【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于單晶硅生產制造，涉及單晶爐真空管道內壁清理裝置及使用方法。
技術介紹
1、單晶爐是一種在惰性氣體環境中，使用加熱器和多熱場部件配合將硅料熔成高溫液態，通過用直拉法生長無錯位單晶的設備。現有的單晶爐結構包括主爐室、副室、提升機構、抽真空裝置、氣體管路裝置等，抽真空裝置主要包括真空管道和真空泵，真空管道連接真空泵和單晶爐。在單晶生長過程中，產生的氣體會吸附在真空管道內壁上，尤其是真空管道拐角處更容易堆積附著物，如果不能及時清理將會堵塞真空管道，影響單晶生長。因此，需要一種單晶爐真空管道內壁清理裝置及使用方法來解決上述技術問題。
技術實現思路
1、為解決上述存在的技術問題，本專利技術提供了一種單晶爐真空管道內壁清理裝置及使用方法，能夠快速清理真空管道內壁的附著物，降低因真空管道堵塞、不通暢引起的單晶生長異常。
2、本專利技術采用的技術方案是：一種單晶爐真空管道內壁清理裝置及使用方法，其特征在于：包括調節桿以及多組與所述調節桿連接的清理組件，且所述清理組件的外圍與真空管道內壁接觸，驅動所述調節桿可帶動所述清理組件轉動，以清理所述真空管道內壁。
3、進一步的，所述清理組件包括連接桿、清理刷、導流板和固定板，所述連接桿兩端分別連接所述調節桿和所述固定板，所述清理刷與所述真空管道內壁接觸，所述導流板和所述清理刷沿氣流方向布設在所述固定板的同側，以使所述氣流從所述導流板經過而不會直接作用在所述清理刷上。
4、進一步的，所述導流板為弧形板，其與所述清
5、進一步的，所述調節桿外側包裹有導向件，其通過所述導向件與所述連接桿連接，驅動所述導向件可帶動所述清理組件沿所述調節桿的長度方向位移。
6、進一步的，所述調節桿上設有向內凹陷的滑槽，所述導向件的內側設有與所述滑槽相匹配的凸起部，所述凸起部可沿所述滑槽位移，進而帶動所述清理組件位移。
7、進一步的，所述導向件與所述調節桿之間設有限位件，以限制兩者相對位移。
8、進一步的，所述導向件與所述連接桿轉動連接。
9、進一步的，所述連接桿遠離所述固定板的端部設有支撐部，其抵持在所述調節桿外壁。
10、進一步的，所述調節桿遠離所述導向件的端部與電機的輸出端連接。
11、使用如上所述的單晶爐真空管道內壁清理裝置的方法，其特征在于：包括如下步驟，
12、調節所述調節桿與所述導向件之間的相對位置、以及所述連接桿的長度，以使所述清理刷與所述真空管道內壁接觸；
13、根據爐臺節流閥的開度，選擇相匹配的所述調節桿轉速，以帶動所述清理刷對所述真空管道內壁進行清理，并將信息及時反饋給爐臺。
14、本專利技術設計的一種單晶爐真空管道內壁清理裝置及使用方法，設置與真空管道內壁接觸的清理刷，通過清理刷的轉動以快速進行清理；沿氣流方向依次設置導流板和清理刷，使得清理刷在清理附著物的同時氣流不會直接作用在清理刷上，不會對氣流的流速造成影響，也不會對單晶生長過程中節流閥的開度造成影響，進而提升影響成晶、品質問題；設置導向件和可調節的連接桿，兩者相互配合，使得清理刷與內壁的接觸力度和接觸位置可靈活調節，適用性更強；固定板與連接桿轉動連接，可根據管道類型和尺寸進行調節，以使清理刷始終與管道內壁接觸，能夠清理多種管道結構；連接桿通過支撐部抵接在調節桿外壁，使得清理組件與調節桿之間的連接更加穩定牢固，增加了使用過程中的穩定性和安全性。
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1.一種單晶爐真空管道內壁清理裝置，其特征在于：包括調節桿以及多組與所述調節桿連接的清理組件，且所述清理組件的外圍與真空管道內壁接觸，驅動所述調節桿可帶動所述清理組件轉動，以清理所述真空管道內壁。
2.根據權利要求1所述的單晶爐真空管道內壁清理裝置，其特征在于：所述清理組件包括連接桿、清理刷、導流板和固定板，所述連接桿兩端分別連接所述調節桿和所述固定板，所述清理刷與所述真空管道內壁接觸，所述導流板和所述清理刷沿氣流方向布設在所述固定板的同側，以使所述氣流從所述導流板經過而不會直接作用在所述清理刷上。
3.根據權利要求2所述的單晶爐真空管道內壁清理裝置，其特征在于：所述導流板為弧形板，其與所述清理刷呈一定夾角，所述連接桿的長度可調節，以使所述清理刷與所述調節桿之間的距離可調節。
4.根據權利要求2或3所述的單晶爐真空管道內壁清理裝置，其特征在于：所述調節桿外側包裹有導向件，其通過所述導向件與所述連接桿連接，驅動所述導向件可帶動所述清理組件沿所述調節桿的長度方向位移。
5.根據權利要求4所述的單晶爐真空管道內壁清理裝置，其特征在于：所述
6.根據權利要求5所述的單晶爐真空管道內壁清理裝置，其特征在于：所述導向件與所述調節桿之間設有限位件，以限制兩者相對位移。
7.根據權利要求5所述的單晶爐真空管道內壁清理裝置，其特征在于：所述導向件與所述連接桿轉動連接。
8.根據權利要求7所述的單晶爐真空管道內壁清理裝置，其特征在于：所述連接桿遠離所述固定板的端部設有支撐部，其抵持在所述調節桿外壁。
9.根據權利要求8所述的單晶爐真空管道內壁清理裝置，其特征在于：所述調節桿遠離所述導向件的端部與電機的輸出端連接。
10.使用如權利要求5至9任一項所述的單晶爐真空管道內壁清理裝置的方法，其特征在于：包括如下步驟，
...【技術特征摘要】
1.一種單晶爐真空管道內壁清理裝置，其特征在于：包括調節桿以及多組與所述調節桿連接的清理組件，且所述清理組件的外圍與真空管道內壁接觸，驅動所述調節桿可帶動所述清理組件轉動，以清理所述真空管道內壁。
2.根據權利要求1所述的單晶爐真空管道內壁清理裝置，其特征在于：所述清理組件包括連接桿、清理刷、導流板和固定板，所述連接桿兩端分別連接所述調節桿和所述固定板，所述清理刷與所述真空管道內壁接觸，所述導流板和所述清理刷沿氣流方向布設在所述固定板的同側，以使所述氣流從所述導流板經過而不會直接作用在所述清理刷上。
3.根據權利要求2所述的單晶爐真空管道內壁清理裝置，其特征在于：所述導流板為弧形板，其與所述清理刷呈一定夾角，所述連接桿的長度可調節，以使所述清理刷與所述調節桿之間的距離可調節。
4.根據權利要求2或3所述的單晶爐真空管道內壁清理裝置，其特征在于：所述調節桿外側包裹有導向件，其通過所述導向件與所述連接桿連接，驅動所述導向件可帶動所述...
【專利技術屬性】
技術研發人員：鐘旭，葉云猛，蘇智峰，池通河，劉燕軍，張鴻飛，高瑞鴻，李志偉，郝勇，
申請(專利權)人：內蒙古中環晶體材料有限公司，
類型：發明
國別省市：
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