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【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及攝像模組的檢測領域,尤其涉及一種攝像模組外圍淺條紋不良的檢測攔截方法及裝置。
技術(shù)介紹
1、攝像模組是指一種集成了圖像傳感器、光學鏡頭、圖像處理芯片和其他相關電路的模塊化組件。這種模塊化設計使得攝像頭的集成變得更加簡單,可以輕松地集成到各種設備中,如智能手機、平板電腦、智能家居設備、工業(yè)視覺系統(tǒng)等。
2、攝像模組的工作原理是被拍攝景物的光線通過鏡頭將生成的光學圖像投射到圖像傳感器上,光信號通過光電二極管轉(zhuǎn)換成電信號,然后通過模數(shù)轉(zhuǎn)換器(adc)將獲得的模擬信號轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號并對信號進行初步的處理后輸出,然后數(shù)據(jù)通過isp進行處理并最終轉(zhuǎn)換成屏幕可閱讀的圖像。
3、當圖像傳感器的某些列像素點的走線電阻異常偏離,從而造成信號電壓的偏差較大時,或者某些模數(shù)轉(zhuǎn)換器(adc)的閾值電壓存在較大偏差時,攝像模組輸出圖像的外圍區(qū)域中會出現(xiàn)淺條紋。為了能夠減少在列型ad轉(zhuǎn)換器動作時產(chǎn)生的條紋,申請?zhí)枮閏n201410072518.6的中國專利公開了一種固體攝像裝置,具備:像素陣列部,呈矩陣狀地配置有對光電轉(zhuǎn)換后的電荷進行蓄積的像素;基準電壓產(chǎn)生電路,產(chǎn)生基準電壓;列adc電路,設置有對從上述像素讀出的像素信號與上述基準電壓進行比較的比較器,該列adc電路基于上述比較器的比較結(jié)果按照每列來計算上述像素信號的ad轉(zhuǎn)換值;垂直信號線,按照每個上述列來傳送上述像素信號;電容器,通過按照每個上述列來保持與上述像素信號對應的電荷,由此進行模擬采樣;列間短路電路,在上述模擬采樣之前使上述垂直信號線在上述列間短路;以及模擬
4、但是,通過優(yōu)化電路的方式來改善攝像裝置的外圍淺條紋不良,不僅技術(shù)復雜度大,優(yōu)化電路方案需要在設計階段投入更多的研發(fā)資源,包括電路設計、仿真、測試等多個環(huán)節(jié),技術(shù)門檻相對較高,而且優(yōu)化電路需要采用更復雜的電路結(jié)構(gòu)和更高級的元器件,從而增加生產(chǎn)成本。雖然優(yōu)化電路方案旨在從根本上減少條紋問題,但其實際效果可能受到多種因素的影響,如生產(chǎn)過程中的工藝波動、元器件性能差異等,可能會引入新的偏差問題。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,本專利技術(shù)提供一種攝像模組外圍淺條紋不良的檢測攔截方法及裝置,旨在于生產(chǎn)階段對攝像模組的外圍淺條紋不良進行檢測攔截,從而避免外圍淺條紋不良的攝像模組流向市場。
2、本專利技術(shù)所要解決的技術(shù)問題通過以下技術(shù)方案予以實現(xiàn):
3、一種攝像模組外圍淺條紋不良的檢測攔截方法,包括如下步驟:
4、步驟100:獲取攝像模組的中心過曝圖像;
5、步驟200:對所述中心過曝圖像的至少一側(cè)外圍進行裁剪,獲得至少一張外圍圖像;
6、步驟300:采用邊緣檢測濾波器對各張外圍圖像中的各列像素點進行濾波處理,得到多個列像素濾波值;
7、步驟400:將同一張外圍圖像的各個列像素濾波值進行累加,得到至少一個濾波累加值;
8、步驟500:將各個濾波累加值與預設閾值分別進行比較,以確定所述攝像模組是否存在外圍淺條紋不良。
9、進一步的,在步驟100中,獲取攝像模組的中心過曝圖像的步驟如下:
10、步驟110:設置所述攝像模組的曝光時間以及光源面板的亮度值,使所述攝像模組的中心區(qū)域正常曝光;
11、步驟120:增加所述攝像模組的增益值,使所述攝像模組的中心區(qū)域出現(xiàn)過度曝光;
12、步驟130:控制所述攝像模組對所述光源面板進行拍攝,獲得原始圖像;
13、步驟140:若所述原始圖像的數(shù)量僅有一張,則將所述原始圖像作為所述中心過曝圖像,若所述原始圖像的數(shù)量有多張,則將各張原始圖像進行疊幀合成,獲得所述中心過曝圖像。
14、進一步的,所述攝像模組具有多個顏色通道;在步驟120中,僅增加所述攝像模組在單個顏色通道上的增益值,在步驟300中,僅對各張外圍圖像中的各列像素點在單個顏色通道上進行濾波處理,且增加增益值和濾波處理的顏色通道相同。
15、進一步的,所述單個顏色通道為紅色通道。
16、進一步的,所述中心過曝圖像具有四側(cè)外圍;在步驟200中,在對所述中心過曝圖像進行裁剪時,同時對所述中心過曝圖像的四側(cè)外圍進行裁剪,或者,根據(jù)同一批次攝像模組或同一型號攝像模組的過往檢測結(jié)果,僅對所述中心過曝圖像的一側(cè)或兩側(cè)外圍進行裁剪。
17、進一步的,各張外圍圖像的裁剪尺寸為預先設置,或者采用算法自動生成。
18、進一步的,在采用算法自動生成各張外圍圖像的裁剪尺寸時,先獲取所述中心過曝圖像中所有像素點的亮度值,然后根據(jù)亮度值判斷各個像素點是否過度曝光,并將過度曝光的各個像素點提取出來形成所述中心區(qū)域,將正常曝光的各個像素點提取出來形成所述外圍區(qū)域,最終根據(jù)所述外圍區(qū)域的長寬尺寸以及預設的縮減比例生成各張外圍圖像的裁剪尺寸。
19、進一步的,在步驟300中,在對各張外圍圖像中的各列像素點進行濾波處理之前,先對各張外圍圖像進行邊緣增強處理。
