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    原子層沉積設(shè)備制造技術(shù)

    技術(shù)編號:44394121 閱讀:4 留言:0更新日期:2025-02-25 10:08
    本技術(shù)涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,提供一種原子層沉積設(shè)備,包括依次連接的凈化臺總成、爐體柜總成和氣源柜總成;爐體柜總成包括爐架以及設(shè)于爐架的至少兩列爐體組件,每列爐體組件沿爐架的高度方向間隔設(shè)有至少四個爐體部件;凈化臺總成包括支撐架以及設(shè)于支撐架的推舟機(jī)構(gòu)和供料機(jī)構(gòu),推舟機(jī)構(gòu)與支撐架連接,推舟機(jī)構(gòu)的數(shù)量和位置均與爐體的部件的數(shù)量和位置一一對應(yīng)地設(shè)置,供料機(jī)構(gòu)設(shè)于推舟機(jī)構(gòu)的一側(cè),用于為推舟機(jī)構(gòu)供料;氣源柜總成用于為爐體部件供氣,以及用于將爐體部件的氣體排出。本技術(shù)能夠使原子層沉積設(shè)備通過供料機(jī)構(gòu)和推舟機(jī)構(gòu)自動為爐體部件進(jìn)行上料,可以有效提升上料節(jié)湊,提高單臺設(shè)備的產(chǎn)能。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本技術(shù)涉及半導(dǎo)體,尤其涉及一種原子層沉積設(shè)備


    技術(shù)介紹

    1、原子層沉積(atomic?layer?deposition,ald)是將兩種(或多種)反應(yīng)氣體交替通入反應(yīng)腔并在半導(dǎo)體基底上發(fā)生表面飽和反應(yīng),進(jìn)行自限制薄膜沉積生長的技術(shù)。原子層沉積因膜層均勻性好、膜層厚度可控等方面的優(yōu)勢被廣泛應(yīng)用于電池片封裝等諸多領(lǐng)域。

    2、相關(guān)技術(shù)中,原子層沉積設(shè)備的結(jié)構(gòu)設(shè)置無法匹配邊緣鈍化工序的產(chǎn)能節(jié)奏,生產(chǎn)效率較低。


    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    1、本技術(shù)提供一種原子層沉積設(shè)備,用以解決現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷,能夠使原子層沉積設(shè)備通過供料機(jī)構(gòu)和推舟機(jī)構(gòu)自動為爐體部件進(jìn)行上料,可以有效提升上料節(jié)湊,提高單臺設(shè)備的產(chǎn)能。

    2、本技術(shù)提供一種原子層沉積設(shè)備,包括依次連接的凈化臺總成、爐體柜總成和氣源柜總成。

    3、所述爐體柜總成包括爐架以及設(shè)于所述爐架的至少兩列爐體組件,每列所述爐體組件沿所述爐架的高度方向間隔設(shè)有至少四個爐體部件。

    4、所述凈化臺總成包括支撐架以及設(shè)于所述支撐架的推舟機(jī)構(gòu)和供料機(jī)構(gòu),所述推舟機(jī)構(gòu)與所述支撐架連接,所述推舟機(jī)構(gòu)的數(shù)量和位置均與所述爐體的部件的數(shù)量和位置一一對應(yīng)地設(shè)置,所述供料機(jī)構(gòu)設(shè)于所述推舟機(jī)構(gòu)的一側(cè),用于為所述推舟機(jī)構(gòu)供料。

    5、所述氣源柜總成用于為所述爐體部件供氣,以及用于將所述爐體部件的氣體排出。

    6、根據(jù)本技術(shù)提供的原子層沉積設(shè)備,所述推舟機(jī)構(gòu)包括滑臺組件、爐門結(jié)構(gòu)和托盤組件;

    7、所述滑臺組件固定設(shè)于所述支撐架,所述托盤組件與所述爐門結(jié)構(gòu)連接,所述爐門結(jié)構(gòu)設(shè)于所述滑臺組件,所述滑臺組件運(yùn)動以帶動所述爐門結(jié)構(gòu)和所述托盤組件同步運(yùn)動。

    8、根據(jù)本技術(shù)提供的原子層沉積設(shè)備,所述爐門結(jié)構(gòu)包括外爐門、內(nèi)爐門、連接部件和爐門驅(qū)動機(jī)構(gòu);

    9、所述連接部件包括導(dǎo)向軸、過渡法蘭和彈性組件,所述過渡法蘭位于所述內(nèi)爐門和所述外爐門之間,所述導(dǎo)向軸與所述過渡法蘭固定連接,所述導(dǎo)向軸與所述內(nèi)爐門滑動配合,所述彈性組件分別與所述過渡法蘭和所述內(nèi)爐門連接,所述爐門驅(qū)動機(jī)構(gòu)適于驅(qū)動所述內(nèi)爐門進(jìn)行直線往復(fù)運(yùn)動。

