【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及冶金設備，更為具體地，涉及一種真空感應爐電源配置方法及加熱方法。
技術介紹
1、工業應用一般需要大功率真空電源，目前真空感應電源最大約12500kw，但是，其電壓不宜超過950-1250v，電壓再大會發生輝光放電，使設備無法正常工作，同時功率加大會導致電流迅速增大而超過感應銅管的極限，并且，當真空電壓高于950伏時發生真空電暈或極間起火現象，由此極大地限制了真空電源的大型化。
2、目前，在真空感應爐的實際應用中，對于需要單爐功率更大的情況，現有技術中的可控硅或igbt電源無法滿足大功率要求。
3、需要說明的是：在上述
技術介紹
部分公開的信息僅用于加強對本專利技術的背景的理解，因此可以包括不構成對本領域普通技術人員已知的現有技術的信息。
技術實現思路
1、鑒于上述問題，本專利技術的目的是提供一種真空感應爐電源配置方法及加熱方法，以解決現有技術中，在真空感應爐的實際應用中，對于需要單爐功率更大的情況，現有的可控硅或igbt電源無法滿足大功率要求的問題。
2、本專利技術提供一種真空感應爐電源配置方法，包括如下步驟：
3、在真空感應爐的坩堝外側壁上，沿豎直方向排列套設至少兩個獨立電加熱機構；
4、將排列設置在所述坩堝外側壁上的每個獨立電加熱機構的電源接頭引出至所述真空感應爐的真空空間外部，并在所述真空感應爐的外部，對應于每個所述獨立電加熱機構均設置相應的控制電源柜；
5、將每個所述獨立電加熱機構的電源接頭與
6、此外，優選的方案是，所述在真空感應爐的坩堝外側壁上，沿豎直方向排列套設至少兩個獨立電加熱機構，包括：
7、根據所述坩堝的加熱位置面積和預設真空電壓限值，設計所述獨立電加熱機構在所述坩堝外側壁上的布設方案；其中，所述布設方案包括所述獨立電加熱機構的數量和每個獨立電加熱機構在所述坩堝外側壁上的位置；
8、根據所述布設方案，由上至下依次將所述獨立電加熱機構排列設置在所述坩堝外側壁上。
9、此外，優選的方案是，所述獨立電加熱機構包括一個單體igbt或至少兩個并聯的單體igbt或至少兩個串聯的單體igbt。
10、此外，優選的方案是，所述獨立電加熱機構包括一個可控硅真空電源感應線圈或至少兩個并聯的可控硅真空電源感應線圈或至少兩個串聯的可控硅真空電源感應線圈。
11、此外，優選的方案是，在所述可控硅真空電源感應線圈的外部設置有磁軛。
12、此外，優選的方案是，當所述獨立電加熱機構包括至少兩個并聯的可控硅真空電源感應線圈或至少兩個串聯的可控硅真空電源感應線圈時，每個所述可控硅真空電源感應線圈到相應的控制電源柜的輸出阻抗相同。
13、此外，優選的方案是，所述將排列設置在所述坩堝外側壁上的每個獨立電加熱機構的電源接頭引出至所述真空感應爐的真空空間外部，包括：
14、將所述每個獨立電加熱機構的接頭作為電源接頭由所述真空感應爐的真空密封法蘭板引出至所述真空感應爐的真空空間外部。
15、此外，優選的方案是，所述將排列設置在所述坩堝外側壁上的每個獨立電加熱機構的電源接頭引出至所述真空感應爐的真空空間外部，包括：
16、將所述每個獨立電加熱機構的接頭與水冷電纜的一端連接，并將所述水冷電纜的另一端作為電源接頭；
17、將所述電源接頭由所述真空感應爐的真空密封法蘭板引出至所述真空感應爐的真空空間外部。
18、此外，優選的方案是，在所述對應于每個所述獨立電加熱機構均設置相應的控制電源柜的過程中，
19、每個所述獨立電加熱機構對應一個相應的控制電源柜；
20、所述控制電源柜包括柜體和設置在所述柜體內部的變壓器、整流器、以及逆變器；其中，所述變壓器與輸電線連接，所述整流器與所述變壓器連接，在所述整流器與所述變壓器之間設置有開關，所述逆變器與所述整流器連接，在所述逆變器的輸出側連接有出線端。
21、本專利技術提供一種真空感應爐的加熱方法，采用如上所述的真空感應爐電源配置方法對真空感應爐的加熱位置進行加熱電源配置，并基于預設加熱工藝要求，通過所述控制電源柜對相應的獨立電加熱機構進行獨立控制，直至完成所述真空感應爐的加熱工藝。
