【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于管道清潔，具體的說是一種單晶爐管道清潔裝置。
技術介紹
1、單晶爐管道系統通常包括排氣管道、抽真空裝置（如干泵和軟管）、漏流檢測裝置等組件。排氣管道系統通過將單晶爐內的氣體排出，實現抽真空功能，并且可以通過調節干泵電源頻率來調整抽真空功率，從而提高抽真空的精度和效率。此外，排氣管道上還安裝有溫度報警器，用于監測排氣管內的溫度和硅液漏流情況。
2、單晶爐管道清潔裝置是一種用于清理單晶爐內管道的設備，其主要目的是清除沉積在管道內的揮發物、粉塵和其他雜質，以確保單晶爐的正常運行和提高產品質量。
3、在單晶爐的停爐拆清過程中，氧化物的堆積會堵塞主真空管道與爐底盤連接處的排氣口，影響拉晶過程中的抽空，現有技術通過擺動氣缸進行擺動運動清理氧化物，但是由于清理動作需要伸入爐室內，因此在拉晶過程中，熱場帶來的高溫會對管道清潔裝置帶來損傷，影響其使用壽命，并且現有技術單一的直線運動對于堆積已久的氧化物的清潔不全面，效率低，同時現有技術需要使用較多高溫材料，成本較高。
4、為此，本專利技術提供一種單晶爐管道清潔裝置。
技術實現思路
1、為了彌補現有技術的不足，解決
技術介紹
中所提出的至少一個技術問題。
2、本專利技術解決其技術問題所采用的技術方案是：本專利技術所述的一種單晶爐管道清潔裝置，包括密封環管，所述密封環管固定安裝于管道頂端的正下方，密封環管的底部固定安裝有架板，架板的底端固定安裝有旋轉氣缸，架板的內部轉動連接有伸縮氣缸，旋轉氣缸的輸
3、當管道內氧化物需要清理時，通過驅動伸縮氣缸將除物箱移動到需要清理的管口的正下方，此時驅動除渣機構用于帶動真空抽塵器運作，隨后繼續驅動伸縮氣缸使除物箱繼續上移，上移時環箱頂部的清灰刀對管口內的氧化層進行破碎，當氧化層被破碎時，驅動衡距機構帶動多個碎物盒和清灰刀進行移動，使清灰刀貼合于管口的內壁，同時衡距機構保證多個碎物盒始終置于清灰刀的側下方，使碎物盒與管口保持一定的距離，當兩者調整完成時，驅動旋轉氣缸通過轉位桿帶動除物箱進行轉動，使清灰刀對管口的內壁進行刮動清理，當氧化物受到刮動清理掉落下時，氧化物在真空抽塵器的抽動下便會進入到碎物盒內，碎物盒內的碎物組件對進入到碎物盒內的氧化物進行破碎，最終經過除渣機構排到裝置外部，通過多個清灰刀對管口的內壁進行轉動刮動清理，可加快清潔效率，通過衡距機構使本裝置于管口的內壁始終保持一段距離，可防止拉晶過程中，熱場帶來的高溫會對管道清潔裝置帶來損傷，影響其使用壽命，可極大的保證本裝置的安全性，通過除渣機構將清潔下的氧化物輸送出管道外，可防止氧化物掉落于管道內，造成堆積影響拉晶效果。
4、優選的，衡距機構還包括衡距電機，衡距電機固定安裝于環箱的內壁中間位置，衡距電機的輸出端固定安裝有矩板，矩板的頂部對稱固定安裝有多個圓軸，多個圓軸的外壁均轉動連接有鉸接桿，多個鉸接桿的一端均固定安裝有滑軸，環箱的內壁固定安裝有多個矩盒，多個滑軸分別置于多個矩盒內且多個滑軸的外壁分別與多個矩盒的內壁滑動連接，多個滑軸的兩端均與環箱的內壁滑動連接，多個滑軸的頂部分別與多個碎物盒的底部固定連接，多個碎物盒的底部均與環箱的頂部滑動連接，矩板的外壁分別能夠與多個矩盒的內壁滑動連接，當需要對管口的內壁進行清潔時，通過驅動衡距電機帶動矩板進行轉動，矩板在轉動時帶動鉸接桿進行轉動，從而推動滑軸在矩盒內滑動，滑軸在移動時帶動碎物盒在環箱頂部進行移動，從而帶動清灰刀貼合于管口的內壁，便于后續對管口內的氧化物進行刮除，通過多個清灰刀進行移動調整位置，可使本裝置適用于不同直徑的管口，起到自適應不同尺徑管道的作用。
