【技術實現步驟摘要】
本公開總體涉及制造半導體器件。更具體地，本公開涉及在用于制造半導體器件的襯底上沉積材料層期間加熱襯底。
技術介紹
1、諸如太陽能電池和集成電路半導體器件的半導體器件通常是通過在襯底上沉積材料層來制造的。材料層沉積通常通過在反應室內支撐襯底、將襯底加熱到期望的材料層沉積溫度以及在選擇的環境條件下將襯底暴露于一種或多種材料層前體以使材料層沉積到襯底上來完成。襯底加熱可以使用輻射加熱裝置來完成，該裝置通常使用與反射器配合的輻射熱源，如支撐在反應室外的燈，通過反應室的壁傳輸輻射能量，以加熱支撐在反應室內的襯底。一旦材料層達到期望的厚度，通常停止前體流和加熱，并繼續對襯底進行進一步處理，以適合于正在制造的半導體器件。
2、在一些材料層沉積過程中，沉積到襯底上的材料層的跨襯底變化可能影響材料層的性質，潛在地影響使用該材料層形成的半導體器件的性能。例如，材料層厚度的跨襯底變化可能導致沉積到襯底上的材料層的電性能的相應跨襯底變化，潛在地影響使用該材料層形成的半導體器件的可靠性。諸如鍺以及摻雜劑的合金成分的濃度的跨襯底變化也可能引起沉積到襯底上的材料層的電性能的變化，也潛在地影響使用襯底形成的半導體器件的可靠性。在一些沉積過程中，材料層可能向上卷起或向下卷起，使得襯底邊緣、材料層或成分濃度在這些過程中分別在襯底邊緣增加或減少。
3、存在各種對策來限制跨襯底材料層變化。例如，襯底可以相對于提供給襯底的材料層流旋轉，以限制跨襯底材料層變化。前體的質量流量可以在相對于襯底中心的邊緣處局部增加或減少，以補償襯底中心和邊緣之間的材料
4、這種系統和方法對于它們的預期目的來說通常是可接受的。然而，仍需要改進的反射器、具有反射器的半導體處理系統以及在使用反射器的反應室裝置中將材料層沉積到襯底上的方法。本公開提供了對這種需求的解決方案。
技術實現思路
1、提供了一種反射器。該反射器包括具有開槽表面、平面表面和橢球形表面的反射器主體。平面表面與開槽表面相對，并與開槽表面分開反射器主體的厚度。橢球形表面偏離平面表面，與開槽表面相對，并與開槽表面分開反射器主體的厚度，并且跨越反射器主體的開槽表面。橢球形表面限定相對于平面表面正交的橢圓形輪廓，以使用反射器主體的橢球形表面反射的電磁輻射將熱通量集中在橢圓形輪廓的遠焦點處。
2、除了上述的一個或多個特征之外，或者作為替代，反射器的進一步示例可以包括橢球形表面是第一橢球形表面，并且反射器主體具有第二橢球形表面。第二橢球形表面可以通過反射器主體的厚度與開槽表面分開。第二橢球形表面可以平行于第一橢球形表面延伸，并且通過平面表面與第一橢球形表面分開。
3、除了上述的一個或多個特征之外，或者作為替代，反射器的進一步示例可以包括反射器主體具有拋物面表面。拋物面表面可以限定拋物線輪廓。拋物線輪廓可以相對于平面表面正交。拋物面表面可以平行于反射器主體的橢球形表面延伸。
4、除了上述的一個或多個特征之外，或者作為替代，反射器的進一步示例可以包括橢球形表面將反射器主體的拋物面表面與反射器主體的平面表面分開。
5、除了上述的一個或多個特征之外，或者作為替代，反射器的進一步示例可以包括反射器主體的拋物面表面通過反射器主體的平面表面與反射器主體的橢球形表面分開。
6、除了上述的一個或多個特征之外，或者作為替代，反射器的進一步示例可以包括反射器主體具有部分圓柱形表面。部分圓柱形表面可以限定部分圓形輪廓。部分圓形輪廓可以相對于平面表面正交。部分圓柱形表面可以平行于反射器主體的橢球形表面延伸。
7、除了上述的一個或多個特征之外，或者作為替代，反射器的進一步示例可以包括反射器主體的部分圓柱形表面將反射器主體的橢球形表面與反射器主體的平面表面分開。
8、除了上述的一個或多個特征之外，或者作為替代，反射器的進一步示例可以包括反射器主體的部分圓柱形表面通過反射器主體的平面表面與橢球形表面分開。
9、除了上述的一個或多個特征之外，或者作為替代，反射器的進一步示例可以包括反射器主體具有內側肋部。內側肋部可以將反射器主體的平面表面與反射器主體的橢球形表面分開。內側肋部可以具有部分圓柱形表面。部分圓柱形表面可以限定部分圓形輪廓，該部分圓形輪廓相對于平面表面正交，并且面向反射器主體的平面表面。
