【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于鍍膜玻璃領域，具體涉及一種可鋼化雙銀low-e鍍膜玻璃及制備方法。
技術介紹
1、低輻射鍍膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉積一層金屬銀作為功能層，對太陽光中的近紅外線和生活環境中的遠紅外線起反射作用，從而降低玻璃對紅外線的吸收和輻射，所以稱之為低輻射鍍膜玻璃；此種玻璃既可用于家庭門窗，也可用于商場、寫字樓和高檔賓館的玻璃幕墻及其它需要的場所。
2、低輻射鍍膜玻璃目前有單銀、雙銀、三銀、甚至四銀玻璃，但由于雙銀產品以其優異的節能性能、光學特性和較低的價格，被市場廣泛接受，在國內外各類建筑幕墻被廣泛使用。雖然已經研發出更加節能的三銀玻璃，但是雙銀產品仍然占據目前80％以上的市場，仍是主流產品。
3、然而，雙銀產品普遍存在一個問題：雙銀產品的玻面在不同角度觀察時，顏色會發生明顯的變化，顏色差異大，導致視覺一致性差、設計限制，影響建筑美觀性，同時也無法達到設計師的預想和要求，這對高要求建筑的視覺一致性及建筑外觀上存在一定的影響。
技術實現思路
1、本專利技術的目的是提供一種可鋼化雙銀low-e鍍膜玻璃及制備方法。
2、為達到上述目的，本專利技術采用的一種技術方案是：
3、一種可鋼化雙銀low-e鍍膜玻璃，包括玻璃基片以及鍍設在所述的玻璃基片上的復合層，復合層包括自所述的玻璃基片由內向外順序鍍設的第一介質層、第一azo層、第一功能層、第一保護層、第二azo層、中間介質層、第三azo層、第二功能層、第二保護層、第四azo層、第二介質層，所
4、根據本專利技術的一些實施方面，所述的第一子層與第四子層均為zno、sinx、sinxoy中任意一種或多種的組合，所述的第二層為nicr、cr、ti、tin、nicrnx、nicrox中任意一種或多種的組合，所述的第二子層與第三子層均為azo、tzo、tiox中任意一種或多種的組合。
5、根據本專利技術的一優選實施方面，中間介質層包括依次設置的第一子層、第二子層、第二層、第三子層和第四子層，第一子層為zno，第二子層為azo，第二層為nicr，第三子層為azo，第四子層為zno。第二層優選為nicr和\或cr，由于中間介質層的nicr和\或cr的加入，可改變光在雙銀中間介質層的傳播路徑。
6、根據本專利技術的一些實施方面，所述的第一子層與所述的第四子層的材質相同；和\或，所述的第二子層與所述的第三子層的材質相同。
7、根據本專利技術的一些實施方面，所述的第二子層與所述的第三子層的厚度相同。
8、根據本專利技術的一些實施方面，所述的中間介質層的厚度為95～140nm，其中所述的第二層的厚度為6～11nm。
9、根據本專利技術的一些實施方面，所述的第一子層的厚度范圍為50-70nm；所述的第二子層的厚度范圍為3-7nm；所述的第二層的厚度范圍為6-11nm；所述的第三子層的厚度范圍為3-7nm；所述的第四子層的厚度范圍為30-50nm。
10、根據本專利技術的一些實施方面，所述的第一介質層與所述的第二介質層均為sinx、zno、zro中任意一層或多層的組合。
11、根據本專利技術的一些實施方面，所述的第一保護層與所述的第二保護層均為nicr層。
12、根據本專利技術的一些實施方面，所述的第一功能層與所述的第二功能層均為銀層。
13、根據本專利技術的一些實施方面，所述的第一介質層的厚度范圍為40～60nm；第一azo層的厚度范圍為8～12nm；所述的第一功能層的厚度范圍為6～12nm；所述的第一保護層的厚度范圍為1～3nm；所述的第二azo層的厚度范圍為6～12nm；所述的第三azo層的厚度范圍為6～12nm；所述的第二功能層的厚度范圍為4～10nm；所述的第二保護層的厚度范圍為3～6nm；所述的第四azo層的厚度范圍為6～12nm；所述的第二介質層的厚度范圍為25～70nm。
