【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及集成電路行業含銅廢水凈化及資源循環利用，具體涉及一種耐酸萃取劑及其凈化集成電路行業含銅廢水的方法。
技術介紹
1、集成電路行業產生的含銅廢液/廢水具有組分復雜、成分不易控制、物化性質不穩定、各工序濃度差異大的特點，這些因素構成了含銅廢水無害化處理的技術難題。含銅廢液/廢水的來源主要可以追溯到蝕刻、電鍍和清洗工序。在蝕刻和電鍍工序中產生的含銅廢液濃度較高，且伴隨著大量其他類型的污染物。目前，針對這類高濃度含銅廢液的資源化處理，普遍采用的是混凝沉淀技術，但這種方法制備的產品經濟價值較低。清洗工序產生的含銅廢液濃度較低，部分銅離子以穩定的絡合物形式存在，采用中和沉淀技術進行處理，該技術主要側重于使廢水達到排放標準，但會產生大量需要外委處理的危險廢物污泥，難以滿足深度凈化的需求。
2、目前，高濃度含銅廢水的主流富集工藝是萃取法。萃取法因其操作簡單、適用性強，在含重金屬污染水體的修復領域得到了廣泛應用。然而，現有的萃取劑存在一定的局限性，如選擇性較差，難以在多元金屬廢液中實現銅的選擇性萃取，在螯合萃取階段容易導致其他金屬離子共同被萃取。此外，由于高濃度含銅廢水通常具有較高的酸性，易導致萃取劑的有效成分分解，通常需要先調整含銅廢水的ph至堿性，再引入萃取劑，上述工序往往導致大量的銅離子生成氫氧化銅沉淀，導致大量含銅污泥的產生，后續還需對含銅污泥進行外委危廢處理，增加了企業的環保成本。
3、有鑒于此，有必要設計一種改進的耐酸萃取劑及其凈化集成電路行業含銅廢水的方法，以解決上述問題。
1、鑒于
技術介紹
中存在的技術問題，本申請提供了一種耐酸萃取劑及其凈化集成電路行業含銅廢水的方法，旨在解決萃取劑選擇性差、在高酸性含銅廢水中易分解、難以從多元金屬廢液中單獨萃取銅的技術問題。
2、第一方面，本申請提供了一種耐酸萃取劑，其結構通式為：
3、
4、其中，1≤x≤4。
5、第二方面，本申請提供了一種耐酸萃取劑凈化集成電路行業含銅廢水的方法，采用第一方面所述的耐酸萃取劑進行萃取，包括以下步驟：
6、將所述耐酸萃取劑與稀釋劑混合，得到稀釋液；
7、向含銅廢水中加入所述稀釋液，其后，加入ph調節劑，調節溶液ph值至預定范圍，對溶液中的銅進行選擇性萃??；
8、分離有機相，檢測無機液相溶液中銅的濃度，計算所述耐酸萃取劑的萃取率，計算公式為：
9、萃取率(%)=×100%；
10、其中，c0為萃取前含銅廢水中銅的初始濃度；
11、c1為萃取后無機液相溶液中銅的剩余濃度。
12、作為本專利技術的進一步改進，所述含銅廢水中的陰離子為硫酸根陰離子、氯離子、硝酸根陰離子、檸檬酸陰離子、酒石酸陰離子中的一種或多種。
13、作為本專利技術的進一步改進，所述ph調節劑為氫氧化鈉。
14、進一步的，所述ph值的預定范圍為7~14。
15、作為本專利技術的進一步改進，所述稀釋劑為磺化煤油。
16、進一步的，所述耐酸萃取劑與所述磺化煤油的體積比為1：（10~100）。所述含銅廢水與所述稀釋液的體積比為1：（1~2）。
17、作為本專利技術的進一步改進，所述含銅廢水為催化劑廢液、冶金廢液、電子垃圾浸出溶液、光伏組件蝕刻液、廢棄電路板電鍍液中的一種或多種。
18、本專利技術的有益效果是：
19、本專利技術提供的耐酸萃取劑能夠有效地與銅離子結合，通過改變衍生化官能團種類、官能團鏈段長度、分子主鏈結構及其空間位阻的調控，可以實現對銅的高效選擇性萃取。通過采用耐酸萃取劑來處理集成電路行業含銅廢水，回收銅離子，減少了重金屬對環境的污染，符合環保要求。該方法易于操作，能夠適應不同類型的含銅廢水。
