變化導(dǎo)致的光學(xué)響應(yīng)差異也會使測量結(jié)果產(chǎn)生顯著偏差。傳統(tǒng)的圖像處理方法無法準(zhǔn)確區(qū)分這些差異究竟是由表面曲率導(dǎo)致的幾何畸變,還是由納米膜本身的性能差異引起,這嚴(yán)重影響了檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。


    技術(shù)實現(xiàn)思路

    1、本專利技術(shù)的主要目的在于解決現(xiàn)有手表等離子納米膜檢測技術(shù)中,無法準(zhǔn)確區(qū)分曲面導(dǎo)致的幾何畸變與納米膜本征性能差異的技術(shù)問題。

    2、本專利技術(shù)第一方面提供了一種基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法,所述基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法包括:

    3、在預(yù)設(shè)的入射角度范圍內(nèi)采集手表等離子納米膜光漂白前后的雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù),所述雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)包括光漂白前的s偏振和p偏振強(qiáng)度數(shù)據(jù)以及光漂白后的s偏振和p偏振強(qiáng)度數(shù)據(jù);

    4、對所述雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)進(jìn)行相位調(diào)制,在預(yù)設(shè)的相位范圍內(nèi)記錄相位-強(qiáng)度響應(yīng)曲線,經(jīng)傅里葉變換處理得到表征局部等離子體共振特性的振幅-相位特征數(shù)據(jù);

    5、基于所述雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)和所述振幅-相位特征數(shù)據(jù),提取光漂白區(qū)域的動態(tài)恢復(fù)特征,根據(jù)所述動態(tài)恢復(fù)特征的空間分布規(guī)律生成區(qū)域分割特征圖譜;

    6、根據(jù)所述區(qū)域分割特征圖譜,選取各區(qū)域內(nèi)的光漂白深度最大點(diǎn)作為參考基準(zhǔn),將區(qū)域內(nèi)其他點(diǎn)的光學(xué)響應(yīng)與所述參考基準(zhǔn)進(jìn)行差分處理,得到消除幾何曲率影響的純材料效應(yīng)分布數(shù)據(jù);

    7、對所述純材料效應(yīng)分布數(shù)據(jù)中的特征參數(shù)進(jìn)行降維處理,提取表征等離子體共振特性的主要特征分量,獲得性能評估數(shù)據(jù);

    8、根據(jù)所述性能評估數(shù)據(jù)建立區(qū)域性能參數(shù)的空間分布關(guān)系,生成表征納米膜本征性能的定量檢測結(jié)果。

    9、可選的,所述在預(yù)設(shè)的入射角度范圍內(nèi)采集手表等離子納米膜光漂白前后的雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù),包括:

    10、在樣品表面形成間距為預(yù)設(shè)值的光漂白區(qū)域陣列,所述光漂白區(qū)域陣列包括多個獨(dú)立的光漂白斑點(diǎn);

    11、對所述光漂白區(qū)域陣列進(jìn)行0-75度角度掃描,每隔5度采集一組偏振態(tài)光強(qiáng)數(shù)據(jù),獲得光漂白前的原始光強(qiáng)數(shù)據(jù);

    12、對所述光漂白區(qū)域陣列進(jìn)行光漂白激發(fā),按照與所述0-75度角度掃描相同的角度步進(jìn)方式進(jìn)行掃描,采集所述光漂白區(qū)域陣列的偏振態(tài)光強(qiáng)數(shù)據(jù),獲得光漂白后的激發(fā)態(tài)光強(qiáng)數(shù)據(jù);

    13、根據(jù)所述原始光強(qiáng)數(shù)據(jù)和所述激發(fā)態(tài)光強(qiáng)數(shù)據(jù)進(jìn)行偏振態(tài)分離,得到光漂白前的s偏振強(qiáng)度數(shù)據(jù)和p偏振強(qiáng)度數(shù)據(jù);

    14、根據(jù)所述激發(fā)態(tài)光強(qiáng)數(shù)據(jù)進(jìn)行偏振態(tài)分離,得到光漂白后的s偏振強(qiáng)度數(shù)據(jù)和p偏振強(qiáng)度數(shù)據(jù);

