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    沉積模塊和包括沉積模塊的顯示設(shè)備制造裝置制造方法及圖紙

    技術(shù)編號(hào):44397384 閱讀:2 留言:0更新日期:2025-02-25 10:10
    本申請(qǐng)涉及顯示設(shè)備制造裝置和沉積模塊。顯示設(shè)備制造裝置包括:掩模組件;以及沉積模塊,配置為朝向掩模組件提供沉積材料。沉積模塊包括沉積框架、噴射部分、加熱器和緊密接觸部分。沉積框架具有內(nèi)部空間。噴射部分包括坩堝部分和噴嘴部分。加熱器加熱噴嘴部分,并且配置為能夠在第一狀態(tài)和第二狀態(tài)之間切換,第二狀態(tài)的熱值高于第一狀態(tài)的熱值。緊密接觸部分使坩堝部分和噴嘴部分彼此緊密接觸,并且緊密接觸部分包括在第一狀態(tài)中與噴射部分間隔開(kāi)并且配置為在第二狀態(tài)中按壓在噴射部分上的按壓表面。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式涉及一種裝置,并且更具體地,涉及一種沉積模塊和一種顯示設(shè)備制造裝置。


    技術(shù)介紹

    1、近來(lái),電子設(shè)備已被廣泛使用。電子設(shè)備以各種方式被使用,諸如移動(dòng)電子設(shè)備和固定電子設(shè)備。這類(lèi)電子設(shè)備包括向用戶(hù)提供諸如圖像或視頻的可視信息以支持各種功能的顯示設(shè)備。

    2、顯示設(shè)備配置為可視地顯示數(shù)據(jù),并且通過(guò)沉積諸如有機(jī)層和金屬層的各種層來(lái)制造。沉積材料可以被沉積以形成顯示設(shè)備的多個(gè)層。也就是說(shuō),沉積材料從沉積源噴射并且通過(guò)掩模組件沉積在襯底上。

    3、
    技術(shù)介紹
    是專(zhuān)利技術(shù)人所擁有的用于推導(dǎo)本公開(kāi)的技術(shù)信息或在推導(dǎo)本公開(kāi)期間獲得的技術(shù)信息,并且不一定是在提交本公開(kāi)之前公開(kāi)給公眾的已知技術(shù)。


    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    1、根據(jù)實(shí)施方式,沉積材料在沉積工藝期間不會(huì)通過(guò)坩堝部分和噴嘴部分之間的間隙泄漏,并且當(dāng)沉積工藝完成時(shí),坩堝部分容易與噴嘴部分分離。

    2、然而,這僅僅是示例,本公開(kāi)要解決的技術(shù)問(wèn)題不限于此。

    3、附加的方面將在隨后的描述中部分地闡述,并且將部分地從描述中顯而易見(jiàn),或者可以通過(guò)本公開(kāi)的所呈現(xiàn)的實(shí)施方式的實(shí)踐來(lái)習(xí)得。

    4、根據(jù)一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式,顯示設(shè)備制造裝置包括:掩模組件;以及沉積源,包括沉積模塊,沉積模塊配置為朝向掩模組件提供沉積材料。沉積模塊包括沉積框架、噴射部分、加熱器和緊密接觸部分。沉積框架具有內(nèi)部空間。噴射部分容納在內(nèi)部空間中并且包括坩堝部分和噴嘴部分,坩堝部分配置為提供用于存儲(chǔ)沉積材料的存儲(chǔ)空間,噴嘴部分連接到坩堝部分并且配置為噴射存儲(chǔ)在存儲(chǔ)空間中的沉積材料。加熱器容納在內(nèi)部空間中,以加熱噴嘴部分,并且配置為能夠在第一狀態(tài)和第二狀態(tài)之間切換,第二狀態(tài)的熱值高于第一狀態(tài)的熱值。緊密接觸部分容納在內(nèi)部空間中以使坩堝部分和噴嘴部分彼此緊密接觸,并且緊密接觸部分包括在第一狀態(tài)中與噴射部分間隔開(kāi)并且配置為在第二狀態(tài)中按壓在噴射部分上的按壓表面。

