【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術涉及校準，尤其涉及一種校準方法、系統(tǒng)以及涂布設備。
技術介紹
1、在太陽能電池、電子顯示面板、功能薄膜等領域，狹縫涂布技術因其高精度、高均勻性和高效率而備受青睞。狹縫涂布設備作為實現(xiàn)這一技術的關鍵工具，其核心部件——涂布頭的精度和穩(wěn)定性對于涂布質量至關重要。然而，在實際應用中，涂布頭與掩模輥（或稱為模板輥，是狹縫涂布設備中的部件之一，通常具有特定的圖案或形狀，用于在涂布過程中遮蔽或覆蓋底材上的特定區(qū)域，從而精確控制涂料的涂覆范圍和形狀。）之間的相對位置關系往往難以精確控制，這直接影響了涂布層的厚度均勻性和精度。
2、傳統(tǒng)的涂布設備校準方法大多依賴于人工操作和簡易測量工具，存在操作復雜、精度不高、重復性差等問題。特別是在處理多涂布孔、高精度要求的涂布任務時，這些問題尤為突出。此外，由于缺乏固定、穩(wěn)定的校準基準，涂布頭與掩模輥之間的微小位置偏差都可能導致涂布質量的顯著下降。
3、為了解決這個問題，業(yè)界開始探索更為精確、高效的校準方法。然而，現(xiàn)有的校準方法大多只能針對單一的涂布孔進行校準，且往往忽略了涂布頭與掩模輥之間的整體協(xié)調性和平行度要求。這導致在實際應用中，即使單個涂布孔的校準精度較高，整體涂布質量仍然難以保證。
4、因此，本申請?zhí)岢鲆环N校準方法、系統(tǒng)以及涂布設備。
技術實現(xiàn)思路
1、本專利技術的目的在于提供一種校準方法、系統(tǒng)以及涂布設備，能夠簡化操作流程，降低操作難度，實現(xiàn)快速調整掩模輥和涂布頭的位姿，使得每個涂布孔與掩模輥之間的距離
2、本專利技術的目的采用以下技術方案實現(xiàn)：
3、第一方面，本專利技術提供一種校準方法，所述校準方法適用于涂布頭的校準，所述涂布頭上開設有至少兩個涂布孔，每個涂布孔下方設有掩模輥，所述校準方法包括以下步驟：
4、在每個涂布孔和對應的掩模輥之間均放置一個標準塊，并將標準塊的第一面朝向所述涂布孔，將標準塊的第二面朝向掩模輥，其中，第一面和第二面相對設置；
5、使掩模輥的最高點位于標準塊的正下方，調整掩模輥的位姿，使得每個掩模輥的最高點與對應的第二面之間的距離均等于第二預設值；
6、調整涂布頭的位姿，使得每個涂布孔與對應的第一面之間的距離均等于第三預設值；
7、移走標準塊，并將涂布頭下移，下移的距離為所述標準塊的厚度，使每個涂布孔與對應的掩模輥的最高點之間的距離均為第一預設值。
8、上述方案的有益效果：通過標準塊的使用，可以簡化操作流程，降低操作難度，實現(xiàn)快速調整掩模輥和涂布頭的位姿，使得每個涂布孔與掩模輥之間的距離達到預設的第一預設值，顯著減少后續(xù)涂布過程中的誤差，提高涂布的精度和一致性。
9、進一步的，所述使每個涂布孔與對應的掩模輥的最高點之間的距離均為第一預設值，包括：
10、移走標準塊，并利用第二升降裝置將涂布孔下移后，測量涂布孔與掩模輥的最高點之間的距離，并比較涂布孔與掩模輥的最高點之間的距離和第一預設值之間的大小關系；
11、當涂布孔與掩模輥的最高點之間的距離不等于第一預設值時，校正掩模輥和涂布頭的位姿，使得每個涂布孔與對應的掩模輥的最高點之間的距離均為第一預設值。
12、上述方案的有益效果：本專利技術通過比較實際距離與第一預設值之間的差異，可以及時發(fā)現(xiàn)并校正偏差，確保涂布孔與掩模輥之間的精確距離，從而提高涂布質量的穩(wěn)定性和可靠性。
13、進一步的，所述校正掩模輥和涂布頭的位姿包括：
14、根據d1與第一預設值的差值，利用第二升降裝置以及第二調平裝置調節(jié)掩模輥；
15、根據d1與第一預設值的差值，利用第三升降裝置以及第三調平裝置調節(jié)涂布頭；
16、記錄每次調整前后的涂布孔、掩模輥的位姿參數以及調整裝置的調整量，形成校準日志；
17、其中，d1為涂布孔與掩模輥的最高點之間的距離。
18、上述方案的有益效果：本專利技術不僅進行位姿校正，還記錄每次調整前后的位置和調整量，形成校準日志，有助于跟蹤和調整過程，提高校準的準確性和可追溯性。同時，也為后續(xù)的設備維護和優(yōu)化提供了寶貴的數據支持。
19、進一步的，所述校正掩模輥和涂布頭的位姿還包括：
20、基于校準日志，根據d1與第一預設值的差值，利用第二升降裝置以及第二調平裝置調節(jié)掩模輥；
21、基于校準日志，根據d1與第一預設值的差值，利用第三升降裝置以及第三調平裝置調節(jié)涂布頭。
22、上述方案的有益效果：本專利技術利用校準日志中的數據，進行更加精確和高效的位姿校正。通過歷史數據的參考，可以更快地找到最佳的調整方案，減少調整時間和成本。
