【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及計算機(jī)，具體而言，涉及一種剖面圖生成方法和電子設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、隨著地質(zhì)勘探、地質(zhì)工程和地質(zhì)研究領(lǐng)域的不斷發(fā)展，剖面圖作為一種重要的地質(zhì)結(jié)構(gòu)展示和分析工具，對于準(zhǔn)確理解地下地質(zhì)結(jié)構(gòu)和特征、指導(dǎo)工程設(shè)計和決策分析具有至關(guān)重要的作用。
2、目前，可采用手工繪制或工具繪制的方式繪制剖面圖。然而，手工繪制的方式存在效率低、成本高的問題。工具繪制存在繪制精度低的問題。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、為解決上述問題，本專利技術(shù)提供一種剖面圖生成方法和電子設(shè)備，可提高剖面圖繪制的效率和精度，并降低成本。
2、第一方面，本申請?zhí)峁┮环N剖面圖生成方法，包括：控制電子設(shè)備中的確定模塊根據(jù)多個第一鉆孔中的每個第一鉆孔的鉆孔數(shù)據(jù)，確定鉆孔軌跡的位置信息和基于所述鉆孔軌跡的多個第一地質(zhì)界線的位置信息；控制所述電子設(shè)備中的重構(gòu)模塊根據(jù)所述鉆孔軌跡對應(yīng)的異常體封閉線的數(shù)據(jù)和斷層構(gòu)造線的數(shù)據(jù)，對所述多個第一地質(zhì)界線的位置信息進(jìn)行重構(gòu)，以得到多個第二地質(zhì)界線的位置信息；控制所述電子設(shè)備中的生成模塊根據(jù)所述多個第二地質(zhì)界線的位置信息和所述鉆孔軌跡的位置信息，生成基于所述鉆孔軌跡的剖面圖。
3、可選的，所述每個第一鉆孔的鉆孔數(shù)據(jù)包括第一鉆孔的標(biāo)識信息、位置信息、地層分層信息和孔口高程；所述控制電子設(shè)備中的確定模塊根據(jù)多個第一鉆孔中的每個第一鉆孔的鉆孔數(shù)據(jù)，確定鉆孔軌跡的位置信息和基于所述鉆孔軌跡的多個第一地質(zhì)界線的位置信息包括：控制所述電子設(shè)備中的確定模塊獲得所述多個第一鉆孔中
4、可選的，所述控制所述電子設(shè)備中的確定模塊獲得所述多個第一鉆孔中的每個第一鉆孔的鉆孔數(shù)據(jù)包括：控制所述電子設(shè)備中的確定模塊獲得多個第二鉆孔中的每個第二鉆孔的鉆孔數(shù)據(jù)；控制所述電子設(shè)備中的確定模塊根據(jù)所述每個第二鉆孔的鉆孔數(shù)據(jù)，在所述多個第二鉆孔中篩除異常鉆孔，以得到所述多個第一鉆孔；控制所述電子設(shè)備中的確定模塊從所述多個第二鉆孔中的每個第二鉆孔的鉆孔數(shù)據(jù)中，獲得所述多個第一鉆孔中的每個第一鉆孔的鉆孔數(shù)據(jù)。
5、可選的，所述控制所述電子設(shè)備中的確定模塊根據(jù)所述每個第一鉆孔的位置信息和地層分層信息，確定所述多個第一地質(zhì)界線的位置信息包括：控制所述電子設(shè)備中的確定模塊根據(jù)所述每個第一鉆孔的位置信息和地層分層信息，確定所述每個第一鉆孔對應(yīng)的多個地層分界點中的每個地層分界點的位置和屬性；控制所述電子設(shè)備中的確定模塊根據(jù)所述多個第一鉆孔對應(yīng)的相同屬性的地層分界點的位置，確定所述多個第一地質(zhì)界線的位置信息。
6、可選的，所述控制所述電子設(shè)備中的重構(gòu)模塊根據(jù)所述鉆孔軌跡對應(yīng)的異常體封閉線的數(shù)據(jù)和斷層構(gòu)造線的數(shù)據(jù)，對所述多個第一地質(zhì)界線的位置信息進(jìn)行重構(gòu)，以得到多個第二地質(zhì)界線的位置信息包括：控制所述電子設(shè)備中的重構(gòu)模塊根據(jù)所述異常體封閉線的數(shù)據(jù)，確定所述異常體封閉線與所述多個第一地質(zhì)界線的第一交點的位置；控制所述電子設(shè)備中的重構(gòu)模塊根據(jù)所述第一交點的位置和所述異常體封閉線的數(shù)據(jù)，對所述多個第一地質(zhì)界線的位置信息進(jìn)行重構(gòu)，以得到多個第三地質(zhì)界線的位置信息；控制所述電子設(shè)備中的重構(gòu)模塊根據(jù)所述斷層構(gòu)造線的數(shù)據(jù)，確定所述斷層構(gòu)造線與所述多個第三地質(zhì)界線的第二交點的位置；控制所述電子設(shè)備中的重構(gòu)模塊切斷所述第二交點的位置處的所述第三地質(zhì)界線，并基于所述斷層構(gòu)造線的數(shù)據(jù)，對所述多個第三地質(zhì)界線的位置信息進(jìn)行重構(gòu)，以得到多個第二地質(zhì)界線的位置信息。
