【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專(zhuān)利技術(shù)涉及半導(dǎo)體處理設(shè)備領(lǐng)域，進(jìn)一步地涉及一種氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)及基板處理裝置。
技術(shù)介紹
1、在半導(dǎo)體處理領(lǐng)域，退火是一種常見(jiàn)的基板處理工藝。基板通常在完成電鍍工藝后，其表面的原子會(huì)因電流密度不同，導(dǎo)致晶格結(jié)構(gòu)有差異，影響電子遷移，此時(shí)對(duì)基板實(shí)施快速熱退火工藝，可通過(guò)足夠高溫度的熱處理，使其具有更好的電子遷移能力。
2、通常基板退火裝置配置有多個(gè)退火腔，且該多個(gè)退火腔共用一個(gè)總排風(fēng)管路。基板退火期間，總排風(fēng)管路同時(shí)抽取各個(gè)退火腔內(nèi)的氣體，使退火腔內(nèi)保持一定的負(fù)壓，使得退火過(guò)程中氣體還原能力和穩(wěn)定性達(dá)到最佳。但由于總排風(fēng)存在氣壓波動(dòng)，容易造成退火腔內(nèi)的氣壓不穩(wěn)定，導(dǎo)致退火腔排氣速率存在波動(dòng)，進(jìn)而導(dǎo)致基板表面的熱處理不均勻，基板表面退火效果不理想，在退火后出現(xiàn)反射率單點(diǎn)偏高或偏低以及整體平均值偏低的情況。而現(xiàn)有的控制退火腔內(nèi)氣壓的調(diào)節(jié)裝置為手動(dòng)調(diào)節(jié)，不能實(shí)時(shí)根據(jù)排風(fēng)氣壓波動(dòng)進(jìn)行調(diào)節(jié)，缺乏可控性，機(jī)臺(tái)的狀態(tài)存在不穩(wěn)定性，影響基板成品率。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、針對(duì)上述技術(shù)問(wèn)題，本專(zhuān)利技術(shù)的目的在于解決現(xiàn)有基板退火裝置中，由于總排風(fēng)氣壓波動(dòng)，導(dǎo)致退火腔內(nèi)氣壓不穩(wěn)定的問(wèn)題。
2、為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本專(zhuān)利技術(shù)提供了一種氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)及基板處理裝置。
3、在一些實(shí)施方式中，本專(zhuān)利技術(shù)提出的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，用于調(diào)節(jié)基板處理裝置中不同工藝腔內(nèi)的氣壓，包括：排風(fēng)管路，與所述工藝腔連接；排風(fēng)調(diào)節(jié)閥，設(shè)置在所述排風(fēng)管路上；氣壓計(jì)，設(shè)置在排風(fēng)管路上，并且位于所述工藝腔和所述排風(fēng)調(diào)
4、在一些實(shí)施方式中，所述排風(fēng)管路包括總排風(fēng)管路和若干第一管路，所述第一管路與所述工藝腔一一對(duì)應(yīng)，所述排風(fēng)調(diào)節(jié)閥包括若干第一調(diào)節(jié)閥，所述氣壓計(jì)包括若干第一氣壓計(jì)；各所述第一管路的一端與總排風(fēng)管路連接，另一端與對(duì)應(yīng)的所述工藝腔連接，各所述第一調(diào)節(jié)閥和各所述第一氣壓計(jì)分別設(shè)置在對(duì)應(yīng)的第一管路上，所述第一氣壓計(jì)設(shè)置在所述第一調(diào)節(jié)閥和所述工藝腔之間，用于檢測(cè)工藝腔的氣壓；所述控制部件與所述第一調(diào)節(jié)閥和所述第一氣壓計(jì)通信連接，并被配置為：控制所述第一調(diào)節(jié)閥的開(kāi)度，以調(diào)節(jié)所述工藝腔的排氣速率，使所述第一氣壓計(jì)的氣壓檢測(cè)值等于所述第一氣壓預(yù)設(shè)值；其中，所述第一氣壓預(yù)設(shè)值等于所述第二氣壓預(yù)設(shè)值。
5、在一些實(shí)施方式中，還包括：若干補(bǔ)充氣源和若干第二管路，各所述補(bǔ)充氣源通過(guò)對(duì)應(yīng)的第二管路連接于對(duì)應(yīng)的第一管路，各所述第二管路分別配置有第二調(diào)節(jié)閥；所述控制部件還與所述第二調(diào)節(jié)閥通信連接，并被配置為：控制所述第一調(diào)節(jié)閥和所述第二調(diào)節(jié)閥的開(kāi)度，以調(diào)節(jié)所述工藝腔的排氣速率，使所述第一氣壓計(jì)的氣壓檢測(cè)值等于所述第一氣壓預(yù)設(shè)值，且使對(duì)應(yīng)的工藝腔內(nèi)的氣壓等于所述第二氣壓預(yù)設(shè)值。
