【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及磁控濺射鍍膜，具體為一種改善靶材磁控濺射厚度和均勻性方法的設備。
技術介紹
1、磁控濺射鍍膜技術憑借其高速、低溫兩大優點在真空鍍膜工業中應用日趨廣泛，成為工業鍍膜生產中最主要的技術之一；磁控濺射鍍膜設備的主要工作原理是利用氣體的輝光放電過程產生正離子（通常反應氣體為氬氣時為氬離子），這些正離子在電場的加速作用下以很高的能量轟擊陰極靶材的表面，使靶材發生濺射，產生的濺射粒子（原子或分子）脫離陰極后往陽極基片上沉積，形成薄膜，從而完成鍍膜的工序。
2、現有技術中的磁控鍍膜技術在鍍膜過程中因為轟擊后的分子路線為發散狀，存在鍍層厚度和均勻性不合格的問題，從而導致產品不合格；另一方面，因為靶材和基片平整度的原因導致鍍膜厚度和均勻性不合格；現有技術中為解決該技術問題，往往采用支撐板對基片進行支撐，該過程不僅費時費力，而且支撐不同的基片則需要不同的支撐板，因此費時費力，同時也存在靶材安裝麻煩的問題；此外，現有技術中的磁控濺射鍍膜技術只能針對單一基片進行鍍膜，鍍膜效率低，因此，亟需一種改善靶材磁控濺射厚度和均勻性方法的設備來解決當前問題。
技術實現思路
1、為解決上述問題，本專利技術提出了一種改善靶材磁控濺射厚度和均勻性方法的設備，有效解決了現有技術中磁控濺射鍍膜過程中存在的鍍膜厚度和均勻性不足的問題；同時也解決了因為靶材或者基片平整度導致的鍍膜厚度和均勻性不足的問題；同時也實現了多個基片可同時進行磁控濺射，大大提高了鍍膜效率。
2、為實現上述問題，本專利技術
3、進一步地；其特征在于：角度調節機構包括固定控制塊內多個同軸轉動連接的第一同軸齒輪,固定控制塊內轉動連接有多個第二主動齒輪,第二主動齒輪分別于相對應的第一同軸齒輪相嚙合；固定控制塊上轉動連接有第一直角連桿、第二直角連桿和第三直角連桿，第一直角連桿、第二直角連桿和第三直角連桿分別與相對應的第一同軸齒輪同軸固接；第一直角連桿、第二直角連桿和第三直角連桿上均轉動連接有曲形連桿,基板下方同軸固接有連接固定塊,曲形連桿均與連接固定塊轉動連接。
4、進一步地；其特征在于：第一升降機構包括連接防護腔內轉動連接的第一主動齒輪和第一內齒輪,第一內齒輪與第一主動齒輪相嚙合；連接防護腔內轉動連接有一對第一旋轉小齒輪,第一旋轉小齒輪均與第一內齒輪相嚙合，第一旋轉小齒輪均同軸固接有升降螺柱,連接防護腔內滑動連接有磁控控制器和固定螺套,磁控控制器與固定螺套固接；升降螺柱均與固定螺套相螺接；升降螺柱分別位于磁控控制器兩側呈對稱設置；磁控控制器下方與靶材固定盤固接。
5、進一步地；其特征在于：第一定位機構包括靶材固定盤上滑動連接的定位柱、第一滑動盤和活動拉桿，定位柱、第一滑動盤和活動拉桿均同軸固接，定位柱和活動拉桿分別位于第一滑動盤兩側；活動拉桿外套接有復位彈簧,復位彈簧一端與第一滑動盤固接，復位彈簧另一端與靶材定位塊固接；靶材固定盤上設置有與靶材定位塊相配合弧線滑槽；靶材固定盤上設置有與定位柱相配合的定位孔。
6、進一步地；其特征在于：靶材定位塊上均固接有靶材限位塊；靶材限位塊均與相對應的靶材安裝槽相配合；當同一個靶材固定盤上的靶材限位塊與靶材安裝槽側面貼合時，兩個靶材限位塊另一端靶材安裝槽圓心之間的夾角不大于180°。
7、進一步地；其特征在于：濺射腔的直徑不小于基板的直徑。
