【技術實現步驟摘要】
本申請屬于圖形處理，尤其涉及一種掩模版的設計圖形的生成方法、裝置、設備、介質及產品。
技術介紹
1、光學的掩模版為在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構，因此掩膜版應用十分廣泛，尤其涉及光刻工藝的領域。因此，掩模版的設計圖形尤為重要，目前在生成掩模版的設計圖形時，常常需要對待優化版圖進行圖形處理，但是現有技術中依靠人工進行圖形處理，使得處理效率低，且現有技術中的圖形處理存在處理過程簡單的問題。
技術實現思路
1、本申請實施例提供一種掩模版的設計圖形的生成方法、裝置、設備、介質及產品，能夠提升在處理掩模版的圖形時的效率。
2、第一方面，本申請實施例提供一種掩模版的設計圖形的生成方法，包括：
3、獲取掩模版的待優化版圖，待優化版圖包括第一圖形和第二圖形，第一圖形為待優化版圖中的主設計圖形，第二圖形為基于主設計圖形生成的多個亞分辨率輔助圖形；
4、將第一圖形和第二圖形輸入預設的圖形處理模型，基于圖形處理模型對第一圖形和第二圖形進行圖形處理，得到掩模版的設計圖形，其中，圖形處理包括以下至少一項：圖形移動、圖形縮小、圖形放大、圖形旋轉、圖形結合、圖形刪除、圖形邊處理、圖形變形。
5、第二方面，本申請實施例提供一種掩模版的設計圖形的生成裝置，包括：
6、獲取模塊，用于獲取掩模版的待優化版圖，待優化版圖包括第一圖形和第二圖形，第一圖形為待優化版圖中的主設計圖形，第二圖形為基于主
7、處理模塊，用于將第一圖形和第二圖形輸入預設的圖形處理模型，基于圖形處理模型對第一圖形和第二圖形進行圖形處理，得到掩模版的設計圖形，其中，圖形處理包括以下至少一項：圖形移動、圖形縮小、圖形放大、圖形旋轉、圖形結合、圖形刪除、圖形邊處理、圖形變形。
8、第三方面，本申請實施例提供了一種電子設備，設備包括：
9、處理器以及存儲有計算機程序指令的存儲器；
10、處理器執行計算機程序指令時用于執行上述第一方面的掩模版的設計圖形的生成方法。
11、第四方面，本申請實施例提供了一種計算機存儲介質，計算機存儲介質上存儲有計算機程序指令，計算機程序指令被處理器執行時實現上述第一方面的掩模版的設計圖形的生成方法。
12、第五方面，本申請實施例提供了一種計算機程序產品，包括計算機程序，該計算機程序被處理器處理時實現上述第一方面的掩模版的設計圖形的生成方法。
13、本申請實施例提供的掩模版的設計圖形的生成方法、裝置、設備、介質及產品，通過圖形處理模型對待優化版圖中的主設計圖形和亞分辨率輔助圖形同時進行圖形處理，能夠提升圖形處理效率，并且在上述對圖形的處理涵蓋了圖形移動、圖形縮小、圖形放大、圖形旋轉、圖形結合、圖形刪除和圖形邊處理等等多種處理過程，能夠多方面對圖形進行處理，提升圖形處理協同優化和準確性。
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1.一種掩模版的設計圖形的生成方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的掩模版的設計圖形的生成方法，其特征在于，
3.根據權利要求2所述的掩模版的設計圖形的生成方法，其特征在于，所述通過圖形處理模型對所述目標區域以及所述目標圖形進行圖形處理，得到所述掩模版的設計圖形之后，所述生成方法還包括：
4.根據權利要求3所述的掩模版的設計圖形的生成方法，其特征在于，所述偏差值包括邊緣放置誤差或者所述曝光圖形的像素矩陣與所述待優化版圖的像素矩陣的歐拉距離的平方值。
5.根據權利要求1所述的掩模版的設計圖形的生成方法，其特征在于，所述將所述第一圖形和所述第二圖形輸入預設的圖形處理模型，基于所述圖形處理模型對所述第一圖形和所述第二圖形進行圖形處理，得到掩模版的設計圖形之前，所述生成方法還包括：
6.根據權利要求1所述的掩模版的設計圖形的生成方法，其特征在于，所述獲取掩模版的待優化版圖之前，所述生成方法還包括：
7.一種掩模版的設計圖形的生成裝置，其特征在于，包括：
8.一種電子設備，其特征在于，所述設備包
9.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，所述計算機可讀存儲介質上存儲有計算機程序指令，所述計算機程序指令被處理器執行時實現如權利要求1至6任意一項所述的掩模版的設計圖形的生成方法。
10.一種計算機程序產品，包括計算機程序，其特征在于，該計算機程序被處理器處理時實現如權利要求1至6任意一項所述的掩模版的設計圖形的生成方法。
...【技術特征摘要】
1.一種掩模版的設計圖形的生成方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的掩模版的設計圖形的生成方法，其特征在于，
3.根據權利要求2所述的掩模版的設計圖形的生成方法，其特征在于，所述通過圖形處理模型對所述目標區域以及所述目標圖形進行圖形處理，得到所述掩模版的設計圖形之后，所述生成方法還包括：
4.根據權利要求3所述的掩模版的設計圖形的生成方法，其特征在于，所述偏差值包括邊緣放置誤差或者所述曝光圖形的像素矩陣與所述待優化版圖的像素矩陣的歐拉距離的平方值。
5.根據權利要求1所述的掩模版的設計圖形的生成方法，其特征在于，所述將所述第一圖形和所述第二圖形輸入預設的圖形處理模型，基于所述圖形處理模型對所述第一圖形和所述第二圖形進行圖形處理，...
【專利技術屬性】
技術研發人員：周桌霖，
申請(專利權)人：深圳晶源信息技術有限公司，
類型：發明
國別省市：
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