    10、根據(jù)本技術(shù)提供的原子層沉積設(shè)備,所述滑臺組件包括驅(qū)動件、傳動件和導(dǎo)向件;所述爐門結(jié)構(gòu)設(shè)于所述傳動件,并與所述導(dǎo)向件連接,所述驅(qū)動件用于驅(qū)動所述傳動件運(yùn)動,以帶動所述爐門結(jié)構(gòu)沿所述導(dǎo)向件進(jìn)行直線往復(fù)運(yùn)動。

    11、根據(jù)本技術(shù)提供的原子層沉積設(shè)備,所述推舟機(jī)構(gòu)還包括支撐結(jié)構(gòu),所述支撐結(jié)構(gòu)設(shè)于所述支撐架遠(yuǎn)離所述滑臺組件的驅(qū)動件的一側(cè),所述托盤組件與所述支撐結(jié)構(gòu)滾動配合。

    12、根據(jù)本技術(shù)提供的原子層沉積設(shè)備,所述支撐結(jié)構(gòu)包括支撐桿和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件;所述支撐桿的一端設(shè)有與所述托盤組件滾動配合的滾動件,所述支撐桿的另一端與所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件的輸出端連接,所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件適于驅(qū)動所述支撐桿轉(zhuǎn)動以避讓所述爐門結(jié)構(gòu)。

    13、根據(jù)本技術(shù)提供的原子層沉積設(shè)備,所述供料機(jī)構(gòu)包括:

    14、第一驅(qū)動組件,固定于所述支撐架,所述第一驅(qū)動組件適于沿第一方向進(jìn)行直線往復(fù)運(yùn)動;第二驅(qū)動組件,與所述第一驅(qū)動組件相連,適于沿第二方向進(jìn)行直線往復(fù)運(yùn)動,所述第二方向與所述第一方向相互垂直;

    15、機(jī)械手,設(shè)于所述第二驅(qū)動組件,適于在所述第二驅(qū)動組件的作用下沿第二方向進(jìn)行直線往復(fù)運(yùn)動,并適于隨所述第二驅(qū)動組件沿第一方向進(jìn)行直線往復(fù)運(yùn)動以進(jìn)行物料供給。

    16、根據(jù)本技術(shù)提供的原子層沉積設(shè)備,所述第一驅(qū)動組件相對設(shè)置有兩組,第二驅(qū)動組件的數(shù)量與所述第一驅(qū)動組件的數(shù)量相對應(yīng);

    17、其中,所述第一驅(qū)動組件和/或所述第二驅(qū)動組件之間設(shè)有連接軸,所述連接軸適于帶動相對設(shè)置的兩個第一驅(qū)動組件或兩個第二驅(qū)動組件同步運(yùn)動。

    18、根據(jù)本技術(shù)提供的原子層沉積設(shè)備,所述爐體部件包括外爐體和內(nèi)爐體,所述內(nèi)爐體嵌套設(shè)于所述外爐體的內(nèi)部,所述內(nèi)爐體的內(nèi)部構(gòu)造有爐腔;

    19、其中,所述外爐體的長度小于等于2379mm,所述外爐體的管徑小于等于620mm。

    20、根據(jù)本技術(shù)提供的原子層沉積設(shè)備,所述氣源柜總成包括供氣柜、真空尾排組件和電氣柜,所述供氣柜用于為所述爐體部件供給所需要的氣體,所述真空尾排組件用于將所述爐體部件的氣體排出,所述電氣柜分別與供氣柜和真空尾排組件連接,用于控制所述供氣柜和所述真空尾排組件進(jìn)行相應(yīng)的工作。

    21、本技術(shù)提供的原子層沉積設(shè)備,通過在爐架上設(shè)置至少兩列爐體組件,每列爐體組件沿爐架的高度方向間隔設(shè)有至少四個爐體部件,并在爐體部件的前端設(shè)置包括推舟機(jī)構(gòu)和供料機(jī)構(gòu)的凈化臺總成,推舟機(jī)構(gòu)連接在凈化臺總成的支撐架,推舟機(jī)構(gòu)的數(shù)量和位置均與爐體的部件的數(shù)量和位置一一對應(yīng)地設(shè)置,供料機(jī)構(gòu)設(shè)于推舟機(jī)構(gòu)的一側(cè),用于為推舟機(jī)構(gòu)供料。這樣設(shè)置,能夠使原子層沉積設(shè)備通過供料機(jī)構(gòu)和推舟機(jī)構(gòu)自動為爐體部件進(jìn)行上料,可以有效提升上料節(jié)湊,提高單臺設(shè)備的產(chǎn)能。

    22、并且,本技術(shù)實(shí)施例提供的原子層沉積設(shè)備,按照單臺設(shè)備實(shí)現(xiàn)1gw的產(chǎn)能要求,匹配出至少兩列爐體組件,每列爐體組件沿爐架的高度方向間隔設(shè)有至少四個爐體部件,通過增加爐體部件的數(shù)量,以及布置爐體部件的排列方式,可以實(shí)現(xiàn)產(chǎn)能增加,生產(chǎn)效率提高的目的。

    本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    1.一種原子層沉積設(shè)備,其特征在于,包括依次連接的凈化臺總成、爐體柜總成和氣源柜總成;

