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    測試和/或測量系統(tǒng)以及用于校準(zhǔn)測試和/或測量系統(tǒng)的方法技術(shù)方案

    技術(shù)編號:44397323 閱讀:3 留言:0更新日期:2025-02-25 10:10
    本發(fā)明專利技術(shù)涉及測試和/或測量系統(tǒng)和用于校準(zhǔn)測試和/或測量系統(tǒng)的方法。該系統(tǒng)包括:RF信號源,其生成RF激勵信號;設(shè)備端口;信號路徑,其將RF信號源電連接到設(shè)備端口;測量單元,其耦合到信號路徑,其中測量單元適用于測量經(jīng)由信號路徑傳送到設(shè)備端口的RF激勵信號以及在設(shè)備端口處接收到的測量信號;以及至少一個偏置器,其耦合到信號路徑,其中偏置器包括接收DC偏置信號的DC輸入端口,其中偏置器將接收到的DC偏置信號耦合到信號路徑中。該系統(tǒng)可在校準(zhǔn)模式下操作,在校準(zhǔn)模式期間,至少四個不同的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)交替地連接到設(shè)備端口。該系統(tǒng)被配置成,在校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)中的至少一者但不是全部校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)的連接期間,將DC偏置信號經(jīng)由偏置器耦合到信號路徑中。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及測試和/或測量系統(tǒng),例如矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀(vna),并且涉及用于校準(zhǔn)測試和/或測量系統(tǒng)的方法。


    技術(shù)介紹

    1、矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀(vna)是用于測量射頻(rf)被測設(shè)備(dut)的rf性能的設(shè)備。vna可以用于表征dut的散射參數(shù)(s-參數(shù))。

    2、vna設(shè)置的定期校準(zhǔn)對于實現(xiàn)精確且可重復(fù)的vna測量是至關(guān)重要的。為了校準(zhǔn)vna,通常執(zhí)行校準(zhǔn)例程,在此期間,不同的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)連接到vna。

    3、當(dāng)利用vna表征某些dut(例如,放大器)時,將dc電壓施加到dut(所謂的偏置)。然而,在校準(zhǔn)期間通常不施加這種dc電壓,因為大部分校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)不能中止很大的耗散功率。因此,在校準(zhǔn)期間沒有考慮源于dc信號的不期望的效應(yīng),例如寄生效應(yīng),于是這些不期望的效應(yīng)在測量期間沒有通過經(jīng)校準(zhǔn)的vna補償。這可能導(dǎo)致測量誤差。


    技術(shù)實現(xiàn)思路

    1、因此,目的是提供一種改進的測試和/或測量系統(tǒng)以及一種改進的用于校準(zhǔn)測試和/或測量系統(tǒng)的方法,該系統(tǒng)和該方法避免了上述缺點。

    2、本專利技術(shù)的該目的通過本專利技術(shù)提供的技術(shù)方案來實現(xiàn)。本專利技術(shù)進一步限定了有利實現(xiàn)方式。

    3、根據(jù)第一方面,本專利技術(shù)涉及一種測試和/或測量系統(tǒng)、特別是矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀(vna)。所述測試和/或測量系統(tǒng)包括:rf信號源,所述rf信號源被配置成生成rf激勵信號;設(shè)備端口;信號路徑,所述信號路徑被布置成將所述rf信號源電連接到所述設(shè)備端口;以及測量單元,所述測量單元耦合到所述信號路徑,其中,所述測量單元適用于測量經(jīng)由所述信號路徑傳送到所述設(shè)備端口的所述rf激勵信號以及在所述設(shè)備端口處接收到的測量信號,其中,所述測量單元被配置成生成表示各個測量結(jié)果的測量值。所述測試和/或測量系統(tǒng)還包括:處理單元,所述處理單元被配置成接收所述測量值;以及至少一個偏置器,所述偏置器耦合到所述信號路徑;其中,所述偏置器包括被配置成接收dc偏置信號的dc輸入端口,其中,所述偏置器被布置成將接收到的所述dc偏置信號耦合到所述信號路徑中。所述測試和/或測量系統(tǒng)可在校準(zhǔn)模式下操作,在所述校準(zhǔn)模式期間,至少四個不同的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)交替地連接到所述設(shè)備端口;其中,針對每一個連接的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn),所述測量單元被配置成測量所述rf激勵信號以及所述測量信號;以及其中,所述測試和/或測量系統(tǒng)被配置成,在所述校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)中的至少一者的連接期間,但不在全部所述校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)的連接期間,將所述dc偏置信號耦合到所述信號路徑中。