    15、將所述光漂白前的s偏振和p偏振強(qiáng)度數(shù)據(jù)以及光漂白后的s偏振和p偏振強(qiáng)度數(shù)據(jù)組合成雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)。

    16、可選的,所述對所述雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)進(jìn)行相位調(diào)制,在預(yù)設(shè)的相位范圍內(nèi)記錄相位-強(qiáng)度響應(yīng)曲線,經(jīng)傅里葉變換處理得到表征局部等離子體共振特性的振幅-相位特征數(shù)據(jù),包括:

    17、對所述雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)按照0.1π的步長在0-2π范圍內(nèi)進(jìn)行相位掃描,得到光漂白前后的相位掃描序列;

    18、根據(jù)所述相位掃描序列中每個相位點(diǎn)的s偏振和p偏振強(qiáng)度數(shù)據(jù),計算局部偏振態(tài)橢圓參數(shù),獲得相位-強(qiáng)度調(diào)制數(shù)據(jù);

    19、對所述相位-強(qiáng)度調(diào)制數(shù)據(jù)進(jìn)行離散傅里葉變換,提取一階和二階傅里葉分量,得到初始振幅-相位特征量;

    20、根據(jù)所述初始振幅-相位特征量計算局部等離子體共振強(qiáng)度系數(shù)和相位延遲系數(shù),獲得共振特性參數(shù);

    21、對所述共振特性參數(shù)進(jìn)行歸一化處理,生成標(biāo)準(zhǔn)化的振幅-相位特征數(shù)據(jù);

    22、將所述標(biāo)準(zhǔn)化的振幅-相位特征數(shù)據(jù)與對應(yīng)位置的相位-強(qiáng)度調(diào)制數(shù)據(jù)進(jìn)行關(guān)聯(lián)匹配,得到表征局部等離子體共振特性的振幅-相位特征數(shù)據(jù)。

    23、可選的,所述基于所述雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)和所述振幅-相位特征數(shù)據(jù),提取光漂白區(qū)域的動態(tài)恢復(fù)特征,根據(jù)所述動態(tài)恢復(fù)特征的空間分布規(guī)律生成區(qū)域分割特征圖譜,包括:

    24、對所述雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)按照預(yù)設(shè)時間間隔進(jìn)行連續(xù)采樣,獲得光漂白區(qū)域的時序強(qiáng)度變化數(shù)據(jù);

    25、根據(jù)所述時序強(qiáng)度變化數(shù)據(jù)提取每個采樣點(diǎn)的恢復(fù)時間常數(shù)和恢復(fù)幅度參數(shù),得到初始動態(tài)特征數(shù)據(jù);

    26、根據(jù)所述振幅-相位特征數(shù)據(jù)與所述初始動態(tài)特征數(shù)據(jù)進(jìn)行互相關(guān)分析,獲得表征材料響應(yīng)特性的綜合動態(tài)參數(shù);

    27、對所述綜合動態(tài)參數(shù)進(jìn)行空間梯度分析,得到局部區(qū)域的動態(tài)特征差異分布圖;

    28、根據(jù)所述動態(tài)特征差異分布圖的空間連續(xù)性,對相鄰區(qū)域進(jìn)行動態(tài)聚類,得到區(qū)域邊界特征點(diǎn)集;

    29、將所述區(qū)域邊界特征點(diǎn)集進(jìn)行閉合曲線擬合,生成區(qū)域分割特征圖譜。

    30、可選的,所述根據(jù)所述區(qū)域分割特征圖譜,選取各區(qū)域內(nèi)的光漂白深度最大點(diǎn)作為參考基準(zhǔn),將區(qū)域內(nèi)其他點(diǎn)的光學(xué)響應(yīng)與所述參考基準(zhǔn)進(jìn)行差分處理,得到消除幾何曲率影響的純材料效應(yīng)分布數(shù)據(jù),包括:

    31、對所述區(qū)域分割特征圖譜中的每個區(qū)域進(jìn)行光強(qiáng)梯度計算,獲得區(qū)域內(nèi)的光漂白深度分布數(shù)據(jù);

    32、根據(jù)所述光漂白深度分布數(shù)據(jù)對每個區(qū)域進(jìn)行極值點(diǎn)檢測,篩選光漂白深度最大的候選點(diǎn)集;