23、進一步的，第一預設值小于等于第二預設值與第三預設值之和。
24、上述方案的有益效果：本專利技術限定第一預設值小于等于第二預設值與第三預設值之和，確保了涂布孔與掩模輥之間的合理距離。
25、進一步的，所述使每個涂布孔與對應的掩模輥的最高點之間的距離均為第一預設值，還包括：
26、在所述移走標準塊，并將涂布頭下移后，將待涂布基板替換掩模輥，并檢測涂布孔與待涂布基板之間的距離，并比較涂布孔與待涂布基板之間的距離和第四預設值之間的大小關系；
27、當涂布孔與待涂布基板之間的距離不等于第四預設值時，校正涂布頭的位姿，使得每個涂布孔與對應的待涂布基板之間的距離均為第四預設值。
28、上述方案的有益效果：本專利技術通過替換掩模輥為待涂布基板，檢測涂布孔與待涂布基板之間的距離，并進行校正，以確保涂布孔與待涂布基板之間的精確距離，提高涂布精度和一致性。同時，也為實際生產中的涂布操作提供了更加準確的參數設置。
29、進一步的，所述第四預設值包括下式：
30、a4=a2+a3+(h1-h2)；
31、a4＞0；
32、其中，a4為第四預設值，a2為第二預設值，a3為第三預設值，h1為掩模輥的高度，h2為待涂布基板的高度。
33、上述方案的有益效果：本專利技術考慮了掩模輥和待涂布基板的高度差異，確保了涂布孔與基板之間的合理距離。
34、進一步的，在所述將待涂布基板替換掩模輥后，還包括：
35、檢測待涂布基板與涂布頭之間的平行度，并比較平行度與預設閾值之間的關系；
36、當平行度不等于預設閾值時，調整待涂布基板的位姿，使得待涂布基板與涂布頭之間的平行度等于預設閾值。
37、上述方案的有益效果：本專利技術通過檢測待涂布基板與涂布頭之間的平行度，并進行調整，有助于提高涂布精度和均勻性，減少因設備偏差導致的涂布問題，確保了涂布操作的穩(wěn)定性和一致性。
38、第二方面，本專利技術還提供一種校準系統(tǒng)，所述校準系統(tǒng)適用于涂布頭的校準，所述涂布頭上開設有至少兩個涂布孔，每個涂布孔下方設有掩模輥，所述校準系統(tǒng)包括：
39、初始化模塊，用于在每個涂布孔和對應的掩模輥之間均放本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種校準方法，其特征在于，所述校準方法適用于涂布頭的校準，所述涂布頭上開設有至少兩個涂布孔，每個涂布孔下方設有掩模輥，所述校準方法包括以下步驟：
2.根據權利要求1所述的校準方法，其特征在于，所述使每個涂布孔與對應的掩模輥的最高點之間的距離均為第一預設值，包括：
3.根據權利要求2所述的校準方法，其特征在于，所述校正掩模輥和涂布頭的位姿包括：
4.根據權利要求3所述的校準方法，其特征在于，所述校正掩模輥和涂布頭的位姿還包括：
5.根據權利要求2所述的校準方法，其特征在于，第一預設值小于等于第二預設值與第三預設值之和。
6.根據權利要求1所述的校準方法，其特征在于，所述使每個涂布孔與對應的掩模輥的最高點之間的距離均為第一預設值，還包括：
7.根據權利要求6所述的校準方法，其特征在于，所述第四預設值包括下式：
8.根據權利要求6所述的校準方法，其特征在于，在所述將待涂布基板替換掩模輥后，還包括：
9.一種校準系統(tǒng)，其特征在于，所述校準系統(tǒng)適用于涂布頭的校準，所述涂布頭上開設有至少兩個涂
10.一種用于校準系統(tǒng)的涂布設備，其特征在于，所述校準系統(tǒng)為權利要求9所述的校準系統(tǒng)；
...【技術特征摘要】
1.一種校準方法，其特征在于，所述校準方法適用于涂布頭的校準，所述涂布頭上開設有至少兩個涂布孔，每個涂布孔下方設有掩模輥，所述校準方法包括以下步驟：
2.根據權利要求1所述的校準方法，其特征在于，所述使每個涂布孔與對應的掩模輥的最高點之間的距離均為第一預設值，包括：
3.根據權利要求2所述的校準方法，其特征在于，所述校正掩模輥和涂布頭的位姿包括：
4.根據權利要求3所述的校準方法，其特征在于，所述校正掩模輥和涂布頭的位姿還包括：
5.根據權利要求2所述的校準方法，其特征在于，第一預設值小于等于第二預設值與第三預設值之和...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：請求不公布姓名，請求不公布姓名，請求不公布姓名，
申請(專利權)人：德滬涂膜設備蘇州有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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