14、本專利技術采用的另一種技術方案是：
15、一種根據所述的可鋼化雙銀low-e鍍膜玻璃的制備方法，包括：
16、(1)采用磁控濺射工藝，在玻璃基片上鍍第一介質層，具體為：首先硅鋁靶在氮氣氣氛下濺射沉積，再鋅鋁靶在氧氣氣氛下濺射沉積，第一介質層為40～60nm厚度的sinx與zno的復合層；
17、(2)采用磁控濺射工藝，在第一介質層上鍍第一azo層；
18、(3)采用磁控濺射工藝，在第一azo層上鍍第一功能層，功能層為6～12nm厚度的ag層；
19、(4)采用磁控濺射工藝，在第一功能層上鍍第一保護層，第一保護層為1～3nm厚度的鎳鉻合金(nicr)層；
20、(5)采用磁控濺射工藝，在第一保護層上鍍第二azo層，第二azo層厚度范圍為6～12nm；
21、(6)采用磁控濺射工藝，在第二azo層上鍍中間介質層，總厚度范圍為95～140nm，其中第二層的厚度范圍為6～11nm；
22、(7)采用磁控濺射工藝，在第二介質層上鍍第三azo層，第三azo層的厚度為6～12nm；
23、(8)采用磁控濺射工藝，在第三azo層鍍第二功能層，第二功能層為4～10nm厚度的ag層；
24、(9)采用磁控濺射工藝，在第二功能層上鍍第二保護層，第二保護層為3～6nm厚度的鎳鉻合金(nicr)層；
25、(10)采用磁控濺射工藝，在第二保護層上鍍第四azo層，第四azo層的厚度范圍為6～12nm；
26、(11)采用磁控濺射工藝，在第四azo層上鍍第二介質層，第二介質層為25～70nm厚度的sinx和zro復合層。
27、根據本專利技術的一些實施方面，步驟(6)中，所述的中間介質層的鍍設方法包括：
28、s1、在中頻交流電源的控制下，鋅鋁靶在氧氣氣氛下濺射沉積，多個靶總功率為206kw；
29、s2、采用磁控濺射工藝，azo靶在氬氣氣氛下濺射沉積，靶總功率為20kw；
30、s3、利用平面陰級，在直流電源控制下，nicr靶在氬氣氣氛中沉積，功率為11.39；
31、s4、采用磁控濺射工藝，azo靶在氬氣氣氛下濺射沉積，靶總功率為20kw；
32、s5、在中頻交流電源的控制下，鋅鋁靶在氧氣氣氛下濺射沉積，多個靶總功率為124kw。
33、由于上述技術方案運用，本專利技術與現有技術相比具有下列優點：
34、本專利技術提供一種可鋼化雙銀low-e鍍膜玻璃及制備方法，本專利技術通過設置中間介質層，改變光在第一功能層和第二功能層之間的傳播路徑，削弱光學干涉及折射效果，最終降低玻本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種可鋼化雙銀LOW-E鍍膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片以及鍍設在所述的玻璃基片上的復合層，復合層包括自所述的玻璃基片由內向外順序鍍設的第一介質層、第一AZO層、第一功能層、第一保護層、第二AZO層、中間介質層、第三AZO層、第二功能層、第二保護層、第四AZO層、第二介質層，所述的中間介質層包括依次設置的第一層、第二層、第三層，所述的第一層與第三層均為ZnO、SiNx、SiNxOy、AZO、TZO、TiOx中任意一種或多種的組合，所述的第二層為NiCr、Cr、Ti、TiN、NiCrNx、NiCrOx中任意一種或多種的組合。
2.根據權利要求1所述的可鋼化雙銀LOW-E鍍膜玻璃，其特征在于，所述的第一層包括第一子層和第二子層，所述的第三層包括第三子層和第四子層，所述的第一子層與所述的第四子層均為ZnO、SiNx、SiNxOy中任意一種或多種的組合，所述的第二子層與所述的第三子層均為AZO、TZO、TiOx中任意一種或多種的組合。
3.根據權利要求2所述的可鋼化雙銀LOW-E鍍膜玻璃，其特征在于，所述的第一子層與所述的第四子層的材質相同；和\或，所述的第