    33、對所述候選點(diǎn)集中的每個點(diǎn)進(jìn)行局部曲率計算,得到候選點(diǎn)的曲率特征數(shù)據(jù);

    34、根據(jù)所述曲率特征數(shù)據(jù)對所述候選點(diǎn)集進(jìn)行優(yōu)選,確定各區(qū)域內(nèi)的最終參考基準(zhǔn)點(diǎn);

    35、將所述區(qū)域內(nèi)其他點(diǎn)的光強(qiáng)數(shù)據(jù)與所述參考基準(zhǔn)點(diǎn)的光強(qiáng)數(shù)據(jù)進(jìn)行比值運(yùn)算,得到歸一化光強(qiáng)分布數(shù)據(jù);

    36、對所述歸一化光強(qiáng)分布數(shù)本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    1.一種基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法,其特征在于,包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法,其特征在于,所述在預(yù)設(shè)的入射角度范圍內(nèi)采集手表等離子納米膜光漂白前后的雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù),包括:

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法,其特征在于,所述對所述雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)進(jìn)行相位調(diào)制,在預(yù)設(shè)的相位范圍內(nèi)記錄相位-強(qiáng)度響應(yīng)曲線,經(jīng)傅里葉變換處理得到表征局部等離子體共振特性的振幅-相位特征數(shù)據(jù),包括:

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法,其特征在于,所述基于所述雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)和所述振幅-相位特征數(shù)據(jù),提取光漂白區(qū)域的動態(tài)恢復(fù)特征,根據(jù)所述動態(tài)恢復(fù)特征的空間分布規(guī)律生成區(qū)域分割特征圖譜,包括:

    5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法,其特征在于,所述根據(jù)所述區(qū)域分割特征圖譜,選取各區(qū)域內(nèi)的光漂白深度最大點(diǎn)作為參考基準(zhǔn),將區(qū)域內(nèi)其他點(diǎn)的光學(xué)響應(yīng)與所述參考基準(zhǔn)進(jìn)行差分處理,得到消除幾何曲率影響的純材料效應(yīng)分布數(shù)據(jù),包括:

    6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法,其特征在于,所述對所述純材料效應(yīng)分布數(shù)據(jù)中的特征參數(shù)進(jìn)行降維處理,提取表征等離子體共振特性的主要特征分量,獲得性能評估數(shù)據(jù),包括:

    7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法,其特征在于,所述對所述正交特征向量組的每個分量進(jìn)行奇異值分解,得到特征權(quán)重分布數(shù)據(jù),包括:

    8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法,其特征在于,所述根據(jù)所述性能評估數(shù)據(jù)建立區(qū)域性能參數(shù)的空間分布關(guān)系,生成表征納米膜本征性能的定量檢測結(jié)果,包括:

    9.一種基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測裝置,其特征在于,所述基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測裝置運(yùn)用于如權(quán)利要求1至8任一項所述的基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法,所述基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測裝置包括:

    ...

    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法,其特征在于,包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法,其特征在于,所述在預(yù)設(shè)的入射角度范圍內(nèi)采集手表等離子納米膜光漂白前后的雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù),包括:

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法,其特征在于,所述對所述雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)進(jìn)行相位調(diào)制,在預(yù)設(shè)的相位范圍內(nèi)記錄相位-強(qiáng)度響應(yīng)曲線,經(jīng)傅里葉變換處理得到表征局部等離子體共振特性的振幅-相位特征數(shù)據(jù),包括:

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法,其特征在于,所述基于所述雙偏振態(tài)光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)和所述振幅-相位特征數(shù)據(jù),提取光漂白區(qū)域的動態(tài)恢復(fù)特征,根據(jù)所述動態(tài)恢復(fù)特征的空間分布規(guī)律生成區(qū)域分割特征圖譜,包括:

    5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于圖像處理的手表等離子納米膜的檢測方法,其特征在于,所述根據(jù)所述區(qū)域分割特征圖譜,選取各區(qū)域內(nèi)的光漂白深度最大點(diǎn)作為參考基準(zhǔn),將區(qū)域內(nèi)...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:李永忠
    申請(專利權(quán))人:深圳西普尼精密科技股份有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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