    4、這實現(xiàn)了在系統(tǒng)校準(zhǔn)期間考慮dc信號的影響的優(yōu)勢。以此方式,能夠改進利用經(jīng)校準(zhǔn)的系統(tǒng)對(主動)dut的測量并且能夠降低測量不確定度。

    5、測量單元可以被配置成彼此獨立地測量rf激勵信號和測量信號。例如,測量單元由此可以測量rf激勵信號和測量信號的幅度和/或相位。

    6、設(shè)備端口可以是測試和/或測量系統(tǒng)的測試端口和/或rf端口。例如,設(shè)備端口是同軸端口。設(shè)備端口可適用于連接待測量或待表征的dut。

    7、dc偏置信號可以是電壓和/或電流信號。

    8、射頻(rf)激勵信號可以是射頻或微波范圍內(nèi)的ac和/或cw信號。

    9、測量信號可以是rf信號或包括rf信號分量的信號。例如,測量信號可以是被dc電壓和/或電流信號(例如,被dc偏置信號或其一部分)疊加的rf信號。

    10、處理單元可以被配置成從測量單元接收數(shù)字形式的測量值。由此,處理單元和測量單元可以經(jīng)由通信連接進行鏈接。

    11、處理單元可以是微處理器、fpga或asic。

    12、特別地,由測量單元生成的測量值表示或包含對rf激勵信號和測量信號的測量的結(jié)果。

    13、例如,利用每一個連接的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)對rf激勵信號和測量信號的測量是校準(zhǔn)測量。

    14、在一實施方式中,在所述校準(zhǔn)模式下,所述處理單元被配置成基于針對每一個連接的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)接收的所述測量值來計算用于所述測試和/或測量系統(tǒng)的誤差項。

    15、特別地,處理單元可以被配置成基于利用連接到設(shè)備端口的至少四個不同的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)對rf激勵信號和測量信號的測量來計算誤差項。

    16、在一實施方式中,所述rf信號源被配置成在預(yù)定頻率范圍和/或預(yù)定功率范圍上對所述rf激勵信號進行掃頻;其中,所述處理單元被配置成針對相應(yīng)的范圍內(nèi)的多個頻率和/或功率電平,接收針對所述校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)中的至少一者、優(yōu)選全部校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)的所述測量值。

    17、例如,測試和/或測量系統(tǒng)被配置成對于rf激勵信號的多個頻率和/或功率電平,針對校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)中的至少一者、優(yōu)選全部校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn),對rf激勵信號和測量信號執(zhí)行測量。

    18、在一實施方式中,所述測試和/或測量系統(tǒng)被配置成改變所述dc偏置信號的電平;其中,所述處理單元被配置成針對多個dc偏置信號電平,接收針對所述校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)中的至少一者的所述測量值。

    19、由此,dc偏置信號的電平可以對應(yīng)于dc偏置信號的信號或功率電平(例如,電壓和/或電流電平)。例如,測試和/或測量系統(tǒng)被配置成利用連接到設(shè)備端口的至少一個校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)對rf激勵信號和測量信號執(zhí)行測量,同時具有至少兩個不同的(功率)電平的dc偏置信號交替地耦合到信號路徑中。

    20、針對利用所施加的dc偏置電壓測量的每一個連接的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn),處理單元可以被配置成(從測量單元)接收針對dc偏置信號的不同電平的多個測量值。

