【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及地下水修復，具體涉及一種電鍍工業園區地下水污染修復設備及方法。
技術介紹
1、鉻污染主要來源于鉻鹽生產、電鍍、制革等工業廢水及固體廢棄物的排放，開展地下水cr(ⅵ)污染修復具有重要的實際意義。
2、可滲透反應格柵（prb）技術是興起于20世紀90年代的地下水污染原位修復技術。該技術綜合有物理、化學、生物三種修復機理，污染物通過與反應介質發生吸附、沉淀、過濾、生物降解等作用而從地下水中去除。
3、現有技術中，prb系統多采用一體式結構，施工難度較大，后期維護不便；由于prb在置入地下以后，上層用土等墊層覆蓋，當需要對prb系統內部填充的反應介質進行更換時，需要將prb系統重新挖出，費工費力；而且，由于prb系統厚度固定不變，當地下水中cr(ⅵ)較高時，就會影響prb系統的修復效果。
技術實現思路
1、針對上述存在的技術問題，本專利技術提供了一種電鍍工業園區地下水污染修復設備及方法。
2、本專利技術的技術方案為：一種電鍍工業園區地下水污染修復設備，包括滲透墻、設置在滲透墻底端的基座、傾斜設置在滲透墻兩側且與基座連接的擋水墻和上下并列設置在滲透墻內部的數個反應箱，兩個擋水墻與滲透墻之間形成鈍角；滲透墻內部前后兩側均設置有第一腔體，滲透墻內部且位于兩個第一腔體之間設置有第二腔體；兩個第一腔體均能夠與第二腔體導通；滲透墻左右兩側均設置有第一插接槽，底端設置有第二插接槽；滲透墻頂端設置有蓋板；
3、基座上端面中心位置處設置有能夠與第
4、兩個擋水墻分別通過第二插塊與兩個第一插接槽一一對應活動插接，且兩個擋水墻上均設置有能夠與定位桿一一對應活動卡接的定位孔；
5、反應箱活動卡接在第二腔體內部，反應箱靠近兩個第一腔體的側壁的靠上位置處均設置有進水通道，反應箱內部填充有反應介質，反應箱頂端設置有密封蓋。
6、進一步地，滲透墻前側的第一腔體和第二腔體之間設置有調節槽，調節槽內部滑動卡接有流量調節板；流量調節板上等距分布有數個調節孔；調節槽與第二腔體連接處等距分布有數個能夠分別與各個調節孔一一對應導通的過流孔；滲透墻內部設置有與流量調節板連接的液壓推桿；
7、說明：使用時，根據地下水中污染物的濃度，利用液壓推桿推動流量調節板在調節槽內部上下移動，使得調節孔與過流孔相互交錯，能夠對進入反應箱內部的地下水的流量進行調節，有利于提高污染地下水的修復效果。
8、進一步地，滲透墻后側的第一腔體內部設置有貫穿蓋板的水樣采集管，水樣采集管內部等距分布有數個采樣腔，水樣采集管外側壁上設置有分別與各個采樣腔一一對應導通的采樣孔，水樣采集管內部設置有分別與各個采樣腔一一對應連通的抽吸管；
9、說明：通過設置水樣采集管，便于實時采集修復后的地下水樣；通過在水樣采集管內部設置多個不同高度的采樣腔，便于檢測不同深度地下水的修復結果。
10、進一步地，各個反應箱的外側壁兩側均設置有能夠與第二腔體的內壁滑動卡接的擋水板；反應箱底端設置有環形卡槽，密封蓋上設置有能夠與相鄰的反應箱底端的環形卡槽活動卡接的環形凸起；
11、說明：通過設置多個反應箱，不僅能夠提高設備在安裝過程中的便利性，同時也能夠避免地下水集中于反應箱某一位置而流出，提高了設備的使用可靠性。
12、進一步地，各個反應箱內部均等距分布有數個折流板，各個折流板與反應箱的頂部或底部固定連接，且各個折流板在反應箱內部上下交錯分布；
13、說明：通過在反應箱內部設置折流板，地下水通過反應箱前端的進水通道進入反應箱內部后，依次通過各個折流板，從反應箱后端的進水通道流出，有利于延長地下水與反應介質的接觸時間，從而有利于提高污染地下水的修復效率。
14、進一步地，第二腔體內部活動套設有內套，各個反應箱均活動卡接在內套內部；內套頂端設置有沉孔，沉孔內部設置有吊耳；