20、進一步的,在步驟500中,當其中一個濾波累加值等于或大于所述預設閾值時,則確定所述攝像模組存在外圍淺條紋,當各個濾波累加值均小于所述預設閾值時,則確定所述攝像模組不存在外圍淺條紋。
21、一種攝像模組外圍淺條紋不良的檢測攔截裝置,包括處理器以及與所述處理器電性連接的存儲器,所述存儲器中儲存有供所述處理器執(zhí)行的計算機程序,所述處理器在執(zhí)行該計算機程序時,進行上述的檢測攔截方法。
22、本專利技術(shù)具有如下有益效果:本專利的檢測攔截方法通過對所述攝像模組的中心區(qū)域進行過度曝光處理,以提高淺條紋與所述外圍區(qū)域的像素點之間的對比度,進而獲得所述中心過曝圖像,然后對所述中心過曝圖像依次進行裁切和邊緣檢測濾波,并根據(jù)所述濾波累加值確定所述攝像模組是否存在外圍淺條紋不良,可于生產(chǎn)階段對所述攝像模組的外圍淺條紋不良進行檢測攔截,從而避免外圍淺條紋不良的攝像模組流向市場。
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1.一種攝像模組外圍淺條紋不良的檢測攔截方法,其特征在于,包括如下步驟:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測攔截方法,其特征在于,在步驟100中,獲取攝像模組的中心過曝圖像的步驟如下:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢測攔截方法,其特征在于,所述攝像模組具有多個顏色通道;在步驟120中,僅增加所述攝像模組在單個顏色通道上的增益值,在步驟300中,僅對各張外圍圖像中的各列像素點在單個顏色通道上進行濾波處理,且增加增益值和濾波處理的顏色通道相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的檢測攔截方法,其特征在于,所述單個顏色通道為紅色通道。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測攔截方法,其特征在于,所述中心過曝圖像具有四側(cè)外圍;在步驟200中,在對所述中心過曝圖像進行裁剪時,同時對所述中心過曝圖像的四側(cè)外圍進行裁剪,或者,根據(jù)同一批次攝像模組或同一型號攝像模組的過往檢測結(jié)果,僅對所述中心過曝圖像的一側(cè)或兩側(cè)外圍進行裁剪。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的檢測攔截方法,其特征在于,各張外圍圖像的裁剪尺寸為預先設置,或者采用算法自動生成。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測攔截方法,其特征在于,在步驟300中,在對各張外圍圖像中的各列像素點進行濾波處理之前,先對各張外圍圖像進行邊緣增強處理。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測攔截方法,其特征在于,在步驟500中,當其中一個濾波累加值等于或大于所述預設閾值時,則確定所述攝像模組存在外圍淺條紋,當各個濾波累加值均小于所述預設閾值時,則確定所述攝像模組不存在外圍淺條紋。
10.一種攝像模組外圍淺條紋不良的檢測攔截裝置,包括處理器以及與所述處理器電性連接的存儲器,所述存儲器中儲存有供所述處理器執(zhí)行的計算機程序,其特征在于,所述處理器在執(zhí)行該計算機程序時,進行權(quán)利要求1所述的檢測攔截方法。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種攝像模組外圍淺條紋不良的檢測攔截方法,其特征在于,包括如下步驟:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測攔截方法,其特征在于,在步驟100中,獲取攝像模組的中心過曝圖像的步驟如下:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢測攔截方法,其特征在于,所述攝像模組具有多個顏色通道;在步驟120中,僅增加所述攝像模組在單個顏色通道上的增益值,在步驟300中,僅對各張外圍圖像中的各列像素點在單個顏色通道上進行濾波處理,且增加增益值和濾波處理的顏色通道相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的檢測攔截方法,其特征在于,所述單個顏色通道為紅色通道。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測攔截方法,其特征在于,所述中心過曝圖像具有四側(cè)外圍;在步驟200中,在對所述中心過曝圖像進行裁剪時,同時對所述中心過曝圖像的四側(cè)外圍進行裁剪,或者,根據(jù)同一批次攝像模組或同一型號攝像模組的過往檢測結(jié)果,僅對所述中心過曝圖像的一側(cè)或兩側(cè)外圍進行裁剪。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的檢測攔截方法,其特征在于,各張外圍圖像的裁剪尺寸為預先設置,或者采用算法自動生成。
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【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:林挺,羅芳文,
申請(專利權(quán))人:信利光電股份有限公司,
類型:發(fā)明
國別省市:
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