22、從上面的技術方案可知，本專利技術提供的真空感應爐電源配置方法及加熱方法，通過在真空感應爐的坩堝外側壁上，沿豎直方向排列套設至少兩個獨立電加熱機構，并在真空感應爐的外部，對應于每個獨立電加熱機構均設置相應的獨立的控制電源柜，獨立電加熱機構的電源接頭與相應的控制電源柜的出線端連接，從而共同組成一個總電源，可滿足真空感應爐大功率電源的需求，有效解決了現有技術中，因電源電壓過高而發生真空電暈放電的問題；能夠滿足感應線圈銅管的電流限流的技術要求；并且在安裝和拆除時可分別從真空感應爐中吊出獨立電加熱機構，便于安裝、拆卸和檢修；還可根據加熱工藝要求，通過控制電源柜對相應的獨立電加熱機構進行獨立控制，從而優化加熱工藝。
23、為了實現上述以及相關目的，本專利技術的一個或多個方面包括后面將詳細說明的特征。下面的說明以及附圖詳細說明了本專利技術的某些示例性方面。然而，這些方面指示的僅僅是可使用本專利技術的原理的各種方式中的一些方式。此外，本專利技術旨在包括所有這些方面以及它們的等同物。
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1.一種真空感應爐電源配置方法，其特征在于，包括如下步驟：
2.根據權利要求1所述的真空感應爐電源配置方法，其特征在于，所述在真空感應爐的坩堝外側壁上，沿豎直方向排列套設至少兩個獨立電加熱機構，包括：
3.根據權利要求1所述的真空感應爐電源配置方法，其特征在于，所述獨立電加熱機構包括一個單體IGBT或至少兩個并聯的單體IGBT或至少兩個串聯的單體IGBT。
4.根據權利要求1所述的真空感應爐電源配置方法，其特征在于，所述獨立電加熱機構包括一個可控硅真空電源感應線圈或至少兩個并聯的可控硅真空電源感應線圈或至少兩個串聯的可控硅真空電源感應線圈。
5.根據權利要求4所述的真空感應爐電源配置方法，其特征在于，在所述可控硅真空電源感應線圈的外部設置有磁軛。
6.根據權利要求4所述的真空感應爐電源配置方法，其特征在于，
7.根據權利要求1所述的真空感應爐電源配置方法，其特征在于，所述將排列設置在所述坩堝外側壁上的每個獨立電加熱機構的電源接頭引出至所述真空感應爐的真空空間外部，包括：
8.根據權利要求1所述的真
9.根據權利要求1所述的真空感應爐電源配置方法，其特征在于，在所述對應于每個所述獨立電加熱機構均設置相應的控制電源柜的過程中，
10.一種真空感應爐的加熱方法，其特征在于，采用如權利要求1-9任意一項所述的真空感應爐電源配置方法對真空感應爐的加熱位置進行加熱電源配置，并基于預設加熱工藝要求，通過所述控制電源柜對相應的獨立電加熱機構進行獨立控制，直至完成所述真空感應爐的加熱工藝。
...【技術特征摘要】
1.一種真空感應爐電源配置方法，其特征在于，包括如下步驟：
2.根據權利要求1所述的真空感應爐電源配置方法，其特征在于，所述在真空感應爐的坩堝外側壁上，沿豎直方向排列套設至少兩個獨立電加熱機構，包括：
3.根據權利要求1所述的真空感應爐電源配置方法，其特征在于，所述獨立電加熱機構包括一個單體igbt或至少兩個并聯的單體igbt或至少兩個串聯的單體igbt。
4.根據權利要求1所述的真空感應爐電源配置方法，其特征在于，所述獨立電加熱機構包括一個可控硅真空電源感應線圈或至少兩個并聯的可控硅真空電源感應線圈或至少兩個串聯的可控硅真空電源感應線圈。
5.根據權利要求4所述的真空感應爐電源配置方法，其特征在于，在所述可控硅真空電源感應線圈的外部設置有磁軛。
6.根據權利要求4所述的真空感應爐電源配置方法，其特征...
【專利技術屬性】
技術研發人員：梁文玉，吳迪，李美霞，李鳳善，馬藝璇，張福君，趙偉潔，
申請(專利權)人：北京中冶設備研究設計總院有限公司，
類型：發明
國別省市：
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