15、說明：通過在第二腔體內部設置內套，便于對反應箱內部填充的反應介質進行更換，從而能夠有效延長設備的使用壽命，降低了地下水修復成本。
16、進一步地，進水通道上設置有阻隔網；
17、說明：通過在進水通道上設置阻隔網，能夠避免地下水中攜帶的雜質堵塞進入反應箱內部而影響含鉻污水與反應介質的接觸效率。
18、進一步地，反應箱采用可降解材料制成，例如pbat材料；
19、說明：使用由可降解材料制備而成的反應箱，能夠避免設備使用過程中對土壤以及地下水造成二次污染。
20、本專利技術還提供了一種電鍍工業園區地下水污染修復方法，基于上述的一種電鍍工業園區地下水污染修復設備，包括以下步驟：
21、s1、根據地下水中污染物的濃度以及深度，確定設備的安裝位置；然后開挖設備安裝基坑；
22、s2、將基座置入安裝基坑內底部，然后將滲透墻通過其底端的第二插接槽與基座上的第一插塊插接固定；將兩個擋水墻分別通過其側壁上的第二插塊與滲透墻兩側的第一插接槽活動卡接；此時兩個擋水墻分別插接在基座兩側的定位桿上；
23、s3、分別向兩個第一腔體內部裝填粒徑為30~45mm的碎石顆粒，分別向各個反應箱內部裝入反應介質，并將各個反應箱依次置入第二腔體內部，此時相鄰兩個反應箱之間的環形卡槽和環形凸起相互卡接，最后將蓋板卡接在滲透墻頂端；其中，反應介質采用粒徑為15~55nm的納米零價鐵；
24、s4、污染地下水在擋水墻的作用下流向滲透墻，首先通過滲透墻前側的第一腔體，然后通過各個反應箱前端的進水通道進入反應箱內部，并與納米零價鐵接觸，利用納米零價鐵對地下水中的重金屬鉻進行吸附并發生化學反應，將六價鉻還原成毒性更低的三價鉻，修復后的地下水通過反應箱后端的進水通道流出，最終通過滲透墻后側的第一腔體排出。
25、與現有技術相比，本專利技術的有益效果體現在以下幾點：
26、第一、本專利技術的設備結構設計合理，通過設置能夠靈活組裝的滲透墻、基座、擋水墻和反應箱，降低了設備的安裝難度，提高了設備安裝時的便利性；
27、第二、本專利技術的設備通過在滲透墻內部設置不同的腔體，在兩個第一腔體內部裝填具有緩沖作用的碎石顆粒，利用碎石顆粒能夠減緩地下水流動時對第二腔體內部的反應箱的沖擊作用，提高反應箱的使用可靠性；
28、第三、本專利技術通過在滲透墻內部設置多個不同高度的反應箱，有利于延長地下水在反應箱內部的停留時間，提高污染地下水與納米零價鐵的接觸效率，從而提高了污染地下水中重金屬鉻的去處效果。
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1.一種電鍍工業園區地下水污染修復設備，其特征在于，包括滲透墻（1）、設置在所述滲透墻（1）底端的基座（2）、傾斜設置在滲透墻（1）兩側且與所述基座（2）連接的擋水墻（3）和上下并列設置在所述滲透墻（1）內部的數個反應箱（4），兩個所述擋水墻（3）與滲透墻（1）之間形成鈍角；所述滲透墻（1）內部前后兩側均設置有第一腔體（10），滲透墻（1）內部且位于兩個所述第一腔體（10）之間設置有第二腔體（11）；兩個所述第一腔體（10）均能夠與所述第二腔體（11）導通；滲透墻（1）左右兩側均設置有第一插接槽（12），底端設置有第二插接槽（13）；滲透墻（1）頂端設置有蓋板（14）；
2.根據權利要求1所述的一種電鍍工業園區地下水污染修復設備，其特征在于，所述滲透墻（1）前側的第一腔體（10）和第二腔體（11）之間設置有調節槽（15），所述調節槽（15）內部滑動卡接有流量調節板（5）；所述流量調節板（5）上等距分布有數個調節孔（50）；所述調節槽（15）與第二腔體（11）連接處等距分布有數個能夠分別與各個所述調節孔（50）一一對應導通的過流孔（51）；滲透墻（1）內部設置有與所述流
