一種垂直校準(zhǔn)裝置制造方法及圖紙

本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N垂直校準(zhǔn)裝置，該裝置至少包括：載體盤，所述載體盤直徑小于工作腔內(nèi)徑且大于晶圓直徑；校準(zhǔn)線，位于所述載體盤上，所述校準(zhǔn)線在晶圓表面的正投影與晶圓外緣輪廓相同；連接部，設(shè)置于所述載體盤的邊緣，當(dāng)所述載體盤置于工作腔內(nèi)部時(shí)，所述連接部可搭接于工作腔側(cè)壁，使得所述載體盤懸置于所述工作腔內(nèi)部。通過使用該裝置能夠定期檢查設(shè)備傳送位置，為工程師提供設(shè)備狀態(tài)的維護(hù)參考，且該垂直校準(zhǔn)裝置同時(shí)適用于工作腔內(nèi)的晶圓位置檢測(cè)和冷卻盤上的晶圓位置檢查，即使在不同尺寸的工作區(qū)域均能實(shí)現(xiàn)良好的結(jié)構(gòu)適配性。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體，特別是涉及一種垂直校準(zhǔn)裝置。

技術(shù)介紹

1、去膠機(jī)是一種用于去除晶圓表面膠層的設(shè)備，目前大部分大氣狀態(tài)下進(jìn)行晶圓傳送的去膠機(jī)都是一些機(jī)械結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、傳動(dòng)計(jì)步裝置簡(jiǎn)陋或傳送位置不準(zhǔn)確的老舊設(shè)備或翻新設(shè)備。針對(duì)這一部分設(shè)備的重新投入工業(yè)生產(chǎn)，不僅能夠節(jié)約大量購(gòu)買新機(jī)的成本，還能使設(shè)備二次循環(huán)利用，減少環(huán)境污染和工業(yè)廢料，為確保這類設(shè)備能夠良好運(yùn)行，需定期檢查設(shè)備的傳送位置并進(jìn)行調(diào)整。

2、然而，目前并沒有針對(duì)上述現(xiàn)實(shí)問題進(jìn)行改進(jìn)或工藝優(yōu)化的技術(shù)方案來(lái)幫助工程師檢查設(shè)備傳送位置的裝置，現(xiàn)階段晶圓傳送位置大都是根據(jù)經(jīng)驗(yàn)來(lái)確定和調(diào)整，誤差較大且額外增加工程師的工作量。

3、因此，需要提供一種針對(duì)上述技術(shù)問題的改進(jìn)技術(shù)方案，便于校核和調(diào)整去膠機(jī)的傳送位置，以確保晶圓去膠的工藝質(zhì)量。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)中去膠機(jī)存在的缺陷及不足，本申請(qǐng)的目的在于提供一種垂直校準(zhǔn)裝置，以更精準(zhǔn)、高效的檢查和調(diào)整去膠機(jī)設(shè)備的傳送位置。

2、本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N垂直校準(zhǔn)裝置，至少包括：

3、載體盤，所述載體盤直徑小于工作腔內(nèi)徑且大于晶圓直徑；

4、校準(zhǔn)線，位于所述載體盤上，所述校準(zhǔn)線在晶圓表面的正投影與晶圓外緣輪廓相同；

5、連接部，設(shè)置于所述載體盤的邊緣，當(dāng)所述載體盤置于工作腔內(nèi)部時(shí)，所述連接部可搭接于工作腔側(cè)壁，使得所述載體盤懸置于所述工作腔內(nèi)部。

6、在一些實(shí)施方式中，所述連接部的數(shù)量大于或等于兩個(gè)。</p>

7、在一些實(shí)施方式中，所述連接部的數(shù)量為三個(gè)，且三個(gè)所述連接部等角度間隔設(shè)置于所述載體盤的邊緣。

8、在一些實(shí)施方式中，定義工作腔內(nèi)徑為l1，所述載體盤的直徑為l2，則1mm≤l1-l2≤2mm。

9、在一些實(shí)施方式中，所述載體盤的透光率大于或等于90％。

10、在一些實(shí)施方式中，所述連接部包括搭接于工作腔側(cè)壁的卡接端，所述卡接端與所述載體盤之間以支撐體連接；所述支撐體的一端通過第一螺栓安裝于所述卡接端上，所述支撐體的另一端通過第二螺栓安裝于所述載體盤上。

