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【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術涉及安裝調(diào)試,具體為一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺。
技術介紹
1、干法刻蝕機是一種用于材料表面處理的設備,主要用于半導體制造和微電子
干法刻蝕機通過等離子體技術實現(xiàn)材料的刻蝕,具有高精度和高效率的特點。目前在干法刻蝕機投入使用時,通常會將其放置在安裝調(diào)試平臺上進行安裝調(diào)試,以確保干法刻蝕機能夠正常使用。
2、但是現(xiàn)有的安裝調(diào)試平臺無法對干法刻蝕機的位置進行調(diào)節(jié),這就導致在對干法刻蝕機進行安裝調(diào)試時,需要人員圍繞安裝調(diào)試平臺進行走動,從而會在一定程度上提高人員的勞動強度,便捷性低。因此,專利技術一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺。
技術實現(xiàn)思路
1、鑒于上述和/或現(xiàn)有一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺中存在的問題,提出了本專利技術。
2、因此,本專利技術的目的是提供一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,能夠解決上述提出現(xiàn)有的問題。
3、為解決上述技術問題,根據(jù)本專利技術的一個方面,本專利技術提供了如下技術方案:
4、一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,其包括底板和安裝調(diào)試臺,所述底板的正上方設有安裝調(diào)試臺,還包括:
5、用于對安裝調(diào)試臺的位置進行調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié)組件,且調(diào)節(jié)組件設在底板和安裝調(diào)試臺之間;
6、所述調(diào)節(jié)組件包括:
7、用于帶動安裝調(diào)試臺進行旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)組件,且旋轉(zhuǎn)組件設在底板的頂部上;
8、用于帶動安裝調(diào)試臺進行升降的升降組件,且升降組件設在旋轉(zhuǎn)組件上。
...【技術保護點】
1.一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,包括底板(10)和安裝調(diào)試臺(20),所述底板(10)的正上方設有安裝調(diào)試臺(20),其特征在于,還包括:
2.根據(jù)權利要求1所述的一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)組件包括:
3.根據(jù)權利要求2所述的一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)組件還包括:
4.根據(jù)權利要求3所述的一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,其特征在于,所述升降組件包括:
5.根據(jù)權利要求4所述的一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,其特征在于,所述升降組件還包括:
6.根據(jù)權利要求5所述的一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,其特征在于,所述X形桿(45)是由兩組活動桿呈X形排列組成的,兩組所述活動桿的中部通過銷軸轉(zhuǎn)動連接在一起,且活動桿的端部活動連接在第一滑塊(42)上。
7.根據(jù)權利要求1所述的一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,其特征在于,還包括:
8.根據(jù)權利要求7所述的一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,其特征在于,所述夾持組件包括:
>9.根據(jù)權利要求1所述的一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,其特征在于,還包括:
10.根據(jù)權利要求9所述的一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,其特征在于,所述支架包括:
...【技術特征摘要】
1.一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,包括底板(10)和安裝調(diào)試臺(20),所述底板(10)的正上方設有安裝調(diào)試臺(20),其特征在于,還包括:
2.根據(jù)權利要求1所述的一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)組件包括:
3.根據(jù)權利要求2所述的一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)組件還包括:
4.根據(jù)權利要求3所述的一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,其特征在于,所述升降組件包括:
5.根據(jù)權利要求4所述的一種干法刻蝕機用多功能安裝調(diào)試平臺,其特征在于,所述升降組件還包括:
6.根據(jù)權利...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員:魏鳴峰,沈勛,邵帥帥,宗慶超,雷偉,
申請(專利權)人:合肥英仕博精密裝備有限公司,
類型:發(fā)明
國別省市:
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