【技術實現步驟摘要】
本技術涉及多晶硅片清洗，尤其涉及一種多晶硅片清洗設備。
技術介紹
1、多晶硅片清洗設備的
技術介紹
涵蓋了多種工藝，包括化學清洗、物理清洗和超純水沖洗等。這些技術旨在去除硅片表面的雜質、油脂和其他污染物，以確保硅片在后續工藝中具有良好的電氣特性和機械性能。清洗設備通常包括多段處理工序，如預清洗、主清洗、漂洗和干燥，以確保清洗效果達到要求，并符合半導體制造的嚴格標準；
2、多晶硅片清洗設備通常由預清洗、主清洗、漂洗和干燥等多個部分組成。預清洗階段用于去除大部分表面污染物，主清洗階段采用化學清洗和物理清洗相結合的方法，徹底去除殘留的有機和無機污染物，漂洗階段用純水進行中和和沖洗，最后通過干燥系統完成清洗過程；
3、多晶硅片清洗設備在清洗過程中，設備需要大量使用純水，導致水資源浪費且成本增加；其次，清洗過程中未能有效收集清洗掉的硅粉，無法實現再利用，造成資源浪費和環境壓力，為此提出一種多晶硅片清洗設備來解決上述問題。
技術實現思路
1、為了彌補以上不足，本技術提供了一種多晶硅片清洗設備，旨在改善了現有技術中多晶硅片清洗設備存在著水資源浪費和硅粉未能有效再利用的問題。
2、為了實現上述目的，本技術采用了如下技術方案：一種多晶硅片清洗設備，包括箱體，所述箱體的左右部中側固定連接有固定板，所述箱體的上部右側等距設置有四個風干機構，所述箱體的內部兩側等距轉動連接有轉軸，所述轉軸之間設置有傳送帶，所述傳送帶的上側部均等距開設有若干個漏水孔，左側所述轉軸的后端固定連接
3、作為上述技術方案的進一步描述：所述過濾機構包括框架，所述箱體的內部前后側開設有滑槽且滑槽內滑動連接有框架，所述框架的內部等距固定連接有固定塊，所述固定塊的上部分別設置有細過濾網、中等過濾網、粗過濾網，所述框架的右部固定連接有密封塊，所述密封塊的右部中側固定連接有第二把手；
4、作為上述技術方案的進一步描述：所述風干機構包括外殼，所述箱體的上部右側等距固定連接有四個外殼，所述外殼的內部中側均固定連接有安裝板，所述安裝板的下部中側均固定連接有第二電機，所述第二電機的輸出端均固定連接有扇葉；
5、作為上述技術方案的進一步描述：所述箱體的前部一側固定連接有控制面板，所述控制面板分別與水泵、第一電機、增壓泵與第二電機電性連接；
6、作為上述技術方案的進一步描述：所述箱體左右部上側與前部上側分別固定連接有第二玻璃窗、第一玻璃窗；
7、作為上述技術方案的進一步描述：所述箱門相遠離一側均固定連接有第一把手，所述箱門的下部前后側與箱體的內部前后側均通過支撐桿相連；
8、作為上述技術方案的進一步描述：所述箱體的底部四角等距固定連接有底座；
9、作為上述技術方案的進一步描述：所述傳送帶的上部等距設置有若干個放置箱，所述放置箱的上部均等距放置有若干個多晶硅片。
10、本技術具有如下有益效果：
11、1、本技術中，通過水泵等結構協同作用，首先利用水泵抽取第一過濾箱中的純水，通過噴頭對多晶硅片進行清洗；清洗后的純水流動到第二過濾箱，經過過濾后再次流回第一過濾箱，形成水循環系統，實現水資源的循環利用；清洗完成后，多晶硅片通過風干機構進行風干處理，確保表面干燥，從而提高清洗效果。
12、2、本技術中，通過過濾機構等關鍵部件的協同作用，清洗后的純水通過粗過濾網、中等過濾網、細過濾網依次過濾，有效去除其中的硅粉，并將其成功收集起來，實現了硅粉的有效再利用，減少了資源浪費，提高了清洗效率和環境友好性。
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1.一種多晶硅片清洗設備，包括箱體(1)，其特征在于：所述箱體(1)的左右部中側固定連接有固定板(9)，所述箱體(1)的上部右側等距設置有四個風干機構(5)，所述箱體(1)的內部兩側等距轉動連接有轉軸(23)，所述轉軸(23)之間設置有傳送帶(21)，所述傳送帶(21)的上側部均等距開設有若干個漏水孔(22)，左側所述轉軸(23)的后端固定連接在第一電機(14)的輸出端，所述箱體(1)的內部下側固定連接有第二過濾箱(26)，所述箱體(1)的內部前后側開設有滑槽且滑槽內設置有過濾機構(12)，所述箱體(1)的內部底側固定連接有第一過濾箱(11)，所述箱體(1)的內部右側等距固定連接有若干個噴管(19)，所述噴管(19)的下部均等距固定連接有若干個噴頭(20)，所述噴管(19)的后端均固定連接有噴水管(16)，所述箱體(1)的后部下側固定連接有水泵(13)，所述水泵(13)的輸出端固定連接有噴水管(16)，所述水泵(13)的輸入端與第一過濾箱(11)的后部一側通過抽水管(15)固定連接，所述箱體(1)的后部下側固定連接有增壓泵(17)，所述增壓泵(17)的輸出端與第二過濾箱(26)的