11、在一些實(shí)施方式中，所述卡接端開設(shè)缺口槽，所述缺口槽位于遠(yuǎn)離所述載體盤且靠近圓心的一角處，當(dāng)所述垂直校準(zhǔn)裝置反置于冷卻盤時(shí)，所述缺口槽與所述冷卻盤邊緣相抵接。

12、在一些實(shí)施方式中，所述缺口槽的形貌依附于所述冷卻盤的邊緣構(gòu)造，并與所述冷卻盤側(cè)壁及上表面緊密接觸。

13、在一些實(shí)施方式中，所述卡接端還具有調(diào)節(jié)孔，所述調(diào)節(jié)孔具有長(zhǎng)條形的開口并貫穿所述卡接端，用以調(diào)節(jié)卡接端的搭接或夾持距離。

14、在一些實(shí)施方式中，所述支撐體為一體式結(jié)構(gòu)或多段拼接式結(jié)構(gòu)。

15、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本申請(qǐng)?zhí)峁┑募夹g(shù)方案具有以下有益效果：

16、本申請(qǐng)的技術(shù)方案中，通過設(shè)計(jì)一種適用于去膠機(jī)的輔助工裝，也即垂直校準(zhǔn)裝置，定期檢查設(shè)備傳送位置，為工程師提供了設(shè)備狀態(tài)的維護(hù)參考，且該垂直校準(zhǔn)裝置同時(shí)適用于工作腔內(nèi)的晶圓位置檢測(cè)和冷卻盤上的晶圓位置檢查，即使在不同尺寸的工作區(qū)域均能實(shí)現(xiàn)良好的結(jié)構(gòu)適配性。該垂直校準(zhǔn)裝置通過在載體盤上刻畫與晶圓工作位置垂直對(duì)應(yīng)的校準(zhǔn)線進(jìn)行傳輸位置校核，載體盤邊緣設(shè)置連接部，可使該載體盤穩(wěn)固的搭接在工作腔上部側(cè)壁或卡接于冷卻盤表面，便于工程師進(jìn)行位置對(duì)準(zhǔn)和觀察，及時(shí)進(jìn)行設(shè)備調(diào)整。

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【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

1.一種垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，至少包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述連接部的數(shù)量大于或等于兩個(gè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述連接部的數(shù)量為三個(gè)，且三個(gè)所述連接部等角度間隔設(shè)置于所述載體盤的邊緣。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，定義工作腔內(nèi)徑為L(zhǎng)1，所述載體盤的直徑為L(zhǎng)2，則1mm≤L1-L2≤2mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述載體盤的透光率大于或等于90％。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述連接部包括搭接于工作腔側(cè)壁的卡接端，所述卡接端與所述載體盤之間以支撐體連接；所述支撐體的一端通過第一螺栓安裝于所述卡接端上，所述支撐體的另一端通過第二螺栓安裝于所述載體盤上。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述卡接端開設(shè)缺口槽，所述缺口槽位于遠(yuǎn)離所述載體盤且靠近圓心的一角處，當(dāng)所述垂直校準(zhǔn)裝置反置于冷卻盤時(shí)，所述缺口槽與所述冷卻盤邊緣相抵接。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述缺口槽的形貌依附于所述冷卻盤的邊緣構(gòu)造，并與所述冷卻盤側(cè)壁及上表面緊密接觸。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述卡接端還具有調(diào)節(jié)孔，所述調(diào)節(jié)孔具有長(zhǎng)條形的開口并貫穿所述卡接端，用以調(diào)節(jié)卡接端的搭接或夾持距離。

10.根據(jù)權(quán)利要求6～9任一所述的垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述支撐體為一體式結(jié)構(gòu)或多段拼接式結(jié)構(gòu)。

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【技術(shù)特征摘要】

1.一種垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，至少包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述連接部的數(shù)量大于或等于兩個(gè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述連接部的數(shù)量為三個(gè)，且三個(gè)所述連接部等角度間隔設(shè)置于所述載體盤的邊緣。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，定義工作腔內(nèi)徑為l1，所述載體盤的直徑為l2，則1mm≤l1-l2≤2mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述載體盤的透光率大于或等于90％。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述連接部包括搭接于工作腔側(cè)壁的卡接端，所述卡接端與所述載體盤之間以支撐體連接；所述支撐體的一端通過第一螺栓安...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：吳續(xù)，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：上海積塔半導(dǎo)體有限公司，
類型：新型
國(guó)別省市：