4.根據權利要求2所述的可鋼化雙銀LOW-E鍍膜玻璃，其特征在于，所述的第一子層的厚度范圍為50-70nm；所述的第二子層的厚度范圍為3-7nm；所述的第二層的厚度范圍為6-11nm；所述的第三子層的厚度范圍為3-7nm；所述的第四子層的厚度范圍為30-50nm。
5.根據權利要求1所述的可鋼化雙銀LOW-E鍍膜玻璃，其特征在于，所述的中間介質層的厚度為95～140nm，其中所述的第二層的厚度為6～11nm。
6.根據權利要求1所述的可鋼化雙銀LOW-E鍍膜玻璃，其特征在于，所述的第一介質層與所述的第二介質層均為SiNx、ZnO、ZrO中任意一層或多層的組合；所述的第一保護層與所述的第二保護層均為NiCr層。
7.根據權利要求1所述的可鋼化雙銀LOW-E鍍膜玻璃，其特征在于，所述的第一功能層與所述的第二功能層均為銀層。
8.根據權利要求1所述的可鋼化雙銀LOW-E鍍膜玻璃，其特征在于，所述的第一介質層的厚度范圍為40～60nm；第一AZO層的厚度范圍為8～12nm；所述的第一功能層的厚度范圍為6～12nm；所述的第一保護層的厚度范圍為1～3nm；所述的第二AZO層的厚度范圍為6～12nm；所述的第三AZO層的厚度范圍為6～12nm；所述的第二功能層的厚度范圍為4～10nm；所述的第二保護層的厚度范圍為3～6nm；所述的第四AZO層的厚度范圍為6～12nm；所述的第二介質層的厚度范圍為25～70nm。
9.一種根據權利要求1至8任意一項所述的可鋼化雙銀LOW-E鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，包括：
10.根據權利要求9所述的可鋼化雙銀LOW-E鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，步驟(6)中，所述的中間介質層的鍍設方法包括：
...【技術特征摘要】
1.一種可鋼化雙銀low-e鍍膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片以及鍍設在所述的玻璃基片上的復合層，復合層包括自所述的玻璃基片由內向外順序鍍設的第一介質層、第一azo層、第一功能層、第一保護層、第二azo層、中間介質層、第三azo層、第二功能層、第二保護層、第四azo層、第二介質層，所述的中間介質層包括依次設置的第一層、第二層、第三層，所述的第一層與第三層均為zno、sinx、sinxoy、azo、tzo、tiox中任意一種或多種的組合，所述的第二層為nicr、cr、ti、tin、nicrnx、nicrox中任意一種或多種的組合。
2.根據權利要求1所述的可鋼化雙銀low-e鍍膜玻璃，其特征在于，所述的第一層包括第一子層和第二子層，所述的第三層包括第三子層和第四子層，所述的第一子層與所述的第四子層均為zno、sinx、sinxoy中任意一種或多種的組合，所述的第二子層與所述的第三子層均為azo、tzo、tiox中任意一種或多種的組合。
3.根據權利要求2所述的可鋼化雙銀low-e鍍膜玻璃，其特征在于，所述的第一子層與所述的第四子層的材質相同；和\或，所述的第二子層與所述的第三子層的材質相同。
4.根據權利要求2所述的可鋼化雙銀low-e鍍膜玻璃，其特征在于，所述的第一子層的厚度范圍為50-70nm；所述的第二子層的厚度范圍為3-7nm；所述的第二層的厚度范圍為6-11nm；所述的第三子層的厚度范圍為3-7nm；所述的第四子層的...
【專利技術屬性】
技術研發人員：米永江，郝寬寬，戚越笙，莫益善，鄒明陽，劉鵬，
申請(專利權)人：吳江南玻華東工程玻璃有限公司，
類型：發明
國別省市：
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