    5、在本實(shí)施方式中,坩堝部分和噴嘴部分中的至少一個(gè)可以具有比緊密接觸部分的熱膨脹系數(shù)高的熱膨脹系數(shù)。

    6、在本實(shí)施方式中,坩堝部分可以包括碳材料,并且噴嘴部分可以包括金屬材料。

    7、在本實(shí)施方式中,在第一狀態(tài)中,緊密接觸部分可以能夠從噴射部分拆卸。

    8、在本實(shí)施方式中,坩堝部分可以包括:第一坩堝部分,配置為存儲(chǔ)沉積材料并且具有在朝向噴嘴部分的第一方向上的縱向方向;以及第二坩堝部分,在與第一方向交叉的第二方向上從第一坩堝部分突出。噴嘴部分可以包括:第一噴嘴部分,與坩堝部分接觸;以及第二噴嘴部分,配置為排出沉積材料并且在第一方向上從第一噴嘴部分突出。緊密接觸部分可以配置為在第二狀態(tài)中按壓在第二坩堝部分和第一噴嘴部分上。

    9、在本實(shí)施方式中,第一容納槽可以設(shè)置在第二坩堝部分的下表面中,并且緊密接觸部分的第一端部分可以容納在第一容納槽中。

    10、在本實(shí)施方式中,緊密接觸部分可以進(jìn)一步配置為在第二狀態(tài)中按壓在第一噴嘴部分的上表面上。

    11、在本實(shí)施方式中,第二容納槽可以設(shè)置在第一噴嘴部分的上表面中,并且緊密接觸部分的第二端部分可以容納在第二容納槽中。

    12、在本實(shí)施方式中,第二容納槽可以設(shè)置在第一噴嘴部分的側(cè)表面中,并且緊密接觸部分的第二端部分可以設(shè)置在第二容納槽中,并且配置為在第二狀態(tài)中按壓在噴嘴部分上。

    13、在本實(shí)施方式中,顯示設(shè)備制造裝置還可以包括支承部分,支承部分配置為從沉積框架支承噴射部分,其中,緊密接觸部分可以固定到支承部分,并且按壓表面可以面向噴嘴部分的一個(gè)表面。

    14、在本實(shí)施方式中,緊密接觸部分可以包括:緊密接觸框架,固定到支承部分;以及多個(gè)按壓部分,從緊密接觸框架朝向噴嘴部分的一個(gè)表面突出。多個(gè)按壓部分包括多個(gè)按壓表面,并且多個(gè)按壓部分的多個(gè)按壓表面可以彼此間隔開(kāi)。

    15、在本實(shí)施方式中,配置為將多個(gè)按壓部分中的至少兩個(gè)按壓部分彼此分離的分離開(kāi)口可以布置在緊密接觸框架中。

    16、在本實(shí)施方式中,在第二狀態(tài)中,多個(gè)按壓部分中的至少兩個(gè)按壓部分可以具有不同的高度。

    17、在本實(shí)施方式中,分離開(kāi)口可以包括:第一分離開(kāi)口,具有縱向方向;以及第二分離開(kāi)口,連接到第一分離開(kāi)口的端部分并且具有圓形平面形狀。

    18、在本實(shí)施方式中,坩堝部分和緊密接觸部分可以包括相同的材料。

    19、根據(jù)一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式,沉積模塊包括沉積框架、噴射部分、加熱器和緊密接觸部分。沉積框架具有內(nèi)部空間。噴射部分容納在內(nèi)部空間中并且包括坩堝部分和噴嘴部分,坩堝部分具有用于存儲(chǔ)沉積材料的存儲(chǔ)空間,噴嘴部分連接到坩堝部分并且配置為噴射存儲(chǔ)在存儲(chǔ)空間中的沉積材料。加熱器容納在內(nèi)部空間中,以加熱噴嘴部分,并且配置為能夠在第一狀態(tài)和第二狀態(tài)之間切換,第二狀態(tài)的熱值高于第一狀態(tài)的熱值。緊密接觸部分容納在沉積框架的內(nèi)部空間中以使坩堝部分和噴嘴部分彼此緊密接觸。緊密接觸部分包括在第一狀態(tài)中與噴射部分間隔開(kāi)并且配置為在第二狀態(tài)中按壓在噴射部分上的按壓表面。

