【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本技術(shù)涉及涂布設(shè)備，具體而言，涉及一種單面涂布裝置。
技術(shù)介紹
1、在鋰電池生產(chǎn)過程中，電池極片涂布是一個重要的環(huán)節(jié)，電池極片涂布是指在銅箔或鋁箔等基材的表面涂布漿料并經(jīng)過烘箱烘干處理。電池極片涂布的質(zhì)量對電池的容量、一致性、安全性等具有重要的意義，在涂布完成后需要對涂布瑕疵進(jìn)行檢測，以保障成品電池的良品率，其中，對極片的涂布瑕疵檢測通常包括對處于濕膜狀態(tài)下的極片進(jìn)行檢測和對經(jīng)過烘箱烘干的極片進(jìn)行檢測。現(xiàn)有的單面涂布裝置包括涂布模頭、濕膜檢測相機、烘箱以及干膜檢測相機，濕膜檢測相機和干膜檢測相機均用于采集與涂布模頭相對的基材表面的圖像。使用單面涂布裝置制作電池極片時，需要分兩次操作，第一次操作令基材的第一面與涂布模頭相對，第二次操作令基材的第二面與涂布模頭相對，以使涂布模頭分別對基材的第一面和第二面進(jìn)行涂布，濕膜檢測相機和干膜檢測相機分別采集經(jīng)涂布模頭涂布后的基材的同一面在濕膜狀態(tài)和經(jīng)烘箱烘干后的圖像，從而判定涂布是否存在褶皺、氣泡或者漏料等缺陷。但是，現(xiàn)有技術(shù)的單面電池極片涂布裝置，不能檢測基材的兩個面的涂布膜是否對齊，因此，存在不能全面檢測涂布瑕疵的問題。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本技術(shù)的目的在于提供一種能全面檢測涂布瑕疵的單面涂布裝置。
2、本技術(shù)的實施例是這樣實現(xiàn)的：
3、本技術(shù)提供一種單面涂布裝置，該單面涂布裝置包括機架及設(shè)置于機架的支撐機構(gòu)、驅(qū)動機構(gòu)、涂布模頭、第一相機、第二相機及烘箱，支撐機構(gòu)用于支撐基材；驅(qū)動機構(gòu)用于驅(qū)動基材移動；涂布模頭和第一相機
4、在可選的實施方式中，第二相機、涂布模頭、第一相機及烘箱沿基材的移動路徑依次設(shè)置。
5、在可選的實施方式中，支撐機構(gòu)包括均安裝于機架的第一支撐件和第二支撐件，第一支撐件與第一相機相對且間隔設(shè)置，第一支撐件用于支撐基材；第二支撐件與第二相機相對且間隔設(shè)置，第二支撐件用于支撐基材。
6、在可選的實施方式中，第一支撐件包括第一支撐輥和兩個第一軸承，第二支撐件包括第二支撐輥和兩個第二軸承，兩個第一軸承的內(nèi)圈分別與第一支撐輥的兩端固定套接，兩個第一軸承的外圈均與機架固定連接，兩個第二軸承的內(nèi)圈分別與第二支撐輥的兩端固定套接，兩個第二軸承的外圈均與機架固定連接。
7、在可選的實施方式中，支撐機構(gòu)包括涂布輥組件，涂布輥組件包括涂布輥，涂布輥可轉(zhuǎn)動地安裝于機架，涂布輥與涂布模頭相對且間隔設(shè)置；驅(qū)動機構(gòu)包括電機，電機與涂布輥傳動連接，用于驅(qū)動涂布輥轉(zhuǎn)動，涂布輥轉(zhuǎn)動時驅(qū)動基材移動。
8、在可選的實施方式中，支撐機構(gòu)包括編碼輥，編碼輥可轉(zhuǎn)動地安裝于機架，編碼輥用于支撐基材并能隨基材的移動而繞自身軸線轉(zhuǎn)動；單面涂布裝置還包括編碼器，編碼器安裝于編碼輥的一端，用于檢測編碼輥的轉(zhuǎn)動角度。
9、在可選的實施方式中，支撐機構(gòu)包括張力檢測輥，張力檢測輥安裝于機架，用于支撐基材；單面涂布裝置還包括張力檢測機構(gòu)，張力檢測機構(gòu)包括壓力傳感器，壓力傳感器與張力檢測輥的一端連接，壓力傳感器用于檢測由張力檢測輥支撐的基材的張力。
10、在可選的實施方式中，支撐機構(gòu)還包括張緊輥，張緊輥與機架位置可調(diào)地連接，張緊輥用于支撐基材，沿張緊輥的徑向調(diào)節(jié)張緊輥相對機架的位置時能夠調(diào)節(jié)基材的張力。
11、在可選的實施方式中，單面涂布裝置還包括接帶機構(gòu)，接帶機構(gòu)用于連接斷成兩段的基材，接帶機構(gòu)包括壓緊組件，壓緊組件用于壓住斷開的基材。
12、在可選的實施方式中，壓緊組件包括支撐架、氣缸及壓緊件，支撐架與機架連接，氣缸安裝于支撐架，壓緊件與氣缸連接，壓緊件用于在氣缸的驅(qū)動下移動并將位于壓緊件和支撐架之間的基材壓緊于支撐架。