2.根據權利要求1所述的一種多晶硅片清洗設備，其特征在于：所述過濾機構(12)包括框架(30)，所述箱體(1)的內部前后側開設有滑槽且滑槽內滑動連接有框架(30)，所述框架(30)的內部等距固定連接有固定塊(36)，所述固定塊(36)的上部分別設置有細過濾網(35)、中等過濾網(34)、粗過濾網(33)，所述框架(30)的右部固定連接有密封塊(32)，所述密封塊(32)的右部中側固定連接有第二把手(31)。
3.根據權利要求1所述的一種多晶硅片清洗設備，其特征在于：所述風干機構(5)包括外殼(37)，所述箱體(1)的上部右側等距固定連接有四個外殼(37)，所述外殼(37)的內部中側均固定連接有安裝板(27)，所述安裝板(27)的下部中側均固定連接有第二電機(28)，所述第二電機(28)的輸出端均固定連接有扇葉(29)。
4.根據權利要求1所述的一種多晶硅片清洗設備，其特征在于：所述箱體(1)的前部一側固定連接有控制面板(3)，所述控制面板(3)分別與水泵(13)、第一電機(14)、增壓泵(17)與第二電機(28)電性連接。
5.根據權利要求1所述的一種多晶硅片清洗設備，其特征在于：所述箱體(1)左右部上側與前部上側分別固定連接有第二玻璃窗(6)、第一玻璃窗(4)。
6.根據權利要求1所述的一種多晶硅片清洗設備，其特征在于：所述箱門(7)相遠離一側均固定連接有第一把手(8)，所述箱門(7)的下部前后側與箱體(1)的內部前后側均通過支撐桿(10)相連。
7.根據權利要求1所述的一種多晶硅片清洗設備，其特征在于：所述箱體(1)的底部四角等距固定連接有底座(2)。
8.根據權利要求1所述的一種多晶硅片清洗設備，其特征在于：所述傳送帶(21)的上部等距設置有若干個放置箱(25)，所述放置箱(25)的上部均等距放置有若干個多晶硅片(24)。
...【技術特征摘要】
1.一種多晶硅片清洗設備，包括箱體(1)，其特征在于：所述箱體(1)的左右部中側固定連接有固定板(9)，所述箱體(1)的上部右側等距設置有四個風干機構(5)，所述箱體(1)的內部兩側等距轉動連接有轉軸(23)，所述轉軸(23)之間設置有傳送帶(21)，所述傳送帶(21)的上側部均等距開設有若干個漏水孔(22)，左側所述轉軸(23)的后端固定連接在第一電機(14)的輸出端，所述箱體(1)的內部下側固定連接有第二過濾箱(26)，所述箱體(1)的內部前后側開設有滑槽且滑槽內設置有過濾機構(12)，所述箱體(1)的內部底側固定連接有第一過濾箱(11)，所述箱體(1)的內部右側等距固定連接有若干個噴管(19)，所述噴管(19)的下部均等距固定連接有若干個噴頭(20)，所述噴管(19)的后端均固定連接有噴水管(16)，所述箱體(1)的后部下側固定連接有水泵(13)，所述水泵(13)的輸出端固定連接有噴水管(16)，所述水泵(13)的輸入端與第一過濾箱(11)的后部一側通過抽水管(15)固定連接，所述箱體(1)的后部下側固定連接有增壓泵(17)，所述增壓泵(17)的輸出端與第二過濾箱(26)的后部一側通過增壓管(18)固定連接，所述箱體(1)的左右部上側與箱門(7)相接近一側通過合頁轉動連接。
2.根據權利要求1所述的一種多晶硅片清洗設備，其特征在于：所述過濾機構(12)包括框架(30)，所述箱體(1)的內部前后側開設有滑槽且滑槽內滑動連接有框架(30)，所述框架(30)的內部等距固定連接有固定塊(36)，所述固定塊(36)的上部分別設置有細過濾網...
【專利技術屬性】
技術研發人員：袁國清，孫文珠，李昊，周娜娜，
申請(專利權)人：山東九頂山光電科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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