8、進一步地；其特征在于：第一旋轉機構包括真空腔體內轉動連接的第一旋轉蝸桿和第一旋轉蝸輪,第一旋轉蝸輪與第一旋轉蝸桿相嚙合；第一旋轉蝸輪與旋轉盤同軸固接。
9、進一步地；其特征在于：固定控制塊均位于旋轉盤邊緣處。
10、與現有技術相比，本專利技術的增益效果為：
11、1、角度調節機構的設置有效解決了現有技術中因為靶材或者基片平整度導致的鍍膜厚度和均勻性不足的問題。
12、2、在第一旋轉機構的作用下，多個基板與靶材固定盤的配合實現了多個基片可同時進行磁控濺射，大大提高了鍍膜效率。
13、3、濺射腔的直徑不小于基板的直徑的設置保證了轟擊的直線運行分子可覆蓋整個基板面積，保證了的均勻性。
14、4、第一升降機構的設置實現在轟擊時將靶材降至基片上方，有效避免了靶材濺射時造成的原子逸散問題，從而可保證鍍層的厚度和均勻性。
15、5、第一定位機構的設置大大方便了對靶材的安裝。
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1.一種改善靶材磁控濺射厚度和均勻性方法的設備；其特征在于：包括真空腔體（1）和連接防護腔（2），連接防護腔（2）固接于真空腔體（1）上方；真空腔體（1）內轉動連接有旋轉盤（11）,真空腔體（1）內設置有與旋轉盤（11）相配合的第一旋轉機構；旋轉盤（11）上固接有多個固定控制塊（10）,固定控制塊（10）上均設置有基板（9）,固定控制塊（10）上均設置有與相對應基板（9）相配合的角度調節機構；真空腔體（1）內設置有靶材固定盤（21）,靶材固定盤（21）位于其中一個基板（9）上方并與其同心對應；靶材固定盤（21）內設置有相配合靶材安裝槽和濺射腔（28）；靶材固定盤（21）上滑動連接有一對與靶材安裝槽相配合的靶材定位塊（22）,靶材定位塊（22）內設置有與靶材固定盤（21）相配合的第一定位機構；連接防護腔（2）內設置有與靶材固定盤（21）相配合的第一升降機構。
2.根據權利要求1所述的改善靶材磁控濺射厚度和均勻性方法的設備，其特征在于：角度調節機構包括固定控制塊（10）內多個同軸轉動連接的第一同軸齒輪（19）,固定控制塊（10）內轉動連接有多個第二主動齒輪（20）,第二主
3.根據權利要求1所述的改善靶材磁控濺射厚度和均勻性方法的設備，其特征在于：第一升降機構包括連接防護腔（2）內轉動連接的第一主動齒輪（8）和第一內齒輪（7）,第一內齒輪（7）與第一主動齒輪（8）相嚙合；連接防護腔（2）內轉動連接有一對第一旋轉小齒輪（6）,第一旋轉小齒輪（6）均與第一內齒輪（7）相嚙合，第一旋轉小齒輪（6）均同軸固接有升降螺柱（5）,連接防護腔（2）內滑動連接有磁控控制器（3）和固定螺套（4）,磁控控制器（3）與固定螺套（4）固接；升降螺柱（5）均與固定螺套（4）相螺接；升降螺柱（5）分別位于磁控控制器（3）兩側呈對稱設置；磁控控制器（3）下方與靶材固定盤（21）固接。
4.根據權利要求1所述的改善靶材磁控濺射厚度和均勻性方法的設備，其特征在于：第一定位機構包括靶材固定盤（21）上滑動連接的定位柱（24）、第一滑動盤（25）和活動拉桿（27），定位柱（24）、第一滑動盤（25）和活動拉桿（27）均同軸固接，定位柱（24）和活動拉桿（27）分別位于第一滑動盤（25）兩側；活動拉桿（27）外套接有復位彈簧（26）,復位彈簧（26）一端與第一滑動盤（25）固接，復位彈簧（26）另一端與靶材定位塊（22）固接；靶材固定盤（21）上設置有與靶材定位塊（22）相配合弧線滑槽；靶材固定盤（21）上設置有與定位柱（24）相配合的定位孔。