    21、在一實施方式中,所述處理單元被配置成針對第一電平的dc偏置信號計算第一組誤差項,以及針對至少一個不同于所述第一電平的第二電平的dc偏置信號計算至少第二組誤差項。

    22、在一實施方式中,被測設(shè)備(dut)可連接到所述設(shè)備端口;其中,所述測試和/或測量系統(tǒng)可在測量模式下操作,在所述測量模式期間,所述測試和/或測量系統(tǒng)被配置成計算所述dut的散射參數(shù)(s-參數(shù)),其中,所述散射參數(shù)由一組誤差項進行校正,該組誤差項基于施加到所述dut的dc信號的電平進行選擇。

    23、測試和/或測量系統(tǒng)可以被配置成在測量模式期間(例如,當(dāng)進行測量模式時)將dc信號施加到dut。

    24、測量模式可以是測試和/或測量系統(tǒng)的“正常操作模式”。

    25、所選擇的一組誤差項可以是在校準(zhǔn)模式期間計算的該組誤差項中的一個。由此,如果在施加其信號電平偏離施加到dut的dc信號的信號電平小于閾值的dc偏置信號時計算一組誤差項,則可以選擇該組誤差項。

    26、在一實施方式中,所述偏置器布置在所述rf信號源與所述測量單元之間,或者,所述偏置器布置在所述測量單元與所述設(shè)備端口之間。

    27、在一實施方式中,所述測試和/或測量系統(tǒng)包括dc信號生成器,所述dc信號生成器被配置成生成具有確定的電壓和/或電流電平的所述dc偏置信號;其中,所述dc信號生成器布置在所述測試和/或測量系統(tǒng)的殼體內(nèi)并且連接到所述偏置器的dc輸入端口。

    28、在一實施方式中,所述偏置器的dc輸入端口可連接到布置在所述測試和/或測量系統(tǒng)的殼體外部的外部dc信號生成本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護點】

    1.一種測試和/或測量系統(tǒng)(10)、特別是矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀,所述測試和/或測量系統(tǒng)(10)包括:

    2.如權(quán)利要求1所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    3.如權(quán)利要求1或2所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    4.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    5.如權(quán)利要求2和4所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    6.如權(quán)利要求5所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    7.如權(quán)利要求1至6中任一項所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    8.如權(quán)利要求1至7中任一項所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),還包括:

    9.如權(quán)利要求1至7中任一項所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    10.如權(quán)利要求1至9中任一項所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),其中,所述測量單元(15)包括:

    11.如權(quán)利要求10所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    12.如權(quán)利要求10或11所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    13.如權(quán)利要求10至12中任一項所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),還包括:

    14.如權(quán)利要求13所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    15.如權(quán)利要求1至14中任一項所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    16.如權(quán)利要求1至15中任一項所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),還包括:

    17.如權(quán)利要求6和16所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    18.如權(quán)利要求16或17所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    19.如權(quán)利要求16至18中任一項所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),還包括:

    20.一種用于校準(zhǔn)測試和/或測量系統(tǒng)(10)的方法(30),所述測試和/或測量系統(tǒng)(10)特別是矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀,所述方法包括:

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種測試和/或測量系統(tǒng)(10)、特別是矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀,所述測試和/或測量系統(tǒng)(10)包括:

    2.如權(quán)利要求1所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    3.如權(quán)利要求1或2所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    4.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    5.如權(quán)利要求2和4所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    6.如權(quán)利要求5所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    7.如權(quán)利要求1至6中任一項所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    8.如權(quán)利要求1至7中任一項所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),還包括:

    9.如權(quán)利要求1至7中任一項所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),

    10.如權(quán)利要求1至9中任一項所述的測試和/或測量系統(tǒng)(10),其中,所述測量單元(15)包括:

    11.如權(quán)利要求1...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:J·哈姆斯,M·弗里辛格
    申請(專利權(quán))人:羅德施瓦茲兩合股份有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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