6、在一些實(shí)施方式中，所述排風(fēng)管路還包括若干輔助管路，各所述輔助管路的一端與所述第一管路連接，另一端與所述總排風(fēng)管路連接，各所述輔助管路分別配置有第三調(diào)節(jié)閥；所述控制部件還與所述第三調(diào)節(jié)閥通信連接，并被配置為：控制所述第一調(diào)節(jié)閥、所述第二調(diào)節(jié)閥和所述第三調(diào)節(jié)閥的開(kāi)度，以調(diào)節(jié)所述工藝腔的排氣速率，使所述第一氣壓計(jì)的氣壓檢測(cè)值等于所述第一氣壓預(yù)設(shè)值，且使對(duì)應(yīng)的工藝腔內(nèi)的氣壓等于所述第二氣壓預(yù)設(shè)值。
7、在一些實(shí)施方式中，在系統(tǒng)調(diào)試期間，所述控制部件控制所述第二調(diào)節(jié)閥和所述第三調(diào)節(jié)閥處于關(guān)閉狀態(tài)，控制所述第一調(diào)節(jié)閥的開(kāi)度，以調(diào)節(jié)所述工藝腔的排氣速率，使所述第一氣壓計(jì)的氣壓檢測(cè)值等于所述第一氣壓預(yù)設(shè)值；在系統(tǒng)運(yùn)行期間，當(dāng)所述第一氣壓計(jì)的氣壓檢測(cè)值不等于所述第一氣壓預(yù)設(shè)值時(shí)，維持所述第一調(diào)節(jié)閥的開(kāi)度不變，控制所述第二調(diào)節(jié)閥和所述第三調(diào)節(jié)閥的開(kāi)度，以調(diào)節(jié)所述工藝腔的排氣速率，使所述第一氣壓計(jì)的氣壓檢測(cè)值等于所述第一氣壓預(yù)設(shè)值。
8、在一些實(shí)施方式中，所述控制部件還被配置為：在所述在系統(tǒng)運(yùn)行期間，當(dāng)所述第一氣壓計(jì)的氣壓檢測(cè)值低于所述第一氣壓預(yù)設(shè)值時(shí)，所述控制部件通過(guò)控制對(duì)應(yīng)的所述第二調(diào)節(jié)閥的開(kāi)度，以調(diào)節(jié)所述第二管路的供氣速率，并使所述第一氣壓計(jì)的氣壓檢測(cè)值恢復(fù)至所述第一氣壓預(yù)設(shè)值；當(dāng)所述第一氣壓計(jì)的氣壓檢測(cè)值高于所述第一氣壓預(yù)設(shè)值時(shí)，所述控制部件通過(guò)控制對(duì)應(yīng)的所述第三調(diào)節(jié)閥的開(kāi)度，以調(diào)節(jié)所述輔助管路的排氣速率，并使所述第一氣壓計(jì)的氣壓檢測(cè)值恢復(fù)至所述第一氣壓預(yù)設(shè)值。
9、在一些實(shí)施方式中，所述排風(fēng)管路包括總排風(fēng)管路和若干第一管路，所述第一管路與所述工藝腔一一對(duì)應(yīng)，其中，各所述第一管路的一端與總排風(fēng)管路連接，另一端與對(duì)應(yīng)的所述工藝腔連接；所述排風(fēng)調(diào)節(jié)閥包括設(shè)置在所述總排風(fēng)管路上的第四調(diào)節(jié)閥，所述氣壓計(jì)包括設(shè)置在所述總排風(fēng)管路上的第二氣壓計(jì)；所述控制部件被配置為：控制所述第四調(diào)節(jié)閥的開(kāi)度，以使所述第二氣壓計(jì)的氣壓檢測(cè)值等于所述第一氣壓預(yù)設(shè)值，且使所述工藝腔內(nèi)的氣壓等于第二氣壓預(yù)設(shè)值。
10、在一些實(shí)施方式中，所述第一管路上設(shè)置有第一調(diào)節(jié)閥和第一氣壓計(jì)，所述第一氣壓計(jì)位于所述第一調(diào)節(jié)閥和所述工藝腔之間。
11、在一些實(shí)施方式中，所述控制部件還被配置為：在系統(tǒng)調(diào)試期間，所述控制部件控制所述第四調(diào)節(jié)閥處于關(guān)閉狀態(tài)，控制所述第一調(diào)節(jié)閥的開(kāi)度，以調(diào)節(jié)所述工藝腔的排氣速率，使所述第一氣壓計(jì)的氣壓檢測(cè)值等于所述第二氣壓預(yù)設(shè)值；在系統(tǒng)運(yùn)行期間，當(dāng)所述第二氣壓計(jì)的氣壓檢測(cè)值不等于所述第一氣壓預(yù)設(shè)值時(shí)，維持所述第一調(diào)節(jié)閥的開(kāi)度不變，控制所述第四調(diào)節(jié)閥的開(kāi)度，以調(diào)節(jié)所述工藝腔的排氣速率，使所述第二氣壓計(jì)的氣壓檢測(cè)值等于所述第一氣壓預(yù)設(shè)值。
12、在一些實(shí)施方式中，該基板處理裝置，包括上述氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，還包括若干工藝腔。
13、在一些實(shí)施方式中，所述工藝腔為退火腔，所述第二氣壓預(yù)設(shè)值為-(8～12)pa。