10、除了上述的一個或多個特征之外，或者作為替代，反射器的進一步示例可以包括反射器主體具有中間肋部。中間肋部可以通過反射器主體的橢球形表面與平面表面分開。中間肋部可以具有限定拋物線輪廓的拋物面表面。拋物線輪廓可以相對于反射器主體的平面表面正交。
11、除了上述的一個或多個特征之外，或者作為替代，反射器的進一步示例可以包括反射器主體具有外側肋部。外側肋部可以通過反射器主體的橢球形表面與平面表面分開。外側肋部可以具有拋物面表面和邊緣表面，拋物面表面限定相對于平面表面正交的拋物線輪廓，邊緣表面相對于平面表面正交。
12、除了上述的一個或多個特征之外，或者作為替代，反射器的進一步示例可以包括反射器主體由塊體金屬材料形成。金涂層材料可以共形地沉積到反射器主體的平面表面和橢球形表面上。
13、除了上述的一個或多個特征之外，或者作為替代，反射器的進一步示例可以包括開槽表面在其中限定多個槽。多個槽可以平行于反射器主體的橢球形表面延伸。多個槽可以將開槽表面與反射器主體的平面表面和橢球形表面流體聯接。反射器主體的厚度可以在其中限定冷卻劑通道。冷卻劑通道可以在反射器主體的開槽表面和橢球形表面之間延伸。
14、除了上述的一個或多個特征之外，或者作為替代，反射器的進一步示例可以包括反射器主體可以具有整體式布置，或者反射器主體具有包括第一主體段和至少一個第二主體段的分段式布置。平面表面可以限定在第一主體段上，橢球形表面可以限定在至少一個第二主體段上，并且第二主體段在跨越反射器主體的接頭處鄰接第一主體段。
15、提供了一種半導體處理系統。該半導體處理系統包括由透射材料形成的室主體、布置在室主體內的襯底支撐件以及如上所述支撐在室主體上方的反射器。包括兩個或更多個線性燈的燈陣列被支撐在反射器和室主體之間，兩個或更多個線性燈中的第一個沿著由反射器體的橢球形表面限定的橢圓形輪廓的近焦點延伸，兩個或更多個線性燈中的第二個將反射器體的平面表面與室主體分開，并且平行于兩個或更多個線性燈中的第一個。
16、除了上述的一個或多個特征之外，或者作為替代，半導體處理系統的進一步示例可以包括由橢球形表面限定的橢圓形輪廓的遠焦點與位于襯底支撐件上的襯底的表面相交。
17、除了上述的一個或多個特征之外，或者作為替本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種反射器，包括：
2.根據權利要求1所述的反射器，其中，所述橢球形表面是第一橢球形表面，并且所述反射器主體具有第二橢球形表面，其與所述開槽表面分開反射器主體的厚度，其中，第二橢球形表面平行于所述第一橢球形表面延伸，并且其中，第二橢球形表面通過所述平面表面與第一橢球形表面分開。
3.根據權利要求1所述的反射器，其中，所述反射器主體具有拋物面表面，其限定相對于所述平面表面正交的拋物線輪廓，拋物面表面平行于反射器主體的橢球形表面延伸。
4.根據權利要求3所述的反射器，其中，所述橢球形表面將所述反射器主體的拋物面表面與反射器主體的平面表面分開。
5.根據權利要求3所述的反射器，其中，所述反射器主體的拋物面表面通過反射器主體的平面表面與反射器主體的橢球形表面分開。
6.根據權利要求1所述的反射器，其中，所述反射器主體具有限定部分圓形輪廓的部分圓柱形表面，部分圓形輪廓相對于所述平面表面正交，部分圓柱形表面平行于反射器主體的橢球形表面延伸。
7.根據權利要求6所述的反射器，其中，所述反射器主體的部分圓柱形表面將反射器
8.根據權利要求6所述的反射器，其中，所述反射器主體的部分圓柱形表面通過反射器主體的平面表面與所述橢球形表面分開。
9.根據權利要求1所述的反射器，其中，所述反射器主體具有內側肋部，內側肋部將反射器主體的平面表面與反射器主體的橢球形表面分開，內側肋部具有部分圓柱形表面，部分圓柱形表面限定相對于平面表面正交并面向平面表面的部分圓形輪廓。
10.根據權利要求1所述的反射器，其中，所述反射器主體具有中間肋部，中間肋部通過反射器主體的橢球形表面與所述平面表面分開，中間肋部具有限定拋物線輪廓的拋物面表面，拋物線輪廓相對于反射器主體的平面表面正交。
