【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)的技術(shù)涉及一種投影用光學(xué)系統(tǒng)及投影型顯示裝置。
技術(shù)介紹
1、作為能夠應(yīng)用于投影型顯示裝置的光學(xué)系統(tǒng)，已知有下述日本專利文獻1中記載的光學(xué)系統(tǒng)。
2、專利文獻1：日本特開2014-029392號公報
3、要求小型地構(gòu)成且具有良好的光學(xué)性能的投影用光學(xué)系統(tǒng)。這些要求水平逐年提高。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)是鑒于上述情況而完成，其提供一種小型地構(gòu)成且具有良好的光學(xué)性能的投影用光學(xué)系統(tǒng)、及具備該投影用光學(xué)系統(tǒng)的投影型顯示裝置。
2、本專利技術(shù)的第1方式為將縮小側(cè)的圖像投影到放大側(cè)的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述投影用光學(xué)系統(tǒng)不包括具有光焦度的反射面，從放大側(cè)向縮小側(cè)沿光路依次包括第1光學(xué)系統(tǒng)和第2光學(xué)系統(tǒng)，在所述第1光學(xué)系統(tǒng)與所述第2光學(xué)系統(tǒng)之間形成有中間像，所述第1光學(xué)系統(tǒng)包括使光路偏轉(zhuǎn)的光路偏轉(zhuǎn)面，且滿足由以下式表示的條件式(1)
3、0.2＜imax/ddef<0.7??(1)。
4、在本專利技術(shù)中，如下所述規(guī)定了條件式的記號。將縮小側(cè)的最大有效像圓的半徑設(shè)為imax。將第1光學(xué)系統(tǒng)的從最靠近放大側(cè)的透鏡面至光路偏轉(zhuǎn)面為止的光軸上的距離設(shè)為ddef。另外，在投影用光學(xué)系統(tǒng)為變倍光學(xué)系統(tǒng)的情況下，將ddef設(shè)為廣角端處的值。
5、本專利技術(shù)的第2方式在第1方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，第1光學(xué)系統(tǒng)從放大側(cè)向縮小側(cè)沿光路依次包括具有負光焦度的前組、包括光路偏轉(zhuǎn)面的光路偏轉(zhuǎn)部件、及具有正光焦度的后組。>
6、本專利技術(shù)的第3方式在第2方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，前組包括1片以上的正透鏡。
7、本專利技術(shù)的第4方式在第2方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，第1光學(xué)系統(tǒng)的最靠近放大側(cè)的光學(xué)有效面的最外周位于在光軸方向上比光學(xué)有效面與光軸的交點更靠近縮小側(cè)的位置。
8、本專利技術(shù)的第5方式在第3方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，在將前組所包括的所有負透鏡的d線基準(zhǔn)的阿貝數(shù)的平均值設(shè)為νnave、及將前組所包括的所有正透鏡的d線基準(zhǔn)的阿貝數(shù)的平均值設(shè)為νpave的情況下，所述投影用光學(xué)系統(tǒng)滿足由以下式表示的條件式(2)
9、10＜v?nave-v?pave＜40??(2)。
10、本專利技術(shù)的第6方式在第3方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，在將前組所包括的所有負透鏡相對于d線的折射率的平均值設(shè)為nnave、及將前組所包括的所有正透鏡相對于d線的折射率的平均值設(shè)為npave的情況下，所述投影用光學(xué)系統(tǒng)滿足由以下式表示的條件式(3)
11、0.15＜npave-nnave＜0.45??(3)。
12、本專利技術(shù)的第7方式在第2方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，后組的至少一部分在對焦時移動。
13、本專利技術(shù)的第8方式在第1方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，第2光學(xué)系統(tǒng)包括在變倍時沿光軸移動的2個以上的移動組。
14、本專利技術(shù)的第9方式在第8方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，第2光學(xué)系統(tǒng)的移動組中的最靠近放大側(cè)的移動組具有正光焦度。
15、本專利技術(shù)的第10方式在第2方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，在將從前組的最靠近縮小側(cè)的面到后組的最靠近放大側(cè)的面為止的光軸上的空氣換算距離設(shè)為dfr、及當(dāng)投影用光學(xué)系統(tǒng)為變倍光學(xué)系統(tǒng)時，將dfr設(shè)為廣角端處的值的情況下，所述投影用光學(xué)系統(tǒng)滿足由以下式表示的條件式(4)
16、0.5<imax/dfr<0.9(4)。
17、本專利技術(shù)的第11方式在第2方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，光路偏轉(zhuǎn)面為棱鏡的面。
18、本專利技術(shù)的第12方式在第11方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，在將棱鏡的沿光軸的厚度設(shè)為dpr、及將棱鏡相對于d線的折射率設(shè)為npr的情況下，所述投影用光學(xué)系統(tǒng)滿足由以下式表示的條件式(5)
19、0.9<imax/(dpr/npr)＜1.3??(5)。
20、本專利技術(shù)的第13方式在第1方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，在將第1光學(xué)系統(tǒng)的最靠近放大側(cè)的透鏡面的最大有效半徑設(shè)為erf、及將投影用光學(xué)系統(tǒng)的所有透鏡面的最大有效半徑的最大值設(shè)為ermax的情況下，所述投影用光學(xué)系統(tǒng)滿足由以下式表示的條件式(6)
21、0<erf/ermax＜0.7??(6)。