5、優選的，矩盒的內部對稱固定安裝有校滑板，軸桿的數量有兩個，滑軸的外壁與兩個校滑板的內側滑動連接，兩個校滑板的內壁均滑動連接有推塊，兩個推塊的外壁分別與兩個軸桿的一端固定連接，兩個軸桿的外壁分別與兩個校滑板的內壁滑動連接，兩個推塊的一側與兩個校滑板的內壁之間均設置有復位彈簧，復位彈簧置于軸桿的外部，兩個軸桿的另一端均固定安裝有控機按鈕，當滑軸在矩盒內移動時，通過校滑板的限位，滑軸便會在矩盒內推動推塊移動，當推塊在移動時，推塊帶動軸桿擠壓復位彈簧移動，當軸桿一端的控機按鈕接觸到管道內壁時，控機按鈕控制衡距電機停止驅動，此時，清灰刀貼合于管口的內壁，碎物盒置于清灰刀的側下方，起到調節清灰刀位置的作用。
6、優選的，兩個軸桿的外壁均固定安裝有矩塊，兩個軸桿的另一端外壁均滑動連接有觸位桿，兩個觸位桿的外壁均固定安裝有擠塊，兩個觸位桿的一端與兩個矩塊的一側之間均設置有承壓彈簧，承壓彈簧置于軸桿的外部，當軸桿移動時，軸桿帶動觸位桿移動，當觸位桿接觸到管口內壁時，觸位桿受到反推力，便會擠壓承壓彈簧向反方向移動，當軸桿端面上的控機按鈕接觸到管口內壁時，此時，觸位桿停止移動，防止軸桿暴露于裝置外部，拉晶過程時，熱場帶來的高溫會對軸桿造成損傷，起到保護軸桿的作用。
7、優選的，兩個校滑板的外壁均固定安裝有限滑盒，兩個限滑盒的內壁均滑動連接有卡塊，兩個卡塊的頂端與兩個限滑盒的內壁之間均設置有回塊彈簧，兩個推塊的內壁均對稱開設有槽口，兩個槽口的一端均固定安裝有同位塊，卡塊的外壁分別能夠與兩個槽口的內壁卡接，兩個擠塊分別能夠與兩個同位塊的內側滑動連接，當觸位桿反向移動時，觸位桿帶動擠塊移動，當控機按鈕接觸到管道內壁時，觸位桿停止移動，此時擠塊通過移動擠壓同位塊向外移動，同位塊向外移動時推動卡塊擠壓回塊彈簧在限滑盒內向上移動，從而帶動推塊從校滑板內壁滑出，當推塊完成從校滑板內滑出時，此時推塊便會失去滑軸的限位阻擋力，在復位彈簧彈性力的作用下，推塊便會從校滑板的一端滑向另一端，從而帶動軸桿和觸位桿復位，起到復位軸桿的作用，通過復位調節清灰刀，可使本裝置與管口內壁保持一定的距離，防止高溫對本裝置的侵蝕，提高本裝置的安全性。
8、優選的，滑軸的外壁對稱固定安裝有連接桿，矩盒的內壁對稱轉動連接有齒輪，矩盒的內壁對稱滑動連接有齒桿一和齒桿二，齒輪的齒牙分別能夠與齒桿一和齒桿二上的齒牙嚙合，兩個齒桿二的頂部均固定安裝有復塊體，兩個復塊體的內壁分別能夠與兩個同位塊的外壁滑動連接，當清潔完成時，衡距電機帶動滑軸進行復位，滑軸便會通過連接桿帶動齒桿一移動，齒桿一移動時通過嚙合驅動齒輪轉動從而帶動齒桿二移動，當滑軸移動時，齒桿二移動向本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種單晶爐管道清潔裝置，其特征在于：包括密封環管（1），所述密封環管（1）固定安裝于管道頂端的正下方，密封環管（1）的底部固定安裝有架板（101），架板（101）的底端固定安裝有旋轉氣缸（5），架板（101）的內部轉動連接有伸縮氣缸（3），旋轉氣缸（5）的輸出端與伸縮氣缸（3）的底部固定連接，伸縮氣缸（3）的輸出端固定安裝有轉位桿（4），轉位桿（4）的外壁固定安裝有隔離盤（102），隔離盤（102）的外壁與密封環管（1）的內壁轉動連接，轉位桿（4）的頂部固定安裝有除物箱（2），除物箱（2）的頂部固定安裝有環箱（9），環箱（9）的頂部設置有多個碎物盒（6），多個碎物盒（6）的外部均設置有清灰刀（8），除物箱（2）的內部設置有除渣機構，除渣機構包括真空抽塵器（201），除渣機構用于帶動真空抽塵器（201）將清灰刀（8）清潔下的氧化物進行收集輸送出管道外，環箱（9）的內部設置有衡距機構，衡距機構包括軸桿（76），衡距機構用于帶動軸桿（76）對管道進行衡距測量，使清灰刀（8）貼近管道的同時又使本裝置與管道的管壁保持一定距離，多個碎物盒（6）的內部均設置有碎物組件，碎物組件用于對清灰刀