14、本專(zhuān)利技術(shù)的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)通過(guò)設(shè)置排風(fēng)管路、排風(fēng)調(diào)節(jié)閥、氣壓計(jì)和控制部件，并通過(guò)控制部件控制排風(fēng)調(diào)節(jié)閥的開(kāi)度，以調(diào)節(jié)工藝腔的排氣速率，使氣壓計(jì)的氣壓檢測(cè)值等于第一氣壓預(yù)設(shè)值，同時(shí)使工藝腔內(nèi)的氣壓等于第二氣壓預(yù)設(shè)值，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)排風(fēng)管路排氣速率的自動(dòng)調(diào)節(jié)，有利于工藝腔內(nèi)氣壓的穩(wěn)定。
15、此外，本申請(qǐng)還在各個(gè)工藝腔與總排風(fēng)管路連接的第一管路上增加第二管路和輔助管路，通過(guò)第二管路與補(bǔ)充氣源連接，用于在總排風(fēng)管路氣壓過(guò)低的情況下，補(bǔ)充額外的氣壓供總排風(fēng)管路抽離，避免工藝腔內(nèi)氣壓過(guò)低，使工藝腔內(nèi)的反應(yīng)氣體過(guò)快流失；通過(guò)輔助管路將第一管路與總排風(fēng)管路連接，用于在總排風(fēng)管路氣壓過(guò)高的情況下，增加工藝腔與總排風(fēng)管路之間的流通面積，增加排氣速率，避免工藝腔內(nèi)氣壓過(guò)高，使工藝腔內(nèi)的反應(yīng)氣體排放過(guò)慢。此外，通過(guò)在總排風(fēng)管路設(shè)置第四調(diào)節(jié)閥和第二氣壓計(jì)，第二氣壓計(jì)用于檢測(cè)總排風(fēng)管路氣壓，在總排風(fēng)管路氣壓過(guò)低的情況下，第四調(diào)節(jié)閥閥門(mén)開(kāi)度減小，避免工藝腔內(nèi)氣壓過(guò)低，使工藝腔內(nèi)的反應(yīng)氣體過(guò)快流失；在總排風(fēng)管路氣壓過(guò)高的情況下，第四本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，用于調(diào)節(jié)基板處理裝置中不同工藝腔內(nèi)的氣壓，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，其特征在于，
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，其特征在于，還包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，其特征在于，
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，其特征在于，所述控制部件還被配置為：
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，其特征在于，所述控制部件還被配置為：
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，其特征在于，
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，其特征在于，
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，其特征在于，所述控制部件還被配置為：
10.一種基板處理裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，還包括若干工藝腔。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板處理裝置，其特征在于，所述工藝腔為退火腔，所述第二氣壓預(yù)設(shè)值為-8Pa到-12Pa。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，用于調(diào)節(jié)基板處理裝置中不同工藝腔內(nèi)的氣壓，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，其特征在于，
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，其特征在于，還包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，其特征在于，
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，其特征在于，所述控制部件還被配置為：
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)，其特征在于，所述控制部件還被配置為：<...
【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：黃競(jìng)，余齊興，司生輝，劉林波，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：盛美半導(dǎo)體設(shè)備上海股份有限公司，
類(lèi)型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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