【技術實現步驟摘要】
技術介紹
技術實現思路
【技術保護點】
1.一種圖像傳感器形成方法，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的圖像傳感器形成方法，其特征在于，所述多層、多段的短線溝槽通孔為C形結構，并互相鑲嵌排列，以提高所述擋光結構的擋光效果。
3.如權利要求2所述的圖像傳感器形成方法，其特征在于，所述多層、多段的短線溝槽通孔互相鑲嵌形成回紋排列，以提高所述擋光結構的擋光效果。
4.如權利要求1所述的圖像傳感器形成方法，其特征在于，所述多層短線溝槽通孔分別排布于一長線溝槽通孔兩側。
5.如權利要求4所述的圖像傳感器形成方法，其特征在于，所述長線溝槽通孔一側至少排布兩層所述短線溝槽通孔。
6.如權利要求1所述的圖像傳感器形成方法，其特征在于，各層所述短線溝槽通孔之間交錯排布，以提高所述擋光結構的擋光效果。
7.如權利要求1所述的圖像傳感器形成方法，其特征在于，所述短線溝槽通孔的線寬為0.4~0.8微米。
8.如權利要求1所述的圖像傳感器形成方法，其特征在于，形成所述擋光結構包括：
9.如權利要求8所述的圖像傳感器形成方法，其特征在于，所述金屬
10.一種圖像傳感器，其特征在于，采用如權利要求1~9所述的圖像傳感器形成方法形成。
...【技術特征摘要】
1.一種圖像傳感器形成方法，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的圖像傳感器形成方法，其特征在于，所述多層、多段的短線溝槽通孔為c形結構，并互相鑲嵌排列，以提高所述擋光結構的擋光效果。
3.如權利要求2所述的圖像傳感器形成方法，其特征在于，所述多層、多段的短線溝槽通孔互相鑲嵌形成回紋排列，以提高所述擋光結構的擋光效果。
4.如權利要求1所述的圖像傳感器形成方法，其特征在于，所述多層短線溝槽通孔分別排布于一長線溝槽通孔兩側。
5.如權利要求4所述的圖像傳感器形成方法，其特征在于，所述長線溝槽通孔一...
【專利技術屬性】
技術研發人員：陳林，
申請(專利權)人：格科半導體上海有限公司，
類型：發明
國別省市：
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