2.根據權利要求1所述的一種單晶爐管道清潔裝置，其特征在于：衡距機構還包括衡距電機（13），衡距電機（13）固定安裝于環箱（9）的內壁中間位置，衡距電機（13）的輸出端固定安裝有矩板（10），矩板（10）的頂部對稱固定安裝有多個圓軸（15），多個圓軸（15）的外壁均轉動連接有鉸接桿（11），多個鉸接桿（11）的一端均固定安裝有滑軸（12），環箱（9）的內壁固定安裝有多個矩盒（7），多個滑軸（12）分別置于多個矩盒（7）內且多個滑軸（12）的外壁分別與多個矩盒（7）的內壁滑動連接，多個滑軸（12）的兩端均與環箱（9）的內壁滑動連接，多個滑軸（12）的頂部分別與多個碎物盒（6）的底部固定連接，多個碎物盒（6）的底部均與環箱（9）的頂部滑動連接，矩板（10）的外壁分別能夠與多個矩盒（7）的內壁滑動連接。
3.根據權利要求2所述的一種單晶爐管道清潔裝置，其特征在于：矩盒（7）的內部對稱固定安裝有校滑板（73），軸桿（76）的數量有兩個，滑軸（12）的外壁與兩個校滑板（73）的內側滑動連接，兩個校滑板（73）的內壁均滑動連接有推塊（74），兩個推塊（74）的外壁分別與兩個軸桿（76）的一端固定連接，兩個軸桿（76）的外壁分別與兩個校滑板（73）的內壁滑動連接，兩個推塊（74）的一側與兩個校滑板（73）的內壁之間均設置有復位彈簧（7601），復位彈簧（7601）置于軸桿（76）的外部，兩個軸桿（76）的另一端均固定安裝有控機按鈕（77）。
4.根據權利要求3所述的一種單晶爐管道清潔裝置，其特征在于：兩個軸桿（76）的外壁均固定安裝有矩塊（7103），兩個軸桿（76）的另一端外壁均滑動連接有觸位桿（71），兩個觸位桿（71）的外壁均固定安裝有擠塊（7101），兩個觸位桿（71）的一端與兩個矩塊（7103）的一側之間均設置有承壓彈簧（7102），承壓彈簧（7102）置于軸桿（76）的外部。
5.根據權利要求4所述的一種單晶爐管道清潔裝置，其特征在于：兩個校滑板（73）的外壁均固定安裝有限滑盒（7502），兩個限滑盒（7502）的內壁均滑動連接有卡塊（75），兩個卡塊（75）的頂端與兩個限滑盒（7502）的內壁之間均設置有回塊彈簧（7501），兩個推塊（74）的內壁均對稱開設有槽口（7401），兩個槽口（7401）的一端均固定安裝有同位塊（7402），卡塊（75）的外壁分別能夠與兩個槽口（7401）的內壁卡接，兩個擠塊（7101）分別能夠與兩個同位塊（7402）的內側滑動連接。
6.根據權利要求5所述的一種單晶爐管道清潔裝置，其特征在于：滑軸（12）的外壁對稱固定安裝有連接桿（7204），矩盒（7）的內壁對稱轉動連接有齒輪（72），矩盒（7）的內壁對稱滑動連接有齒桿一（7201）和齒桿二（7202），齒輪（72）的齒牙分別能夠與齒桿一（7201）和齒桿二（7202）上的齒牙嚙合，兩個齒桿二（7202）的頂部均固定安裝有復塊體（7203），兩個復塊體（7203）的內壁分別能夠與兩個同位塊（7402）的外壁滑動連接。
7.根據權利要求6所述的一種單晶爐管道清潔裝置，其特征在于：多個碎物盒（6）的外壁均固定安裝有槽塊（802），多個清灰刀（8）的底端分別與多個槽塊（802）的內壁滑動連接，多個清灰刀（8）的底端與多個槽塊（802）的內壁之間均設置有推刀彈簧（803），多個清灰刀（8）的頂部均固定安裝有破灰刀（801）。
8.根據權利要求7所述的一種單晶爐...