3.根據權利要求1所述的一種電鍍工業園區地下水污染修復設備，其特征在于，所述滲透墻（1）后側的第一腔體（10）內部設置有貫穿所述蓋板（14）的水樣采集管（6），所述水樣采集管（6）內部等距分布有數個采樣腔（60），水樣采集管（6）外側壁上設置有分別與各個所述采樣腔（60）一一對應導通的采樣孔（61），水樣采集管（6）內部設置有分別與各個所述采樣腔（60）一一對應連通的抽吸管（62）。
4.根據權利要求1所述的一種電鍍工業園區地下水污染修復設備，其特征在于，各個所述反應箱（4）的外側壁兩側均設置有能夠與第二腔體（11）的內壁滑動卡接的擋水板（42）；反應箱（4）底端設置有環形卡槽（43），所述密封蓋（41）上設置有能夠與相鄰的反應箱（4）底端的環形卡槽（43）活動卡接的環形凸起（44）。
5.根據權利要求4所述的一種電鍍工業園區地下水污染修復設備，其特征在于，各個所述反應箱（4）內部均等距分布有數個折流板（45），各個所述折流板（45）與反應箱（4）的頂部或底部固定連接，且各個折流板（45）在反應箱（4）內部上下交錯分布。
6.根據權利要求4所述的一種電鍍工業園區地下水污染修復設備，其特征在于，所述第二腔體（11）內部活動套設有內套（16），各個反應箱（4）均活動卡接在所述內套（16）內部；所述內套（16）頂端設置有沉孔（160），所述沉孔（160）內部設置有吊耳（161）。
7.根據權利要求1所述的一種電鍍工業園區地下水污染修復設備，其特征在于，所述進水通道（40）上設置有阻隔網（400）。
8.根據權利要求1所述的一種電鍍工業園區地下水污染修復設備，其特征在于，所述反應箱（4）采用可降解材料制成。
9.一種電鍍工業園區地下水污染修復方法，基于權利要求5所述的一種電鍍工業園區地下水污染修復設備，其特征在于，包括以下步驟：
...【技術特征摘要】
1.一種電鍍工業園區地下水污染修復設備，其特征在于，包括滲透墻（1）、設置在所述滲透墻（1）底端的基座（2）、傾斜設置在滲透墻（1）兩側且與所述基座（2）連接的擋水墻（3）和上下并列設置在所述滲透墻（1）內部的數個反應箱（4），兩個所述擋水墻（3）與滲透墻（1）之間形成鈍角；所述滲透墻（1）內部前后兩側均設置有第一腔體（10），滲透墻（1）內部且位于兩個所述第一腔體（10）之間設置有第二腔體（11）；兩個所述第一腔體（10）均能夠與所述第二腔體（11）導通；滲透墻（1）左右兩側均設置有第一插接槽（12），底端設置有第二插接槽（13）；滲透墻（1）頂端設置有蓋板（14）；
2.根據權利要求1所述的一種電鍍工業園區地下水污染修復設備，其特征在于，所述滲透墻（1）前側的第一腔體（10）和第二腔體（11）之間設置有調節槽（15），所述調節槽（15）內部滑動卡接有流量調節板（5）；所述流量調節板（5）上等距分布有數個調節孔（50）；所述調節槽（15）與第二腔體（11）連接處等距分布有數個能夠分別與各個所述調節孔（50）一一對應導通的過流孔（51）；滲透墻（1）內部設置有與所述流量調節板（5）連接的液壓推桿（52）。
3.根據權利要求1所述的一種電鍍工業園區地下水污染修復設備，其特征在于，所述滲透墻（1）后側的第一腔體（10）內部設置有貫穿所述蓋板（14）的水樣采集管（6），所述水樣采集管（6）內部等距分布有數個采樣腔（60），水樣采集管（6）外側壁上設置有分別與各個所述采樣腔（60）一一對應導通的...
【專利技術屬性】
技術研發人員：華晶，柳廣霞，趙遠超，鄧紹坡，張勝田，李梅，
申請(專利權)人：生態環境部南京環境科學研究所，
類型：發明
國別省市：
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