5.根據權利要求4所述的改善靶材磁控濺射厚度和均勻性方法的設備，其特征在于：靶材定位塊（22）上均固接有靶材限位塊（23）；靶材限位塊（23）均與相對應的靶材安裝槽相配合；當同一個靶材固定盤（21）上的靶材限位塊（23）與靶材安裝槽側面貼合時，兩個靶材限位塊（23）另一端靶材安裝槽圓心之間的夾角不大于180°。
6.根據權利要求1所述的改善靶材磁控濺射厚度和均勻性方法的設備，其特征在于：濺射腔（28）的直徑不小于基板（9）的直徑。
7.根據權利要求1所述的改善靶材磁控濺射厚度和均勻性方法的設備，其特征在于：第一旋轉機構包括真空腔體（1）內轉動連接的第一旋轉蝸桿（13）和第一旋轉蝸輪（12）,第一旋轉蝸輪（12）與第一旋轉蝸桿（13）相嚙合；第一旋轉蝸輪（12）與旋轉盤（11）同軸固接。
8.根據權利要求1所述的改善靶材磁控濺射厚度和均勻性方法的設備，其特征在于：固定控制塊（10）均位于旋轉盤（11）邊緣處。
...【技術特征摘要】
1.一種改善靶材磁控濺射厚度和均勻性方法的設備；其特征在于：包括真空腔體（1）和連接防護腔（2），連接防護腔（2）固接于真空腔體（1）上方；真空腔體（1）內轉動連接有旋轉盤（11）,真空腔體（1）內設置有與旋轉盤（11）相配合的第一旋轉機構；旋轉盤（11）上固接有多個固定控制塊（10）,固定控制塊（10）上均設置有基板（9）,固定控制塊（10）上均設置有與相對應基板（9）相配合的角度調節機構；真空腔體（1）內設置有靶材固定盤（21）,靶材固定盤（21）位于其中一個基板（9）上方并與其同心對應；靶材固定盤（21）內設置有相配合靶材安裝槽和濺射腔（28）；靶材固定盤（21）上滑動連接有一對與靶材安裝槽相配合的靶材定位塊（22）,靶材定位塊（22）內設置有與靶材固定盤（21）相配合的第一定位機構；連接防護腔（2）內設置有與靶材固定盤（21）相配合的第一升降機構。
2.根據權利要求1所述的改善靶材磁控濺射厚度和均勻性方法的設備，其特征在于：角度調節機構包括固定控制塊（10）內多個同軸轉動連接的第一同軸齒輪（19）,固定控制塊（10）內轉動連接有多個第二主動齒輪（20）,第二主動齒輪（20）分別于相對應的第一同軸齒輪（19）相嚙合；固定控制塊（10）上轉動連接有第一直角連桿（16）、第二直角連桿（17）和第三直角連桿（18），第一直角連桿（16）、第二直角連桿（17）和第三直角連桿（18）分別與相對應的第一同軸齒輪（19）同軸固接；第一直角連桿（16）、第二直角連桿（17）和第三直角連桿（18）上均轉動連接有曲形連桿（15）,基板（9）下方同軸固接有連接固定塊（14）,曲形連桿（15）均與連接固定塊（14）轉動連接。
3.根據權利要求1所述的改善靶材磁控濺射厚度和均勻性方法的設備，其特征在于：第一升降機構包括連接防護腔（2）內轉動連接的第一主動齒輪（8）和第一內齒輪（7）,第一內齒輪（7）與第一主動齒輪（8）相嚙合；連接防護腔（2）內轉動連接有一對第一旋轉小齒輪（6）,第一旋轉小齒輪（6）均與第一內齒輪...
【專利技術屬性】
技術研發人員：劉俊明，梁明敏，趙杰，
申請(專利權)人：芯微半導體南寧有限公司，
類型：發明
國別省市：
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