    20、在本實(shí)施方式中,坩堝部分和噴嘴部分中的至少一個(gè)可以具有比緊密接觸部分的熱膨脹系數(shù)高的熱膨脹系數(shù)。

    21、在本實(shí)施方式中,坩堝部分可以包括碳材料,并且噴嘴部分可以包括金屬材料。

    22、在本實(shí)施方式中,緊密接觸部分可以在第一狀態(tài)中能夠從噴射部分拆卸。

    23、在本實(shí)施方式中,緊密接觸部分可以設(shè)置成夾具的形式。

    本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    1.顯示設(shè)備制造裝置,包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,所述坩堝部分和所述噴嘴部分中的至少一個(gè)具有比所述緊密接觸部分的熱膨脹系數(shù)高的熱膨脹系數(shù)。

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,所述坩堝部分包括碳材料,并且所述噴嘴部分包括金屬材料。

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,在所述第一狀態(tài)中,所述緊密接觸部分能夠從所述噴射部分拆卸。

    5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,所述坩堝部分包括:

    6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,在所述第二坩堝部分的下表面中設(shè)置有第一容納槽,以及

    7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,所述緊密接觸部分進(jìn)一步配置為在所述第二狀態(tài)中按壓在所述第一噴嘴部分的上表面上。

    8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,在所述第一噴嘴部分的所述上表面中設(shè)置有第二容納槽,以及

    9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,在所述第一噴嘴部分的側(cè)表面中設(shè)置有第二容納槽,以及

    10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備制造裝置,還包括支承部分,所述支承部分配置為從所述沉積框架支承所述噴射部分,

    11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,所述緊密接觸部分包括:

    12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,配置為將所述多個(gè)按壓部分中的至少兩個(gè)按壓部分彼此分離的分離開(kāi)口布置在所述緊密接觸框架中。

    13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,在所述第二狀態(tài)中,所述多個(gè)按壓部分中的所述至少兩個(gè)按壓部分具有不同的高度。

    14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,所述分離開(kāi)口包括:

    15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,所述坩堝部分和所述緊密接觸部分包括相同的材料。

    16.沉積模塊,包括:

    17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的沉積模塊,其中,所述坩堝部分和所述噴嘴部分中的至少一個(gè)具有比所述緊密接觸部分的熱膨脹系數(shù)高的熱膨脹系數(shù)。

    18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的沉積模塊,其中,所述坩堝部分包括碳材料,并且所述噴嘴部分包括金屬材料。

    19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的沉積模塊,其中,所述緊密接觸部分在所述第一狀態(tài)中能夠從所述噴射部分拆卸。

    20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的沉積模塊,其中,所述緊密接觸部分設(shè)置成夾具的形式。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.顯示設(shè)備制造裝置,包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,所述坩堝部分和所述噴嘴部分中的至少一個(gè)具有比所述緊密接觸部分的熱膨脹系數(shù)高的熱膨脹系數(shù)。

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,所述坩堝部分包括碳材料,并且所述噴嘴部分包括金屬材料。

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,在所述第一狀態(tài)中,所述緊密接觸部分能夠從所述噴射部分拆卸。

    5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,所述坩堝部分包括:

    6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,在所述第二坩堝部分的下表面中設(shè)置有第一容納槽,以及

    7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,所述緊密接觸部分進(jìn)一步配置為在所述第二狀態(tài)中按壓在所述第一噴嘴部分的上表面上。

    8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,在所述第一噴嘴部分的所述上表面中設(shè)置有第二容納槽,以及

    9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示設(shè)備制造裝置,其中,在所述第一噴嘴部分的側(cè)表面中設(shè)置有第二容納槽,以及

    10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備制造裝置,還包括支承部分,所述支承部分配置為從所述沉積框架支承所述...

    【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:鄭和平徐敏逵程相慜樸簡(jiǎn)永尹鐘建李京員
    申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人:三星顯示有限公司
    類(lèi)型:發(fā)明
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