7、可選的，所述控制所述電子設(shè)備中的確定模塊根據(jù)所述每個第一鉆孔的位置信息和地層分層信息，確定所述多個第一地質(zhì)界線的位置信息包括：控制所述電子設(shè)備中的確定模塊根據(jù)每個所述第一鉆孔的位置信息和地層分層信息，確定多個第四地質(zhì)界線的位置信息；控制所述電子設(shè)備中的確定模塊對所述多個第四地質(zhì)界線的位置信息進(jìn)行平滑處理，以得到所述多個第一地質(zhì)界線的位置信息。
8、可選的，所述控制所述電子設(shè)備中的確定模塊獲得多個第二鉆孔中的每個第二鉆孔的鉆孔數(shù)據(jù)包括：控制所述電子設(shè)備中的確定模塊向用戶提供一顯示界面，其中，所述顯示界面中展示有多個鉆孔；控制所述電子設(shè)備中的確定模塊響應(yīng)于所述用戶作用于所述多個鉆孔的選擇操作，從所述多個鉆孔中確定所述多個第二鉆孔；控制所述電子設(shè)備中的確定模塊獲得所述多個第二鉆孔中的每個第二鉆孔的鉆孔數(shù)據(jù)。
9、可選的，所述控制所述電子設(shè)備中的生成模塊根據(jù)所述多個第二地質(zhì)界線的位置信息和所述鉆孔軌跡的位置信息，生成基于所述鉆孔軌跡的剖面圖包括：控制所述電子設(shè)備中的生成模塊獲得所述多個第二地質(zhì)界線的屬性信息、所述異常體封閉線的屬性信息和斷層構(gòu)造線的屬性信息；控制所述電子設(shè)備中的生成模塊根據(jù)所述多個第二地質(zhì)界線的位置信息、所述鉆孔軌跡的位置信息、所述多個第二地質(zhì)界線的屬性信息、所述異常體封閉線的屬性信息和斷層構(gòu)造線的屬性信息，生成基于所述鉆孔軌跡的剖面圖。
10、可選的，所述方法還包括：控制所述電子設(shè)備中的展示模塊向用戶展示所述剖面圖，并區(qū)別性顯示所述剖面圖中的不同的所述第二地質(zhì)界線和所述多個第二地質(zhì)界線限定的不同的地層區(qū)域。
11、第二方面，本申請?zhí)峁┮环N電子設(shè)備，包括：存儲器和處理器；所述存儲器，用于存儲計算機(jī)程序；所述處理器，用于當(dāng)執(zhí)行所述計算機(jī)程序時，實現(xiàn)第一方面中任一項所述的剖面圖生成方法。
12、第三方面，本申請?zhí)峁┮环N計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，所述存儲介質(zhì)上存儲有計算機(jī)程序，當(dāng)所述計算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時，實現(xiàn)第一方面中任一項所述的剖面圖生成方法。
13、本專利技術(shù)的剖面圖生成方法的有益效果是：
14、控制電子設(shè)備中的確定模塊根據(jù)多個第一鉆孔中的每個第一鉆孔的鉆孔數(shù)據(jù)，可確定鉆孔軌跡的位置信息和基于鉆孔軌跡的多個第一地質(zhì)界線的位置信息，實現(xiàn)了鉆孔軌跡和多個第一地質(zhì)界線的確定。控制電子設(shè)備中的重構(gòu)模塊根據(jù)鉆孔軌跡對應(yīng)的異常體封閉線的數(shù)據(jù)和斷層構(gòu)造線的數(shù)據(jù)，對多個第一地質(zhì)界線的位置信息進(jìn)行重構(gòu)，可得到多個第二地質(zhì)界線的位置信息，也就是說，在多個第二地質(zhì)界線的構(gòu)建中考量了異常體封閉線和斷層構(gòu)造線的影響，提高了多個第二地質(zhì)界線的構(gòu)建精度。如此，控制電子設(shè)備中的生成模塊根據(jù)多個第二地質(zhì)界線的位置信息和所述鉆孔軌跡的位置信息，不僅可生成基于鉆孔軌跡的剖面圖，還提高了剖面圖的繪制精度。
15、并且，由于剖面圖的生成由電子設(shè)備中的確定模塊、電子設(shè)備中的重構(gòu)模塊和電子設(shè)備中的生成模塊通過執(zhí)行上述過程來實現(xiàn)，相比于手工繪制，本申請采用了電子設(shè)備來完成，提高了剖面圖的生成效率，降低了成本。