11.根據權利要求1所述的反射器，其中，所述反射器主體具有外側肋部，外側肋部通過反射器主體的橢球形表面與所述平面表面分開，外側肋部具有拋物面表面和邊緣表面，拋物面表面限定相對于平面表面正交的拋物線輪廓，邊緣表面相對于平面表面正交。
12.根據權利要求1所述的反射器，其中，所述反射器主體由塊體金屬材料形成，并且還包括共形沉積到反射器主體的平面表面和橢球形表面上的金涂層。
13.根據權利要求1所述的反射器，其中，所述開槽表面在其中限定與所述反射器主體的橢球形表面平行延伸的多個槽，多個槽將開槽表面與反射器主體的平面表面和橢球形表面流體聯接，并且其中，反射器主體的厚度限定在反射器主體的開槽表面和橢球形表面之間延伸的冷卻劑通道。
14.根據權利要求1所述的反射器主體，其中，所述反射器主體具有整體式布置，或者其中，所述反射器主體具有分段式布置，包括第一主體段和至少一個第二主體段，所述平面表面限定在第一主體段上，所述橢球形表面限定在至少一個第二主體段上，第二主體段在跨越反射器主體的接頭處鄰接第一主體段。
15.一種半導體處理系統，包括：
16.根據權利要求15所述的半導體處理系統，其中，所述橢圓形輪廓的遠焦點與位于所述襯底支撐件上的襯底的表面相交。
17.根據權利要求15所述的半導體處理系統，其中，所述室主體具有平行于所述橢球形表面延伸的多個外部肋，并且其中，所述多個線性燈中的第一個覆蓋多個外部肋中的一個。
18.根據權利要求15所述的半導體處理系統，其中，所述室主體具有平行于所述橢球形表面延伸的多個外部肋，并且其中，所述多個線性燈中的第一個位于多個外部肋中的兩個之間。
19.根據權利要求15所述的半導體處理系統，其中，所述襯底支撐件被支撐用于在所述室主體內旋轉以圍繞旋轉軸線旋轉，其中遠焦點偏離旋轉軸線約135毫米和約155毫米之間。
20.一種材料層沉積方法，包括：
...【技術特征摘要】
1.一種反射器，包括：
2.根據權利要求1所述的反射器，其中，所述橢球形表面是第一橢球形表面，并且所述反射器主體具有第二橢球形表面，其與所述開槽表面分開反射器主體的厚度，其中，第二橢球形表面平行于所述第一橢球形表面延伸，并且其中，第二橢球形表面通過所述平面表面與第一橢球形表面分開。
3.根據權利要求1所述的反射器，其中，所述反射器主體具有拋物面表面，其限定相對于所述平面表面正交的拋物線輪廓，拋物面表面平行于反射器主體的橢球形表面延伸。
4.根據權利要求3所述的反射器，其中，所述橢球形表面將所述反射器主體的拋物面表面與反射器主體的平面表面分開。
5.根據權利要求3所述的反射器，其中，所述反射器主體的拋物面表面通過反射器主體的平面表面與反射器主體的橢球形表面分開。
6.根據權利要求1所述的反射器，其中，所述反射器主體具有限定部分圓形輪廓的部分圓柱形表面，部分圓形輪廓相對于所述平面表面正交，部分圓柱形表面平行于反射器主體的橢球形表面延伸。
7.根據權利要求6所述的反射器，其中，所述反射器主體的部分圓柱形表面將反射器主體的橢球形表面與反射器主體的平面表面分開。
8.根據權利要求6所述的反射器，其中，所述反射器主體的部分圓柱形表面通過反射器主體的平面表面與所述橢球形表面分開。
9.根據權利要求1所述的反射器，其中，所述反射器主體具有內側肋部，內側肋部將反射器主體的平面表面與反射器主體的橢球形表面分開，內側肋部具有部分圓柱形表面，部分圓柱形表面限定相對于平面表面正交并面向平面表面的部分圓形輪廓。
10.根據權利要求1所述的反射器，其中，所述反射器主體具有中間肋部，中間肋部通過反射器主體的橢球形表面與所述平面表面分開，中間肋部具有限定拋物線輪廓的拋物面表面，拋物線輪廓相對于反射器主體的平面表面正交。
11.根據權利要求1所述的反...
【專利技術屬性】
技術研發人員：王文濤，高培培，K·帕蒂爾，A·奇塔萊，高帆，林興，A·德莫斯，A·卡杰巴夫瓦拉，E·蘇亞雷斯，A·穆拉利，C·米斯金，B·B·喬希斯沃蘭，
申請(專利權)人：ASMIP私人控股有限公司，
類型：發明
國別省市：
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