【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及基板處理裝置，更詳細(xì)地，涉及通過(guò)調(diào)節(jié)基板的上部開(kāi)閉率來(lái)調(diào)節(jié)氣流流速的基板處理裝置。
技術(shù)介紹
1、基板處理裝置是指利用處理液對(duì)半導(dǎo)體晶圓、顯示器用基板、光盤(pán)用基板、磁盤(pán)用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太陽(yáng)能電池用基板等基板進(jìn)行蒸鍍、顯影、蝕刻、清潔的裝置。
2、其中，清潔工序用于去除存在于上述基板上的異物或顆粒等，代表性地，是指在使基板在被夾盤(pán)底座(旋轉(zhuǎn)頭)支撐的狀態(tài)下高速旋轉(zhuǎn)的同時(shí)向基板的表面或背面供給處理液的處理工序。
3、如圖1所示，在通常情況下，基板處理裝置1包括流體供給單元30、碗狀件(bowl)組裝體10、升降單元60及設(shè)置有夾盤(pán)底座21的基板支撐裝置20。
4、上述流體供給單元30用于向基板w供給基板處理所需的處理液(藥液)或氣體。
5、而且，在工序進(jìn)行過(guò)程中，基板支撐裝置20執(zhí)行在支撐基板w的狀態(tài)下進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的功能。
6、并且，上述碗狀件組裝體10作為用于收容的結(jié)構(gòu)要素，可防止用于工序的藥液及工序過(guò)程中產(chǎn)生的煙霧(fume)向外部飛濺或流出，由于構(gòu)成層疊結(jié)構(gòu)，因此，優(yōu)選地，根據(jù)流路使不同的藥液及煙霧區(qū)別流入基板。
7、上述升降單元60使得基板支撐裝置20或碗狀件組裝體10上下升降，在碗狀件組裝體10內(nèi)，用于改變碗狀件組裝體10與基板支撐裝置20之間的相對(duì)高度。
8、另一方面，上述流體供給單元30、碗狀件組裝體10、升降單元60及包括夾盤(pán)底座21的基板支撐裝置20收容在腔室80內(nèi)，在上述腔室80的上部設(shè)置有風(fēng)扇過(guò)濾單元(
9、如上所述，在現(xiàn)有方式中，若上述風(fēng)扇過(guò)濾單元81運(yùn)轉(zhuǎn)，則朝向基板w形成規(guī)定速度(定速)的氣流，隨著氣流含有的氣態(tài)顆粒吸附在基板w上，可導(dǎo)致基板w發(fā)生缺陷。
10、即，氣流包含大量氣態(tài)顆粒，若氣流變得緩慢，則無(wú)法排出的氣體可漂浮在基板w上方并再次吸附在基板，因此，可產(chǎn)生質(zhì)量層面上的不利影響。
11、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
12、專利文獻(xiàn)
13、專利文獻(xiàn)1：韓國(guó)公開(kāi)專利公報(bào)第10-2014-0071312號(hào)(2014年06月11日)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)問(wèn)題，本專利技術(shù)的目的在于，提供如下的基板處理裝置，即，可通過(guò)調(diào)節(jié)基板的上部開(kāi)閉率來(lái)調(diào)節(jié)氣流流速，由此，可防止產(chǎn)生吸附顆粒引起的基板質(zhì)量降低問(wèn)題。
2、為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本專利技術(shù)的基板處理裝置包括：夾盤(pán)底座，在支撐基板的狀態(tài)下一同旋轉(zhuǎn)；流體供給單元，用于向上述基板供給處理液；碗狀件組裝體，包括包圍上述夾盤(pán)底座并沿著半徑方向外側(cè)重疊配置的多個(gè)碗狀件；升降單元，用于升降上述碗狀件組裝體；以及擋板單元，設(shè)置在構(gòu)成上述碗狀件組裝體的最外側(cè)碗狀件的上部，用于調(diào)節(jié)供氣流流向基板的氣流流入孔的半徑。
3、上述擋板單元包括：外殼框架，設(shè)置在上述最外側(cè)碗狀件的上部；擋板部件，設(shè)置在上述最外側(cè)碗狀件的上端與上述外殼框架之間，能夠調(diào)節(jié)上述氣流流入孔的半徑；以及擋板驅(qū)動(dòng)部，與上述擋板部件相連接，用于施加力以調(diào)節(jié)上述氣流流入孔的半徑。
4、上述擋板部件包括多個(gè)擋板葉片，上述多個(gè)擋板葉片按照等間距沿著最外側(cè)碗狀件的周?chē)较蚺渲茫刂鲜龌宓男D(zhuǎn)方向延伸形成并沿著上述旋轉(zhuǎn)方向連續(xù)重疊。
5、在上述最外側(cè)碗狀件的上端與上述外殼框架之間形成有清潔液供給部，用于向上述擋板葉片供給清潔液。
6、上述清潔液供給部為清潔液流路，沿著上述周?chē)较蜓由觳⒊蛏鲜鰮醢宀考闹行拈_(kāi)放而成。
7、在通過(guò)上述清潔液供給部供給清潔液的過(guò)程中，上述擋板葉片反復(fù)執(zhí)行折疊和展開(kāi)工作。
8、上述擋板部件包括：多個(gè)擋板葉片，按照等間距沿著上述最外側(cè)碗狀件的上端周?chē)较蚺渲茫孕纬稍谏鲜鲎钔鈧?cè)碗狀件的鉸鏈點(diǎn)為中心進(jìn)行鉸鏈運(yùn)動(dòng)；以及葉片運(yùn)轉(zhuǎn)板，一側(cè)與上述擋板驅(qū)動(dòng)部相連接，另一側(cè)與上述擋板葉片以能夠相對(duì)旋轉(zhuǎn)的方式相連接，在中心貫通形成有中空。