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的原子層沉積設(shè)備,其特征在于,所述推舟機(jī)構(gòu)包括滑臺組件、爐門結(jié)構(gòu)和托盤組件;

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的原子層沉積設(shè)備,其特征在于,所述爐門結(jié)構(gòu)包括外爐門、內(nèi)爐門、連接部件和爐門驅(qū)動機(jī)構(gòu);

    4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的原子層沉積設(shè)備,其特征在于,所述滑臺組件包括驅(qū)動件、傳動件和導(dǎo)向件;所述爐門結(jié)構(gòu)設(shè)于所述傳動件,并與所述導(dǎo)向件連接,所述驅(qū)動件用于驅(qū)動所述傳動件運(yùn)動,以帶動所述爐門結(jié)構(gòu)沿所述導(dǎo)向件進(jìn)行直線往復(fù)運(yùn)動。

    5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的原子層沉積設(shè)備,其特征在于,所述推舟機(jī)構(gòu)還包括支撐結(jié)構(gòu),所述支撐結(jié)構(gòu)設(shè)于所述支撐架遠(yuǎn)離所述滑臺組件的驅(qū)動件的一側(cè),所述托盤組件與所述支撐結(jié)構(gòu)滾動配合。

    6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的原子層沉積設(shè)備,其特征在于,所述支撐結(jié)構(gòu)包括支撐桿和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件;所述支撐桿的一端設(shè)有與所述托盤組件滾動配合的滾動件,所述支撐桿的另一端與所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件的輸出端連接,所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件適于驅(qū)動所述支撐桿轉(zhuǎn)動以避讓所述爐門結(jié)構(gòu)。

    7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的原子層沉積設(shè)備,其特征在于,所述供料機(jī)構(gòu)包括:第一驅(qū)動組件,固定于所述支撐架,所述第一驅(qū)動組件適于沿第一方向進(jìn)行直線往復(fù)運(yùn)動;第二驅(qū)動組件,與所述第一驅(qū)動組件相連,適于沿第二方向進(jìn)行直線往復(fù)運(yùn)動,所述第二方向與所述第一方向相互垂直;

    8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的原子層沉積設(shè)備,其特征在于,所述第一驅(qū)動組件相對設(shè)置有兩組,第二驅(qū)動組件的數(shù)量與所述第一驅(qū)動組件的數(shù)量相對應(yīng);

    9.根據(jù)權(quán)利要求1至8任一項所述的原子層沉積設(shè)備,其特征在于,所述爐體部件包括外爐體和內(nèi)爐體,所述內(nèi)爐體嵌套設(shè)于所述外爐體的內(nèi)部,所述內(nèi)爐體的內(nèi)部構(gòu)造有爐腔;

    10.根據(jù)權(quán)利要求1至8任一項所述的原子層沉積設(shè)備,其特征在于,所述氣源柜總成包括供氣柜、真空尾排組件和電氣柜,所述供氣柜用于為所述爐體部件供給所需要的氣體,所述真空尾排組件用于將所述爐體部件的氣體排出,所述電氣柜分別與供氣柜和真空尾排組件連接,用于控制所述供氣柜和所述真空尾排組件進(jìn)行相應(yīng)的工作。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種原子層沉積設(shè)備,其特征在于,包括依次連接的凈化臺總成、爐體柜總成和氣源柜總成;

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的原子層沉積設(shè)備,其特征在于,所述推舟機(jī)構(gòu)包括滑臺組件、爐門結(jié)構(gòu)和托盤組件;

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的原子層沉積設(shè)備,其特征在于,所述爐門結(jié)構(gòu)包括外爐門、內(nèi)爐門、連接部件和爐門驅(qū)動機(jī)構(gòu);

    4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的原子層沉積設(shè)備,其特征在于,所述滑臺組件包括驅(qū)動件、傳動件和導(dǎo)向件;所述爐門結(jié)構(gòu)設(shè)于所述傳動件,并與所述導(dǎo)向件連接,所述驅(qū)動件用于驅(qū)動所述傳動件運(yùn)動,以帶動所述爐門結(jié)構(gòu)沿所述導(dǎo)向件進(jìn)行直線往復(fù)運(yùn)動。

    5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的原子層沉積設(shè)備,其特征在于,所述推舟機(jī)構(gòu)還包括支撐結(jié)構(gòu),所述支撐結(jié)構(gòu)設(shè)于所述支撐架遠(yuǎn)離所述滑臺組件的驅(qū)動件的一側(cè),所述托盤組件與所述支撐結(jié)構(gòu)滾動配合。

    6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的原子層沉積設(shè)備,其特征在于,所述支撐結(jié)構(gòu)包括支撐桿和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件;所述支撐桿的一端設(shè)有與所述托盤組件滾動配合的滾動件,所述支撐桿的另一端與所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件的輸出端連接,所述旋...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:鄭磊
    申請(專利權(quán))人:株洲三一硅能技術(shù)有限公司
    類型:新型
    國別省市:

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