13、本技術(shù)的實施例提供的單面涂布裝置至少具備以下優(yōu)點或有益效果：
14、本技術(shù)的實施例提供的單面涂布裝置包括機架及設(shè)置于機架的支撐機構(gòu)、驅(qū)動機構(gòu)、涂布模頭、第一相機、第二相機及烘箱，支撐機構(gòu)用于支撐基材；驅(qū)動機構(gòu)用于驅(qū)動基材移動；涂布模頭和第一相機位于基材的移動路徑的第一側(cè)，且沿基材的移動方向，第一相機位于涂布模頭的下游，涂布模頭用于對基材的與涂布模頭相對的表面進(jìn)行涂布，第一相機用于采集基材的與涂布模頭相對的表面的圖像；第二相機位于基材的移動路徑的第二側(cè)，第二相機用于采集基材的與涂布模頭相背的表面的圖像；烘箱用于對已涂布的基材進(jìn)行烘干。本技術(shù)實施例提供的單面涂布裝置，第一次操作首先對基材的第一表面進(jìn)行涂布，使基材的第一表面與涂布模頭和第一相機相對，涂布模頭對基材的第一表面進(jìn)行涂布，第一相機采集經(jīng)涂布后的基材的第一表面的圖像；第二次操作對基材的第二表面進(jìn)行涂布，使完成第一表面涂布并經(jīng)烘箱烘干的基材的第一表面與第二相機相對，并使基材的第二表面與涂布模頭和第一相機相對，第二相機采集經(jīng)烘箱烘干的基材的第一表面的圖像，涂布模頭對基材的第二表面進(jìn)行涂布，第一相機采集經(jīng)涂布后的基材的第二表面的圖像。如此設(shè)置使得第二次操作時第一相機和第二相機能分別采集基材的兩個表面的圖像，從而能夠根據(jù)兩個表面的圖像判斷基材的兩個表面的涂布膜是否對齊。因此，本技術(shù)實施例提供的單面涂布裝置能全面檢測涂布瑕疵。
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1.一種單面涂布裝置，其特征在于，包括機架及設(shè)置于所述機架的支撐機構(gòu)、驅(qū)動機構(gòu)、涂布模頭、第一相機、第二相機及烘箱，所述支撐機構(gòu)用于支撐基材；所述驅(qū)動機構(gòu)用于驅(qū)動基材移動；所述涂布模頭和所述第一相機位于基材的移動路徑的第一側(cè)，且沿基材的移動方向，所述第一相機位于所述涂布模頭的下游，所述涂布模頭用于對基材的與所述涂布模頭相對的表面進(jìn)行涂布，所述第一相機用于采集基材的與所述涂布模頭相對的表面的圖像；所述第二相機位于基材的所述移動路徑的第二側(cè)，所述第二相機用于采集基材的與所述涂布模頭相背的表面的圖像；所述烘箱用于對已涂布的基材進(jìn)行烘干。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單面涂布裝置，其特征在于，所述第二相機、所述涂布模頭、所述第一相機及所述烘箱沿基材的所述移動路徑依次設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單面涂布裝置，其特征在于，所述支撐機構(gòu)包括均安裝于所述機架的第一支撐件和第二支撐件，所述第一支撐件與所述第一相機相對且間隔設(shè)置，所述第一支撐件用于支撐基材；所述第二支撐件與所述第二相機相對且間隔設(shè)置，所述第二支撐件用于支撐基材。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的單面涂布裝
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單面涂布裝置，其特征在于，所述支撐機構(gòu)包括涂布輥組件，所述涂布輥組件包括涂布輥，所述涂布輥可轉(zhuǎn)動地安裝于所述機架，所述涂布輥與所述涂布模頭相對且間隔設(shè)置；所述驅(qū)動機構(gòu)包括電機，所述電機與所述涂布輥傳動連接，用于驅(qū)動所述涂布輥轉(zhuǎn)動，所述涂布輥轉(zhuǎn)動時驅(qū)動基材移動。