【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及一種用于液體處理基板的裝置和方法，并且更具體地，涉及一種通過使用臭氧水來處理基板的裝置，以及一種用于供應在其中使用的臭氧水的臭氧水供應單元。
技術介紹
1、為了制造半導體設備或液晶顯示器，在基板上執行諸如光刻、灰化、離子注入、薄膜沉積和清潔的各種工藝。清潔工藝由依次執行的化學品處理操作、沖洗操作和干燥操作構成。在化學品處理操作中，將化學品供應到基板以蝕刻形成在基板上的薄膜或者去除基板上的異物，并且在沖洗處理操作中，將諸如純水的沖洗液供應至基板。
2、另一方面，包含臭氧水的處理溶液用作在該工藝期間使用的處理溶液，以清潔有機物。臭氧水與純水或氟化氫混合，由過濾器過濾，然后使用。臭氧水是高活性且不穩定的，所以難以在使臭氧水的濃度維持在設定濃度的情況下將臭氧水供應到基板。此外，當臭氧水穿過過濾器時，由于壓力變化容易產生氣泡，并且臭氧水中的臭氧容易分解。
技術實現思路
1、本專利技術致力于提供用于有效處理基板的臭氧水供應單元，以及包括該臭氧水供應單元的基板處理裝置。
2、本專利技術還致力于提供一種能夠通過臭氧水來改善清潔基板的能力的臭氧水供應單元，以及包括該臭氧水供應單元的基板處理裝置。
3、本專利技術還致力于提供一種能夠維持供應到基板的臭氧水的穩定臭氧濃度的臭氧水供應單元，以及包括該臭氧水供應單元的基板處理裝置。
4、本專利技術還致力于提供能夠在臭氧水穿過過濾器時防止臭氧水中的臭氧濃度降低的臭氧水供應單元，以及包括該臭氧水供應單
5、本專利技術并不限制于此，本領域的普通技術人員將從以下描述中將清晰地理解其他未提及的目的。
6、本專利技術的示例性實施方案提供了基板處理裝置，該基板處理裝置包括：腔室，該腔室用于使用包含臭氧水的液體對裝載到處理空間中的基板進行液體處理；以及臭氧水供應單元，該臭氧水供應單元用于將臭氧水供應到處理空間，其中，臭氧水供應單元包括：臭氧水生成器，該臭氧水生成器用于生成臭氧水；臭氧水供應管線，該臭氧水供應管線用于將由臭氧水生成器生成的臭氧水供應到處理空間；以及冷卻器，該冷卻器設置在臭氧水供應管線中，以將流動通過臭氧水供應管線的臭氧水進行冷卻。
7、根據示例性實施方案，冷卻器可以將臭氧水的溫度調節到低于室溫的溫度。
8、根據示例性實施方案，臭氧水供應單元可以進一步包括過濾器，該過濾器安裝在臭氧水供應管線中，并且該過濾器可以安裝在冷卻器的下游。
9、根據示例性實施方案，過濾器可以位于冷卻器附近。
10、根據示例性實施方案，臭氧水供應單元可以進一步包括保溫構件(heatreserving?member)，該保溫構件用于使臭氧水供應管線的溫度維持恒定，并且該保溫構件可以設置為圍繞冷卻器下游的臭氧水供應管線纏繞(wrapped)。
11、根據示例性實施方案，基板處理裝置可以進一步包括：處理溶液供應源，該處理溶液供應源用于儲存處理溶液；處理溶液供應管線，該處理溶液供應管線用于將處理溶液從處理溶液供應源供應到臭氧水供應管線；以及混合器，該混合器安裝在臭氧水供應管線中、以將臭氧水與處理溶液混合。
12、根據示例性實施方案，混合器可以設置在冷卻器的上游。
13、根據示例性實施方案，混合器可以包括直列式混合器(管道中混合器，inlinemixer)。
14、根據示例性實施方案，處理溶液可以為去離子水。
15、根據示例性實施方案，處理溶液可以為化學溶液。
16、根據示例性實施方案，化學溶液可以為氟化氫。
17、根據示例性實施方案，腔室可以包括：殼體，該殼體設置有內部空間；杯狀件，該杯狀件用于提供處理空間；支承單元，該支承單元用于支承基板；噴嘴，該噴嘴用于將臭氧水供應到基板；并且臭氧水供應管線可以連接到噴嘴。
18、本專利技術的另一示例性實施方案提供了用于供應處理溶液的單元，該單元包括：處理溶液供應源，該處理溶液供應源用于提供處理溶液；處理溶液供應管線，該處理溶液供應管線用于從所述處理溶液供應源供應處理溶液；冷卻器，該冷卻器用于冷卻所述處理溶液；以及過濾器，其中，該冷卻器和該過濾器可以設置在所述處理溶液供應管線中。
19、根據示例性實施方案，過濾器可以位于冷卻器附近，但是可以位于冷卻器的下游。
20、根據示例性實施方案，冷卻器可以將臭氧水冷卻到低于室溫的溫度。
21、根據示例性實施方案，臭氧水供應單元可以進一步包括保溫構件，并且該保溫構件可以設置為圍繞冷卻器下游的臭氧水供應管線纏繞。
22、根據示例性實施方案，處理溶液可以包括臭氧水。