本文檔來自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護(hù)點】
1.一種剖面圖生成方法，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述每個第一鉆孔的鉆孔數(shù)據(jù)包括第一鉆孔的標(biāo)識信息、位置信息、地層分層信息和孔口高程；
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述控制所述電子設(shè)備中的確定模塊獲得所述多個第一鉆孔中的每個第一鉆孔的鉆孔數(shù)據(jù)包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述控制所述電子設(shè)備中的確定模塊根據(jù)所述每個第一鉆孔的位置信息和地層分層信息，確定所述多個第一地質(zhì)界線的位置信息包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制所述電子設(shè)備中的重構(gòu)模塊根據(jù)所述鉆孔軌跡對應(yīng)的異常體封閉線的數(shù)據(jù)和斷層構(gòu)造線的數(shù)據(jù)，對所述多個第一地質(zhì)界線的位置信息進(jìn)行重構(gòu)，以得到多個第二地質(zhì)界線的位置信息包括：
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述控制所述電子設(shè)備中的確定模塊根據(jù)所述每個第一鉆孔的位置信息和地層分層信息，確定所述多個第一地質(zhì)界線的位置信息包括：
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述控制所述電子設(shè)備中的確定模塊獲得多個
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制所述電子設(shè)備中的生成模塊根據(jù)所述多個第二地質(zhì)界線的位置信息和所述鉆孔軌跡的位置信息，生成基于所述鉆孔軌跡的剖面圖包括：
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
10.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括：存儲器和處理器；
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種剖面圖生成方法，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述每個第一鉆孔的鉆孔數(shù)據(jù)包括第一鉆孔的標(biāo)識信息、位置信息、地層分層信息和孔口高程；
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述控制所述電子設(shè)備中的確定模塊獲得所述多個第一鉆孔中的每個第一鉆孔的鉆孔數(shù)據(jù)包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述控制所述電子設(shè)備中的確定模塊根據(jù)所述每個第一鉆孔的位置信息和地層分層信息，確定所述多個第一地質(zhì)界線的位置信息包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制所述電子設(shè)備中的重構(gòu)模塊根據(jù)所述鉆孔軌跡對應(yīng)的異常體封閉線的數(shù)據(jù)和斷層構(gòu)造線的數(shù)據(jù)，對所述多個第一地質(zhì)界線的位置信息進(jìn)...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：馮武超，張坤，車文超，劉彥明，殷婉婷，羅慧慧，
申請(專利權(quán))人：中鐵第一勘察設(shè)計院集團(tuán)有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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