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單面涂布裝置，其特征在于，所述支撐機構(gòu)包括編碼輥，所述編碼輥可轉(zhuǎn)動地安裝于所述機架，所述編碼輥用于支撐基材并能隨基材的移動而繞自身軸線轉(zhuǎn)動；所述單面涂布裝置還包括編碼器，所述編碼器安裝于所述編碼輥的一端，用于檢測所述編碼輥的轉(zhuǎn)動角度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單面涂布裝置，其特征在于，所述支撐機構(gòu)包括張力檢測輥，所述張力檢測輥安裝于所述機架，用于支撐基材；所述單面涂布裝置還包括張力檢測機構(gòu)，所述張力檢測機構(gòu)包括壓力傳感器，所述壓力傳感器與所述張力檢測輥的一端連接，所述壓力傳感器用于檢測由所述張力檢測輥支撐的基材的張力。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的單面涂布裝置，其特征在于，所述支撐機構(gòu)還包括張緊輥，所述張緊輥與所述機架位置可調(diào)地連接，所述張緊輥用于支撐基材，沿所述張緊輥的徑向調(diào)節(jié)所述張緊輥相對所述機架的位置時能夠調(diào)節(jié)基材的張力。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項所述的單面涂布裝置，其特征在于，所述單面涂布裝置還包括接帶機構(gòu)，所述接帶機構(gòu)用于連接斷成兩段的基材，所述接帶機構(gòu)包括壓緊組件，所述壓緊組件用于壓住斷開的基材。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的單面涂布裝置，其特征在于，所述壓緊組件包括支撐架、氣缸及壓緊件，所述支撐架與所述機架連接，所述氣缸安裝于所述支撐架，所述壓緊件與所述氣缸連接，所述壓緊件用于在所述氣缸的驅(qū)動下移動并將位于所述壓緊件和所述支撐架之間的基材壓緊于所述支撐架。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種單面涂布裝置，其特征在于，包括機架及設(shè)置于所述機架的支撐機構(gòu)、驅(qū)動機構(gòu)、涂布模頭、第一相機、第二相機及烘箱，所述支撐機構(gòu)用于支撐基材；所述驅(qū)動機構(gòu)用于驅(qū)動基材移動；所述涂布模頭和所述第一相機位于基材的移動路徑的第一側(cè)，且沿基材的移動方向，所述第一相機位于所述涂布模頭的下游，所述涂布模頭用于對基材的與所述涂布模頭相對的表面進(jìn)行涂布，所述第一相機用于采集基材的與所述涂布模頭相對的表面的圖像；所述第二相機位于基材的所述移動路徑的第二側(cè)，所述第二相機用于采集基材的與所述涂布模頭相背的表面的圖像；所述烘箱用于對已涂布的基材進(jìn)行烘干。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單面涂布裝置，其特征在于，所述第二相機、所述涂布模頭、所述第一相機及所述烘箱沿基材的所述移動路徑依次設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單面涂布裝置，其特征在于，所述支撐機構(gòu)包括均安裝于所述機架的第一支撐件和第二支撐件，所述第一支撐件與所述第一相機相對且間隔設(shè)置，所述第一支撐件用于支撐基材；所述第二支撐件與所述第二相機相對且間隔設(shè)置，所述第二支撐件用于支撐基材。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的單面涂布裝置，其特征在于，所述第一支撐件包括第一支撐輥和兩個第一軸承，所述第二支撐件包括第二支撐輥和兩個第二軸承，兩個所述第一軸承的內(nèi)圈分別與所述第一支撐輥的兩端固定套接，兩個所述第一軸承的外圈均與所述機架固定連接，兩個所述第二軸承的內(nèi)圈分別與所述第二支撐輥的兩端固定套接，兩個所述第二軸承的外圈均與所述機架固定連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單面涂布裝置，其特征在于，所述支撐機構(gòu)包括涂布輥組件，所述涂布輥組件包括涂布輥，所述涂布輥可轉(zhuǎn)動...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：焦朋，王文超，王春濤，劉丙慶，陶鵬，
申請(專利權(quán))人：威海新北洋正棋機器人股份有限公司，
類型：新型
國別省市：
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