23、本專利技術的又一示例性實施方案提供了一種用于處理基板的裝置，該裝置包括：腔室，該腔室用于使用處理溶液對裝載到處理空間中的基板進行液體處理；以及臭氧水供應單元，該臭氧水供應單元用于將包含臭氧水的液體供應到處理空間，其中，該臭氧水供應單元可以包括：臭氧水生成器，該臭氧水生成器用于生成臭氧水；第一臭氧水供應管線，該第一臭氧水供應管線用于使臭氧水生成器與將臭氧水供應到處理空間的第一噴嘴連接；第一冷卻器，該第一冷卻器設置在第一臭氧水供應管線中、以將流動通過第一臭氧水供應管線的臭氧水進行冷卻；第一保溫構件，該第一保溫構件設置為圍繞第一冷卻器下游的第一臭氧水供應管線纏繞、以維持第一臭氧水供應管線的溫度；純水供應管線，該純水供應管線用于將純水供應到第一臭氧水供應管線；純水供應源，該純水供應源用于將純水供應到純水供應管線；第一混合器，該第一混合器設置在第一臭氧水供應管線中，并且位于第一冷卻器的上游，并且使純水與臭氧水混合；第二臭氧水供應管線，該第二臭氧水供應管線使臭氧水生成器與將臭氧水供應到處理空間的第二噴嘴連接；第二冷卻器，該第二冷卻器設置在第二臭氧水供應管線中、以將流動通過第二臭氧水供應管線的臭氧水進行冷卻；第二保溫構件，該第二保溫構件設置為圍繞第二冷卻器下游的第二臭氧水供應管線纏繞，以維持第二臭氧水供應管線的溫度；化學溶液供應管線，該化學溶液供應管線用于將化學溶液提供到第二臭氧水供應管線；化學溶液供應源，該化學溶液供應源用于將化學溶液提供到化學溶液供應管線；以及第二混合器，該第二混合器設置在第二臭氧水供應管線中，并且位于第二冷卻器的上游，并且使化學溶液與臭氧水混合。
24、根據示例性實施方案，基板處理裝置可以進一步包括：第一過濾器，該第一過濾器設置在第一冷卻器下游、第一冷卻器附近；以及第二過濾器，該第二過濾器設置在第一冷卻器下游的第二冷卻器附近。
25、根據示例性實施方案，第一處理溶液可以是包含臭氧水的化學溶液，并且第二處理溶液可以是包含氟化氫的化學溶液。
26、根據本專利技術的示例性實施方案，能夠有效地處理基板。
27、進一步地，根據本專利技術的示例性實施方案，能夠改善處理溶液的能力以清潔基板。
28、進一步地，根據本專利技術的示例性實施方案，能夠通過臭氧水來改善基板清潔性能。...
【技術保護點】
1.一種基板處理裝置，所述基板處理裝置包括：
2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其中，所述冷卻器將所述臭氧水的溫度調節到低于室溫的溫度。
3.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其中，所述臭氧水供應單元還包括過濾器，所述過濾器安裝在所述臭氧水供應管線中，并且
4.根據權利要求3所述的基板處理裝置，其中，所述過濾器位于所述冷卻器附近。
5.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其中，所述臭氧水供應單元還包括保溫構件，所述保溫構件用于使所述臭氧水供應管線的溫度維持恒定，并且
6.根據權利要求4所述的基板處理裝置，其中，所述基板處理裝置還包括：
7.根據權利要求6所述的基板處理裝置，其中，所述混合器設置在所述冷卻器的上游。
8.根據權利要求7所述的基板處理裝置，其中，所述混合器包括直列式混合器。
9.根據權利要求6所述的基板處理裝置，其中，所述處理溶液為去離子水。
10.根據權利要求6所述的基板處理裝置，其中，所述處理溶液為化學溶液。
11.根據權利要求10所述的基板處
12.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其中，所述腔室包括：
13.一種臭氧水供應單元，所述臭氧水供應單元包括：
14.根據權利要求13所述的臭氧水供應單元，其中，所述過濾器位于所述冷卻器附近，但位于所述冷卻器的下游。
15.根據權利要求14所述的臭氧水供應單元，其中，所述冷卻器將所述臭氧層水冷卻到低于室溫的溫度。
16.根據權利要求15所述的臭氧水供應單元，其中，所述臭氧水供應單元還包括保溫構件，并且
17.根據權利要求15所述的臭氧水供應單元，所述臭氧水供應單元還包括：
18.一種基板處理裝置，所述基板處理裝置包括：
19.根據權利要求18所述的基板處理裝置，其中，所述基板處理裝置還包括：
20.根據權利要求19所述的基板處理裝置，其中，所述化學溶液是包含氟化氫的化學溶液。
...【技術特征摘要】
1.一種基板處理裝置，所述基板處理裝置包括：
2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其中，所述冷卻器將所述臭氧水的溫度調節到低于室溫的溫度。
3.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其中，所述臭氧水供應單元還包括過濾器，所述過濾器安裝在所述臭氧水供應管線中，并且
4.根據權利要求3所述的基板處理裝置，其中，所述過濾器位于所述冷卻器附近。
5.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其中，所述臭氧水供應單元還包括保溫構件，所述保溫構件用于使所述臭氧水供應管線的溫度維持恒定，并且
6.根據權利要求4所述的基板處理裝置，其中，所述基板處理裝置還包括：
7.根據權利要求6所述的基板處理裝置，其中，所述混合器設置在所述冷卻器的上游。
8.根據權利要求7所述的基板處理裝置，其中，所述混合器包括直列式混合器。
9.根據權利要求6所述的基板處理裝置，其中，所述處理溶液為去離子水。
10.根據權利要求6所述的基板處理裝置...
【專利技術屬性】
技術研發人員：田明娥，洪榕焄，洪志守，李福圭，崔永燮，
申請(專利權)人：細美事有限公司，
類型：發明
國別省市：
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