9、上述擋板部件包括：多個(gè)擋板葉片，按照等間距沿著上述最外側(cè)碗狀件的上端周?chē)较蚺渲茫軌蛞孕纬稍谏鲜鲎钔鈧?cè)碗狀件的鉸鏈點(diǎn)為中心進(jìn)行鉸鏈運(yùn)動(dòng)；以及葉片運(yùn)轉(zhuǎn)板，一側(cè)與上述擋板驅(qū)動(dòng)部相連接，另一側(cè)與上述擋板葉片以能夠相對(duì)旋轉(zhuǎn)的方式相連接，在中心貫通形成有中空，上述葉片運(yùn)轉(zhuǎn)板配置在上述外殼框架與最外側(cè)碗狀件之間并與上述清潔液流路相向。
10、上述結(jié)構(gòu)的本專利技術(shù)具有如下效果，即，由于本專利技術(shù)包括：夾盤(pán)底座，在支撐基板的狀態(tài)下一同旋轉(zhuǎn)；流體供給單元，用于向上述基板供給處理液；碗狀件組裝體，包括包圍上述夾盤(pán)底座并沿著半徑方向外側(cè)重疊配置的多個(gè)碗狀件；升降單元，用于升降上述碗狀件組裝體；以及擋板單元，設(shè)置在構(gòu)成上述碗狀件組裝體的最外側(cè)碗狀件的上部，用于調(diào)節(jié)供氣流流向基板的氣流流入孔的半徑，因此，隨著通過(guò)上述擋板單元調(diào)節(jié)氣流流向基板的開(kāi)放面積，本專利技術(shù)可調(diào)節(jié)氣流從風(fēng)扇過(guò)濾單元流入的流速，由此，可防止產(chǎn)生因氣態(tài)顆粒吸附于基板而導(dǎo)致基板質(zhì)量降低的情況。
11、并且，本專利技術(shù)可通過(guò)上述擋板單元調(diào)節(jié)上述開(kāi)放面積使其變窄，因此，當(dāng)處理液從上述流體供給單元供給于旋轉(zhuǎn)的基板時(shí)，可防止產(chǎn)生因處理液飛散而導(dǎo)致碗狀件組裝體外部受到污染的情況。
12、并且，在本專利技術(shù)中，上述擋板部件包括多個(gè)擋板葉片，上述多個(gè)擋板葉片按照等間距沿著最外側(cè)碗狀件的周?chē)较蚺渲茫刂鲜龌宓男D(zhuǎn)方向延伸形成并沿著上述旋轉(zhuǎn)方向連續(xù)重疊，由此，在通過(guò)基板旋轉(zhuǎn)形成旋轉(zhuǎn)氣流的情況下，可使得下降的空氣沿著擋板葉片的延伸方向引入并通過(guò)氣流流入孔順利流向基板。
13、并且，由于本專利技術(shù)在上述外殼框架的內(nèi)部形成有用于向上述擋板葉片供給清潔液的清潔液供給部，因此，隨著清潔液通過(guò)表面張力流向擋板葉片的內(nèi)周面內(nèi)側(cè)，可清潔擋板葉片的底面。
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1.一種基板處理裝置，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述擋板單元包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，上述擋板部件包括多個(gè)擋板葉片，上述多個(gè)擋板葉片按照等間距沿著最外側(cè)碗狀件的周?chē)较蚺渲茫刂鲜龌宓男D(zhuǎn)方向延伸形成并沿著上述旋轉(zhuǎn)方向連續(xù)重疊。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，在上述最外側(cè)碗狀件的上端與上述外殼框架之間形成有清潔液供給部，用于向上述擋板葉片供給清潔液。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，上述清潔液供給部為清潔液流路，沿著上述周?chē)较蜓由觳⒊蛏鲜鰮醢宀考闹行拈_(kāi)放而成。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，在通過(guò)上述清潔液供給部供給清潔液的過(guò)程中，上述擋板葉片反復(fù)執(zhí)行折疊和展開(kāi)工作。
7.根據(jù)權(quán)利要求2至6中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于，上述擋板部件包括：
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，
【技術(shù)特征摘要】
1.一種基板處理裝置，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述擋板單元包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，上述擋板部件包括多個(gè)擋板葉片，上述多個(gè)擋板葉片按照等間距沿著最外側(cè)碗狀件的周?chē)较蚺渲茫刂鲜龌宓男D(zhuǎn)方向延伸形成并沿著上述旋轉(zhuǎn)方向連續(xù)重疊。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，在上述最外側(cè)碗狀件的上端與上述外殼框架之間形成有清潔液供給部，用于向上述...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：李澤燁，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：得八益十意恩至，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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