22、本專利技術(shù)的第14方式在第1方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，在將第1光學(xué)系統(tǒng)的所有透鏡面上的軸上邊緣光線的距離光軸的高度的最大值設(shè)為ah1、及將第2光學(xué)系統(tǒng)的所有透鏡面上的軸上邊緣光線的距離光軸的高度的最大值設(shè)為ah2的情況下，所述投影用光學(xué)系統(tǒng)滿足由以下式表示的條件式(7)
23、0<ah1/ah2<0.7??(7)。
24、本專利技術(shù)的第15方式在第1方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，在比中間像更靠近縮小側(cè)包括孔徑光闌，孔徑光闌的實像存在于第1光學(xué)系統(tǒng)的內(nèi)部，在將光軸方向上的孔徑光闌的實像的位置設(shè)為第1位置、及將從縮小側(cè)的最大有效像圓內(nèi)的任意點發(fā)出并朝向放大側(cè)穿過了孔徑光闌的中心的光線在比中間像更靠近放大側(cè)的位置上與光軸交叉的位置中距離第1位置最遠的位置設(shè)為第2位置的情況下，光路偏轉(zhuǎn)面與光軸的交點在光軸方向上位于從第1位置到第2位置為止的范圍內(nèi)。
25、本專利技術(shù)的第16方式在第15方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，在將1至10的自然數(shù)設(shè)為k、將在縮小側(cè)的最大有效像圓上的距離光軸的高度為最大有效像圓的半徑的十分之k的高度的點設(shè)為點phk、將從點phk發(fā)出并朝向放大側(cè)穿過了孔徑光闌的中心的光線在比中間像更靠近放大側(cè)的位置上與光軸交叉的位置設(shè)為位置pk、將位置pk中距離第1位置的光軸上的空氣換算距離最長的位置設(shè)為第3位置、將從第1位置到第3位置為止的空氣換算距離設(shè)為difp、在difp的符號中，以第1位置為基準(zhǔn)，將縮小側(cè)的距離設(shè)為正且將放大側(cè)的距離設(shè)為負、及當(dāng)投影用光學(xué)系統(tǒng)為變倍光學(xué)系統(tǒng)時，將difp設(shè)為廣角端處的值的情況下，所述投影用光學(xué)系統(tǒng)滿足由以下式表示的條件式(8)
26、-3<difp/imax＜-0.2??(8)。
27、本專利技術(shù)的第17方式在第16方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，第1光學(xué)系統(tǒng)從放大側(cè)向縮小側(cè)沿光路依次包括前組、包括光路偏轉(zhuǎn)面的光路偏轉(zhuǎn)部件、及后組，在將從前組的最靠近縮小側(cè)的面到后組的最靠近放大側(cè)的面為止的光軸上的空氣換算距離設(shè)為dfr、及當(dāng)投影用光學(xué)系統(tǒng)為變倍光學(xué)系統(tǒng)的時，將dfr設(shè)為廣角端處的值的情況下，所述投影用光學(xué)系統(tǒng)滿足由以下式表示的條件式(9)
28、0.4＜difp/dfr＜0.7??(9)。
29、本專利技術(shù)的第18方式在第16方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，光路偏轉(zhuǎn)面為棱鏡的面。
30、本專利技術(shù)的第19方式在第18方式的投影用光學(xué)系統(tǒng)中，在將棱鏡的沿光軸的厚度設(shè)為dpr、及將棱鏡相對于d線的折射率設(shè)為npr的情況下，所述投影用光學(xué)系統(tǒng)滿足由以下式表示的條件式(10)
31、0.7＜difp/(dpr/npr)＜1.8(10)。
32、本專利技術(shù)的第20方式為一種投影型顯示本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護點】
1.一種投影用光學(xué)系統(tǒng)，其將縮小側(cè)的圖像投影到放大側(cè)，其中，
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
7.根據(jù)權(quán)利要求2至6中任一項所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
8.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
10.根據(jù)權(quán)利要求2至6中任一項所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
11.根據(jù)權(quán)利要求2至6中任一項所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
13.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
14.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
15.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
18.根據(jù)權(quán)利要求16或17所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
20.一種投影型顯示裝置，其具備權(quán)利要求1至19中任一項所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種投影用光學(xué)系統(tǒng)，其將縮小側(cè)的圖像投影到放大側(cè)，其中，
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
7.根據(jù)權(quán)利要求2至6中任一項所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
8.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
10.根據(jù)權(quán)利要求2至6中任一項所述的投影用光學(xué)系統(tǒng)，其中，
11.根據(jù)權(quán)利要求2至6...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：川名正直，
申請(專利權(quán))人：富士膠片株式會社，
類型：發(fā)明
國別省市：
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