【技術特征摘要】
1.一種單晶爐管道清潔裝置，其特征在于：包括密封環管（1），所述密封環管（1）固定安裝于管道頂端的正下方，密封環管（1）的底部固定安裝有架板（101），架板（101）的底端固定安裝有旋轉氣缸（5），架板（101）的內部轉動連接有伸縮氣缸（3），旋轉氣缸（5）的輸出端與伸縮氣缸（3）的底部固定連接，伸縮氣缸（3）的輸出端固定安裝有轉位桿（4），轉位桿（4）的外壁固定安裝有隔離盤（102），隔離盤（102）的外壁與密封環管（1）的內壁轉動連接，轉位桿（4）的頂部固定安裝有除物箱（2），除物箱（2）的頂部固定安裝有環箱（9），環箱（9）的頂部設置有多個碎物盒（6），多個碎物盒（6）的外部均設置有清灰刀（8），除物箱（2）的內部設置有除渣機構，除渣機構包括真空抽塵器（201），除渣機構用于帶動真空抽塵器（201）將清灰刀（8）清潔下的氧化物進行收集輸送出管道外，環箱（9）的內部設置有衡距機構，衡距機構包括軸桿（76），衡距機構用于帶動軸桿（76）對管道進行衡距測量，使清灰刀（8）貼近管道的同時又使本裝置與管道的管壁保持一定距離，多個碎物盒（6）的內部均設置有碎物組件，碎物組件用于對清灰刀（8）清潔下來的氧化物進行破碎。
2.根據權利要求1所述的一種單晶爐管道清潔裝置，其特征在于：衡距機構還包括衡距電機（13），衡距電機（13）固定安裝于環箱（9）的內壁中間位置，衡距電機（13）的輸出端固定安裝有矩板（10），矩板（10）的頂部對稱固定安裝有多個圓軸（15），多個圓軸（15）的外壁均轉動連接有鉸接桿（11），多個鉸接桿（11）的一端均固定安裝有滑軸（12），環箱（9）的內壁固定安裝有多個矩盒（7），多個滑軸（12）分別置于多個矩盒（7）內且多個滑軸（12）的外壁分別與多個矩盒（7）的內壁滑動連接，多個滑軸（12）的兩端均與環箱（9）的內壁滑動連接，多個滑軸（12）的頂部分別與多個碎物盒（6）的底部固定連接，多個碎物盒（6）的底部均與環箱（9）的頂部滑動連接，矩板（10）的外壁分別能夠與多個矩盒（7）的內壁滑動連接。
3.根據權利要求2所述的一種單晶爐管道清潔裝置，其特征在于：矩盒（7）的內部對稱固定安裝有校滑板（73），軸桿（76）的數量有兩個，滑軸（12）的外壁與兩個校滑板（73）的內側滑動連接，兩個校滑板（73）的內壁均滑動連接有推塊（74），兩個推塊（74）的外壁分別與兩個軸桿（76）的一端固定連接，兩個軸桿（76）的外壁分別與兩個校滑板（73）的內壁滑動連接，兩個推塊（74）的一側與兩個校滑板（73）的內壁之間均設置有復位彈簧（7601），復位彈簧（7601）置于軸桿（76）的外部，兩個軸桿（76）的另一端均固定安裝有控機按鈕（77）。
4.根據權利要求3所述的一種單晶爐管道清潔裝置，其特征在于：兩個軸桿（76）的外壁均固定安裝有矩塊（7103），兩個軸桿（76）的另一端外壁均滑動連接有觸位桿（71），兩個觸位桿（71）的外壁均固定安裝有擠塊（7101），兩個觸位桿（71）的一端與兩個矩塊（7103）的一側之間均設置有承壓彈簧（7102），承壓彈簧（7102）置于軸桿（76）的外部。
5.根據權利要求4所述的一種單晶...
【專利技術屬性】
技術研發人員：曹玉寶，薛金鑫，李鋒偉，江佳飛，華洪濤，王嘉，田宇，
申請(專利權)人：連城凱克斯科技有限公司，
類型：發明
國別省市：
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