20、本專利技術提供的耐酸萃取劑以氨丁三醇為原料，通過其獨特的空間四面體結構和化學活性，與脂肪族二元酸進行酯化反應，通過分子結構的精確調控，實現了對特定金屬離子的選擇性螯合，并通過表面疏水性和ph緩沖能力的設計，提高了在酸性條件下的穩定性。使用時，可直接在酸性環境下加入該萃取劑，隨后在調節含銅廢水ph值的過程中，萃取劑被活化成陰離子，其特殊的分子結構賦予了其優異的競爭絡合化學反應活性，避免銅離子在堿性條件下沉淀形成含銅污泥，最終實現萃取劑對銅的高效選擇性萃取。
21、本專利技術的方法優化了集成電路行業含銅廢水的凈化過程，避免了傳統萃取劑萃取工藝需要先調整含銅廢水的ph至堿性，再引入萃取劑，導致大量的銅離子生成氫氧化銅沉淀，產生大量含銅污泥的問題。
22、上述說明僅是本申請技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本申請的技術手段，而可依照說明書的內容予以實施，并且為了讓本申請的上述和其它目的、特征和優點能夠更明顯易懂，以下特舉本申請的具體實施方式。
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1.一種耐酸萃取劑，其特征在于，所述耐酸萃取劑的結構通式為：
2.一種耐酸萃取劑凈化集成電路行業含銅廢水的方法，采用權利要求1所述的耐酸萃取劑進行萃取，其特征在于，包括以下步驟：
3.根據權利要求2所述的耐酸萃取劑凈化集成電路行業含銅廢水的方法，其特征在于，所述含銅廢水中的陰離子為硫酸根陰離子、氯離子、硝酸根陰離子、檸檬酸陰離子、酒石酸陰離子中的一種或多種。
4.根據權利要求2所述的耐酸萃取劑凈化集成電路行業含銅廢水的方法，其特征在于，所述pH調節劑為氫氧化鈉。
5.根據權利要求4所述的耐酸萃取劑凈化集成電路行業含銅廢水的方法，其特征在于，所述pH值的預定范圍為7~14。
6.根據權利要求2所述的耐酸萃取劑凈化集成電路行業含銅廢水的方法，其特征在于，所述稀釋劑為磺化煤油。
7.根據權利要求6所述的耐酸萃取劑凈化集成電路行業含銅廢水的方法，其特征在于，所述耐酸萃取劑與所述磺化煤油的體積比為1：（10~100）。
8.根據權利要求2所述的耐酸萃取劑凈化集成電路行業含銅廢水的方法，其特征在于，所述含銅廢
9.根據權利要求2所述的耐酸萃取劑凈化集成電路行業含銅廢水的方法，其特征在于，所述含銅廢水為催化劑廢液、冶金廢液、電子垃圾浸出溶液、光伏組件蝕刻液、廢棄電路板電鍍液中的一種或多種。
...【技術特征摘要】
1.一種耐酸萃取劑，其特征在于，所述耐酸萃取劑的結構通式為：
2.一種耐酸萃取劑凈化集成電路行業含銅廢水的方法，采用權利要求1所述的耐酸萃取劑進行萃取，其特征在于，包括以下步驟：
3.根據權利要求2所述的耐酸萃取劑凈化集成電路行業含銅廢水的方法，其特征在于，所述含銅廢水中的陰離子為硫酸根陰離子、氯離子、硝酸根陰離子、檸檬酸陰離子、酒石酸陰離子中的一種或多種。
4.根據權利要求2所述的耐酸萃取劑凈化集成電路行業含銅廢水的方法，其特征在于，所述ph調節劑為氫氧化鈉。
5.根據權利要求4所述的耐酸萃取劑凈化集成電路行業含銅廢水的方法，其特征在于，所述ph值的預定范圍...
【專利技術屬性】
技術研發人員：鄭曄，郝福來，張磊，張晏銘，于鴻賓，陳健龍，楊海鳴，張文博，
申請(專利權)人：長春黃金研究院有限公司，
類型：發明
國別省市：
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